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离子束刻蚀被引量:16
1999年
介绍了几种常用的干法刻蚀技术的机理,重点介绍了离子束刻蚀的基本原理,给出了55种不同材料在500eV能量1mA/cm2流密度条件下的刻蚀速率,并给出了刻蚀速率随流能量和流密度增加而增加的试验结果和实际图形刻蚀的扫描电镜分析结果,对有关问题进行了讨论。
赵丽华周名辉王书明李锦标霍彩虹周晓黎
关键词:离子束刻蚀干法刻蚀半导体器件
离子束刻蚀方法
本发明公开的离子束刻蚀方法包括:提供离子束刻蚀机,所述离子束刻蚀机包括用于提供离子束离子源以及用于支撑半导体材料的支撑台;将半导体材料定位于所述支撑台上;以及控制所述离子束以0‑45°的入射角度对所述半导体材料进行刻蚀...
胡咏兵
离子束刻蚀机及其下电极结构
本发明公开了一种离子束刻蚀机及其下电极结构,该下电极结构包括电极板、压环机构和升降机构,所述压环机构用于支撑待刻蚀件,所述升降机构用于驱动所述压环机构相对所述电极板升降;还包括位置检测机构,所述位置检测机构用于检测所述压...
张怀东张瑶瑶胡冬冬杨超全程实然于翔石小丽许开东
一种具有终点检测功能的离子束刻蚀系统
本发明公开了一种具有终点检测功能的离子束刻蚀系统,离子束刻蚀系统包括载台和聚焦环;载台包括晶圆承载面、厂务连接板和载台座,聚焦环包括固定部、环体和台阶部,环体通过固定部固定于载台上,台阶部下表面与环体外径相连,台阶部上表...
李雪冬刘海洋刘小波朱小庆许开东陈璐
一种用于离子束刻蚀冷却半导体制冷片
本实用新型涉及离子束刻蚀技术领域,提出了一种用于离子束刻蚀冷却半导体制冷片,包括:制冷片,制冷片设有两组,其特征在于,还包括:制冷箱、工作台、隔板、散热机构、扩散机构和缓冲机构,制冷箱上开设有散热口和操作口,工作台固定连...
王德新
一种用于离子束刻蚀晶圆的冷却装置
本实用新型提供一种用于离子束刻蚀晶圆的冷却装置,包括载台、在载台上放置用于固定晶圆的治具、以及在所述载台上设置的用于固定所述治具的固定机构。本实用新型通过载台上的固定机构对治具进行固定,接着可通过外部的氦气供应系统,往载...
涂亮亮丁建峰王祥牛琳
一种在线离子束刻蚀修正窄带滤光片的方法
本发明涉及一种在线离子束刻蚀修正窄带滤光片的方法,属于光通讯技术领域。本发明通过在线离子束刻蚀,实现了膜层过厚误差的修正,使膜厚监控信号退回到误差发生前,实现了误差的修正,降低了产品的报废率,提高了监控的成品率,降低了滤...
马孜李斌李世杰童静姚德武
一种用于超导器件超低温离子束刻蚀工作台
本实用新型涉及刻蚀工作台技术领域,具体涉及一种用于超导器件超低温离子束刻蚀工作台,包括工作台本体、底板、驱动槽、第一导热盘、导热柱、转动机构以及降温机构,底板固定设置在工作台本体上,驱动槽开设在工作台上,第一导热盘转动设...
刘旸
一种离子束刻蚀设备防基片夹具碎片装置及其使用方法
本发明公开了一种离子束刻蚀设备防基片夹具碎片装置及其使用方法,包括基座、橡胶圈、基片支架、基片夹具、机械手和隔绝膜;所述基座上表面贴合有隔绝膜,所述隔绝膜与所述橡胶圈接触,所述基片夹具与基片支架之间设有压环;所述基座外围...
李小龙朱新年张博翰徐涛白杨郁元卫施国政黄旼
一种离子束刻蚀控制系统
本发明涉及离子束刻蚀技术领域,具体涉及一种离子束刻蚀控制系统。该离子束刻蚀控制系统包括安全检测模块、PLC控制模块、安全输入模块、安全控制模块、安全输出模块、离子源电源以及中和器电源,其中,安全检测模块用于检测离子束刻蚀...
张海飞李正磊陈勇

相关作者

洪义麟
作品数:188被引量:405H指数:11
供职机构:中国科学技术大学
研究主题:离子束刻蚀 光栅 全息光刻 衍射光栅 软X射线
付绍军
作品数:199被引量:363H指数:9
供职机构:中国科学技术大学
研究主题:光栅 离子束刻蚀 软X射线 衍射效率 刻蚀
徐向东
作品数:143被引量:360H指数:11
供职机构:中国科学技术大学
研究主题:离子束刻蚀 光栅 软X射线 衍射光栅 全息光刻
邱克强
作品数:353被引量:561H指数:10
供职机构:沈阳工业大学材料科学与工程学院
研究主题:非晶合金 力学性能 光栅 合金 离子束刻蚀
刘颖
作品数:131被引量:193H指数:8
供职机构:中国科学技术大学
研究主题:光栅 离子束刻蚀 软X射线 衍射光栅 全息光刻