搜索到386篇“ 椭偏法“的相关文章
- 双补偿器后焦面快照椭偏法纳米薄膜测量技术研究
- 杨俊
- 一种基于椭偏法的薄膜参数反向优化方法
- 本发明公开了一种基于椭偏法的薄膜参数反向优化方法，包括有S1清洁待测薄膜样品；S2将待测薄膜样品进行区域划分，选取中部区域网格以及其四侧邻近的区域网格为测量区域，对各测量区域进行十字点位测量，得到各测量区域的偏振角参数和...
- 魏以婧项剑郑新王丽荣石澎吴文森梁怡婷潘旭辉
- 基于椭偏法对薄膜器件参数测量及反向优化研究
- 2023年
- 传统薄膜器件通常使用物理气相沉积法进行开发及镀制,难以实现薄膜镀制与设计的一致性,导致薄膜器件镀制及研发与设计不符。为此,文章基于椭偏法对薄膜器件进行测量及反向优化进行研究,建立薄膜参数测量及反向优化模型,使用椭偏仪对研发镀制的Ag金属薄膜器件进行网格划分测量区域及模型优化;使用模型将介电常数的实部虚部进行拟合,测得材料的介电常数求出材料的折射率和消光系数;最后,拟合膜层厚度为20.226nm,测得薄膜参数厚度、折射率n和消光系数k数据与镀制薄膜数据进行对比,厚度相差3.562nm,镀制与测量值具有一定差异,测得折射率和消光系数数据与传统方式相比更合理和精准。
- 魏以婧石澎王丽荣卢志坚梁怡婷
- 关键词：椭偏法网格
- 基于光谱干涉椭偏法的薄膜厚度测量被引量：4
- 2023年
- 薄膜厚度的测量在芯片制造和集成电路等领域中发挥着重要作用。椭偏法具备高测量精度的优点,利用宽谱测量方式可得到全光谱的椭偏参数,实现纳米级薄膜的厚度测量。为解决半导体领域常见的透明硅基底上薄膜厚度测量的问题并消除硅层的叠加信号,本文通过偏振分离式光谱干涉椭偏系统,搭建马赫曾德实验光路,实现了近红外波段硅基底上膜厚的测量,以100 nm厚度的二氧化硅薄膜为样品,实现了纳米级的测量精度。本文所提出的测量方法适用于透明或非透明基底的薄膜厚度测量,避免了检测过程的矫正步骤或光源更换,可应用于化学气相沉积、分子束外延等薄膜制备工艺和技术的成品的高精度检测。
- 张金旭陈家扬吴冠豪
- 铬金属薄膜的椭偏法研究被引量：1
- 2022年
- 为获得铬(Cr)金属薄膜的光学常数,文章采用武汉颐光科技公司生产的SE-VM-L型宽光谱全穆勒矩阵椭偏仪,测量和分析了用光控自动真空镀膜机沉积在石英玻璃上得到的单层Cr金属薄膜,得到了Cr金属薄膜在200~1 700 nm宽谱上的光学常数曲线和薄膜厚度。根据Cr金属的薄膜特性及成膜特点,采用“基底/空气”模型进行拟合,建模时采用Cauchy模型和Gaussion模型,对建立的各种模型测量得到的数据进行了分析和比较。结果表明,对于厚度较薄的金属样品来说,椭偏仪无法同时解偶样品薄膜折射率N、消光系数K和样品薄膜厚度d;模拟较薄Cr纯金属薄膜时,需要导入样品的透过率T,通过拟合得到均方差为2.3,测量得到较合理的Cr金属薄膜的厚度为23.77 nm。该研究结果对Cr金属薄膜膜层设计和制备有参考价值。
- 魏以婧石澎张鸿佳胡梓杰曾嘉琳卢志坚
- 关键词：光学常数椭偏法
- 椭偏法测量拓扑绝缘体的复折射率被引量：1
- 2021年
- 采用椭偏法测量了拓扑绝缘体Bi 2Te 3单晶的复折射率.运用经典的德鲁德和托克-洛伦兹模型分别对拓扑绝缘体的表面态和体态进行拟合,获得了其折射率和消光系数,并且分析了色散曲线的变化规律.实验结果表明:Bi 2Te 3拓扑绝缘体的体态具有类半导体特性(含带隙),折射率在近红外波段可达7以上;表面态具有类金属特性,厚度约为2.52 nm.
- 陆华李扬武岳增记曾为
- 关键词：椭偏法拓扑绝缘体复折射率消光系数
- 单波长椭偏法测量各向异性晶体光学参数的研究被引量：1
- 2020年
- 采用单波长反射式椭偏仪以及多次旋转样品的方法,实现了光轴平行于表面的各向异性晶体光学参数的测量。分析了单波长椭偏法测量各向异性晶体光学参数的原理,改进了模拟退火单纯形联合反演算法,利用数值模拟讨论了光入射角、样品光轴取向、旋转角度及其定位误差对测量结果的影响。实验结果表明,该方法测量晶体的主折射率、吸收系数及光轴方位角的精度分别为0.0001~0.0003、0.000001~0.000400、0.02°~0.40°,具有较好的自洽性和准确性。
- 汪娟冀丽娜白芸黄佐华
- 关键词：椭偏法各向异性材料光学参数晶体
- K9玻璃基底的宽光谱特性椭偏法研究
- 2019年
- 为了获得K9玻璃基底的光学常数,采用德国SENTECH生产的SE850宽光谱反射式光谱型椭偏仪,测量和分析了K9玻璃基底,得到了K9玻璃在380nm～2300nm宽光谱上的光学常数曲线。分别测量了在入射角为60o、65o和70o下的椭偏曲线,采用最简单的"基底/空气"模型进行拟合,选用最适合描述非晶半导体的Tauc-Lorentz色散公式对于K9玻璃进行模型拟合,在入射角为70o时得到最小的均方差(MSE),同时获得K9玻璃在380nm～2400nm光谱范围内的折射率曲线。
- 唐帆斌
- 关键词：椭偏仪折射率
- 用椭偏法研究Al2O3薄膜的宽光谱特性
- 2019年
- 为了获得Al2O3薄膜的光学常数,采用德国SENTECH生产的SE850宽光谱反射式光谱型椭偏仪,测量和分析了用光控自动真空镀膜机沉积在K9玻璃基底上的Al2O3薄膜样品,得到了Al2O3薄膜在380nm^2300nm宽光谱上的光学常数曲线和薄膜厚度。结果表明:在建立单层模型、双层模型、单层加粗糙层模型三个模型后,分别采用了Cauchy模型和Tauc-Lorentz模型对薄膜进行测量,三个模型得到的厚度和光学常数结果基本一致,且与TFCalc软件的Al2O3薄膜的厚度计算值非常接近。不同模型下的光学薄膜的测量结果相近,说明该工艺条下镀制的光学薄膜厚度均匀,性能稳定,同时得到薄膜的折射率曲线。测量结果对Al2O3薄膜的膜系设计和多层膜的制备有一定参考价值。
- 唐帆斌
- 关键词：AL2O3薄膜椭偏仪薄膜厚度光学常数
- 椭偏法测量光学材料色散的技术研究
- 椭圆偏振技术广泛应用于材料分析、光学制造等研究领域。为了实现生产线上光学材料折射率的快速检测,本课题采用椭偏法进行了前期的研究。课题研究了材料在可见光波段的色散。采用椭偏法中入射光与反射光之间偏振状态测量光学材料折射率,...
- 武月月
- 关键词：色散测量椭偏法折射率光学材料
- 文献传递
相关作者
- 严一心
- 作品数：91被引量：167H指数：8
- 供职机构：西安工业大学
- 研究主题：类金刚石薄膜 离子源 离子镀 离子束 离子能量
- 王党社
- 作品数：29被引量：66H指数：5
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- 梁海锋
- 作品数：144被引量：143H指数：7
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- 刘林华
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- 研究主题：辐射换热 数值模拟 内辐射 光学常数 锅炉
- 黄佐华
- 作品数：664被引量：1,667H指数：21
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