搜索到34911篇“ 磁控溅射“的相关文章
全部数字资源类型
相关度排序
磁控溅射系统
本申请涉及一种磁控溅射系统。包括：第一阴极板和第二阴极板，第一阴极板和第二阴极板之间的夹角为预设度数，第一阴极板的中轴线和第二阴极板的中轴线的交点为待镀基板的圆心，第一阴极板和第二阴极板分别与待镀基板的圆心的距离相等；设...
杨恺林海天李立升刘贵
磁控溅射装置
本申请涉及一种磁控溅射装置，所述磁控溅射装置包括：磁控溅射室；阴极板，竖直设置在所述磁控溅射室内；阳极板，竖直设置在所述磁控溅射室内，并与所述阴极板相对设置；基片框，所述基片框开口设置，所述开口用于容纳待沉积的基片，所述...
刘志锋余竹云朱玉娟李钡纪桂平金雪虎
一种磁控溅射靶材
本实用新型提供一种磁控溅射靶材，包括靶体、凹槽、中心台、背板、定位圈以及凸台，背板上侧设置有凸台，凸台上侧设置有靶体，靶体下端面边缘部位设置有定位圈，靶体上端面内部开设有凹槽，凹槽中心部位设置有中心台，靶体下端面设置有定...
高庆
多面磁控溅射装置
本实用新型公开了一种多面磁控溅射装置，包括真空室，真空室内设置有用于放置工件的转盘和若干个用于放置靶材的磁控溅射靶，真空室外部还设置有公转电机，转盘通过输出轴与所述公转电机连接；所述磁控溅射靶包括相对转盘设置于真空室上方...
戴建新戴科晨
磁控溅射靶冷却系统
本发明提供一种磁控溅射靶冷却系统，磁控溅射靶包括靶材和磁体，磁控溅射靶冷却系统包括冷头和储液箱，冷头包括均温板，均温板设于靶材和磁体之间，均温板设有顶部具有开口的腔体，腔体具有进口和出口，储液箱用于盛放金属流体，进口和出...
乔梦文田利丰崔云涛刘静
多功能磁控溅射设备
本发明提供一种多功能磁控溅射设备，包括溅射腔室及磁控溅射组件，所述磁控溅射组件包括转轴、连接件、第一磁铁阵列、第二磁铁阵列及第三磁铁阵列，各磁铁阵列通过连接件与转轴连接，且均可绕转轴旋转，第一磁铁阵列和第二磁铁阵列为非封...
周云睢智峰陈金良宋维聪
一种磁控溅射镀膜设备
本发明提供了一种磁控溅射镀膜设备，涉及半导体加工装置技术领域。至少包括一个真空进样腔室、一个真空镀膜腔室和样品真空传输通道；所述样品真空传输通道连接所述真空进样腔室与所述真空镀膜腔室，以将所述真空进样腔室内的样品传送至所...
明自强赵茂生雷志佳
磁控溅射磁场检测工装
本实用新型涉及磁控溅射技术领域，尤其涉及一种磁控溅射磁场检测工装。该磁控溅射磁场检测工装包括夹紧组件、活动组件和高斯计，夹紧组件的端部与活动组件铰接，夹紧组件被配置为夹紧冷却水管，活动组件呈弧形设置，活动组件所在圆的圆心...
孙健博杨肸曦彭孝龙周振国
一种磁控溅射镀膜设备
本发明涉及钞券印版表面镀耐磨涂层技术领域，提供了一种磁控溅射镀膜设备，至少包括：本体，本体具有用于镀膜的镀膜腔；高能脉冲磁控溅射靶，设置在镀膜腔内；中频磁控溅射靶，设置在镀膜腔内。该磁控溅射镀膜设备，镀膜时，利用高能脉冲...
冉军武近冬李丰郑鑫赵金源
一种磁控溅射镀膜装置
本实用新型涉及薄膜制备技术领域，尤其是一种磁控溅射镀膜装置，包括镀膜舱、磁控溅射单元、工件驱动系统以及工件放置板，其特征在于，所述磁控溅射单元包括至少两个水平安装的磁控溅射单元和至少两个倾斜安装的磁控溅射单元，所述磁控溅...
刘阳
加载更多 ∨

相关作者

汪爱英
作品数：389被引量：390H指数：11
供职机构：中国科学院宁波材料技术与工程研究所宁波材料技术与工程研究所
研究主题：涂层 高功率脉冲 非晶碳 类金刚石薄膜 过渡层
蒋百灵
作品数：360被引量：2,431H指数：29
供职机构：西安理工大学材料科学与工程学院
研究主题：微弧氧化 镁合金 磁控溅射 耐蚀性 微观结构
叶志镇
作品数：719被引量：1,143H指数：18
供职机构：浙江大学
研究主题：ZNO 脉冲激光沉积法 ZNO薄膜 晶体薄膜 脉冲激光沉积
庄大明
作品数：207被引量：751H指数：16
供职机构：清华大学
研究主题：磁控溅射 太阳能电池 铜铟镓硒 CIGS 靶材
张俊彦
作品数：421被引量：574H指数：12
供职机构：中国科学院兰州化学物理研究所
研究主题：摩擦学性能 摩擦学 富勒烯 石墨烯 性能研究