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一种版图设计系统及设计方法
本发明提供了一种版图设计系统及设计方法，版图设计系统包括：数据库，数据库中存储参考版图和至少一个待替换版图，其中参考版图具有第一测试对象，待替换版图具有第二测试对象，第一测试对象和第二测试对象为设计版图的同一功能模块；对...
张继鹏管克豪操小莉来少闯鲁梅
一种PCELL版图设计优化方法、装置、介质及设备
本发明提供了一种PCELL版图设计优化方法、装置、介质及设备，应用于芯片设计技术领域。通过获取包含工艺参数和图形可调参数的PCELL，进行灵活的版图绘制，从而获得当前PCELL的版图结构参数。利用这些参数构建三维器件仿真...
陈岚陆仁杰刘晨光付晓东孙旺
版图设计方法、系统及设备、电路版图以及存储介质
提供一种版图设计方法、系统及设备、电路版图以及存储介质。版图设计方法包括：记录电路中的晶体管的特性参数，特性参数包括晶体管的类型、传输至晶体管各极的信号以及晶体管的单位器件宽度；根据晶体管的单位器件宽度对晶体管进行分组；...
蔡宇韬
抗辐照标准单元库版图设计方法、装置和设备
为了克服现有技术中存在的版图设计耗时长、周期长、效率低以及成本高的问题，本发明提出一种抗辐照标准单元库版图设计方法、装置和设备。所述设计方法通过获取原始工艺和目标工艺商用库的设计规则文件，生成版图工艺移植规则，结合目标工...
赖善坤刘祥远刘晔祁勇房盼攀刘冰媚
抗辐照标准单元库版图设计方法、装置和设备
为了克服现有技术中存在的版图设计耗时长、周期长、效率低以及成本高的问题，本发明提出一种抗辐照标准单元库版图设计方法、装置和设备。所述设计方法通过获取原始工艺和目标工艺商用库的设计规则文件，生成版图工艺移植规则，结合目标工...
赖善坤刘祥远刘晔祁勇房盼攀刘冰媚
一种半导体检测版图、版图设计方法及版图设计系统
本发明提供了一种半导体检测版图、版图设计方法及版图设计系统，半导体检测版图设置在晶圆上，且半导体检测版图位于晶圆的切割道中，其中半导体检测版图包括：多个半导体功能层，多个半导体功能层堆叠在晶圆上，形成堆叠结构；阻抗布线或...
胡迎宾郭廷晃林智伟
一种多工艺版图设计中的工艺层设置及显示方法
一种多工艺版图设计中的工艺层设置及显示方法，包括以下步骤：获取多工艺芯片中的工艺层信息；在工艺层名称前添加其所属的芯片名称；将所述多工艺芯片中的工艺层统一集中显示到工艺层设置窗口中；在所述工艺层设置窗口中修改各工艺层的颜...
张建军洪姬铃张茂丰李京李起宏朱明阳蔡超
一种处理新增金属层次和替换金属层次的版图设计方法
本发明的目的是提供一种处理新增金属层次和替换金属层次的版图设计方法，该方法包括：获取工艺切换需求；根据所述工艺切换需求设置版图参数；运行验证流程验证版图可行性。本发明能够将各种可能出现的情况考虑在一起，一次性进行工艺的替...
徐璇张瑞东刘德启
一种MOS器件版图设计方法、MOS器件版图及MOS器件
本申请公开了一种MOS器件版图设计方法、MOS器件版图及MOS器件，所述设计方法包括：调用多个第一版图；将所述多个第一版图中的一个或多个转换为第二版图；其中，所述第一版图与所述第二版图为构成MOS器件的版图。本申请通过在...
马琦赟雷郎成高炜祺詹勇王忠焰杜宇彬胡永菲刘林果文荟麟
基于ESD和Latch UP的芯片版图设计优化技术
2025年
基于ESD和Latch UP两种导致芯片失效的主要原因,探究了芯片版图设计优化技术。选择栅极接地NMOS管作为保护器件,通过加大栅极接地NMOS管面积,增加栅端到漏端的距离以及利用Salicide工艺降低栅极电阻和漏极电阻等措施,降低静电泄放电流对芯片的影响。增加NMOS和PMOS间隔距离,添加保护环以及设置独立双阱保护等措施,抑制闩锁形成,实现保护芯片的目的。
吴美芳
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陈岚
作品数：911被引量：176H指数：5
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：版图 电路 研磨 集成电路版图 CMP
张波
作品数：4,983被引量：7,060H指数：42
供职机构：电子科技大学
研究主题：功率半导体器件 半导体功率器件 电能传输系统 无线 导电类型
韩晓霞
作品数：47被引量：15H指数：2
供职机构：浙江大学
研究主题：反向器 版图设计 手势 开关电容积分器 调制器
阮文彪
作品数：27被引量：0H指数：0
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：冗余 版图 集成电路版图 金属 版图设计
李志刚
作品数：85被引量：35H指数：4
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：金属 冗余 淀积 集成电路版图 版图设计