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一种TiN层形貌的刻蚀方法及TiN
本申请属于半导体集成电路技术领域,尤其涉及一种TiN层形貌的刻蚀方法及TiN层。该方法包括:对待刻蚀层,首先以光刻胶为掩,对待刻蚀层中的氧化硅层进行刻蚀,使氧化硅层呈正八字形态;然后以呈正八字形态的氧化硅...
陈定平刘重伶周克涝金航刘欣罗浩胡华胜
N/Ti原子比对TiN微结构及性能的影响综合分析
2021年
TiN硬质是很多现有的多组元氮化物硬质的基础。N/Ti原子比对TiN硬质具有重要影响。结合TiN硬质的制备工艺方法,分析了层中N含量变化的影响因素及控制方法,详细讨论了N/Ti原子比对TiN相组成、硬度、耐摩擦磨损性能、光电性能的影响关系。
彭立静张钧徐晨宁王晓阳王美涵
关键词:显微硬度
一种低摩擦TiN层的制备方法
本发明公开了一种低摩擦TiN层的制备方法,具体按照以下步骤实施:步骤1、通过磁控溅射法或多弧离子镀法在工件表面制备TiN层;步骤2、使用去离子水清洗经步骤1处理的工件,然后将工件置于真空室中用紫外线对工件表面进行预照...
车宇峰何小松周小虎崔传斗
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GT35球碗曲面沉积TiN工艺方法
本发明公开了一种GT35球碗曲面沉积TiN工艺方法,包括以下步骤S1.预热;S2.刻蚀;S3.打底;S4.沉积TiN过渡层;S5.沉积TiN功能层,启动Ti靶材同时通入饱和状态氮气,保持炉压和温度,反复该步骤,且每次沉...
仲银鹏王昊李文卓
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GT35精密装配零件沉积TiN层工艺方法
本发明公开了一种GT35精密装配零件沉积TiN层工艺方法,包括以下步骤:a、对GT35材料的粗加工零件进行淬火;b、对淬火后的GT35零件粗加工件进行450±10℃,保温3~4小时的回火处理,之后进行稳定处理,充分消除...
赵显伟毕新儒张剑陈雄刚陈驰刘栓
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304不锈钢表面多弧离子镀TiN层的抗锡腐蚀性能被引量:2
2019年
采用多弧离子镀技术在304不锈钢表面制备了光滑而致密的TiN层,分别利用金相显微镜和X射线衍射仪对其表面形貌及物相进行表征。考察了TiN层的表面抗锡粘附性能和耐锡腐蚀性能。结果表明:1.6 Pa的氮气分压下制备的TiN层表面缺陷最少。在与熔融态锡接触时,TiN层可以大幅降低不锈钢基体表面的粘锡量,阻隔熔融态锡进入基体内部,提高了材料的抗锡腐蚀性能。
李聪宋俊
关键词:不锈钢氮化钛多弧离子镀耐蚀性
GT35精密装配零件沉积TiN层工艺方法
本发明公开了一种GT35精密装配零件沉积TiN层工艺方法,包括以下步骤:a、对GT35材料的粗加工零件进行淬火;b、对淬火后的GT35零件粗加工件进行450±10℃,保温3~4小时的回火处理,之后进行稳定处理,充分消除...
赵显伟毕新儒张剑陈雄刚陈驰刘栓
一种针对超厚TiN层保持超硬特性同时提高韧性的制备方法
本发明公开了一种制备超厚以及韧性高的TiN方法,其中,制备该TiN方法包括:采用金属阴极真空磁过滤沉积系统(FCVA),在工件表面利用高能大束流金属离子束对工件进行清洗;然后采用金属真空蒸汽离子源方法(MEVVA),在...
廖斌王宇东姜其立张旭罗军吴先映
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TiN对不锈钢正畸弓丝材料的摩擦力及抗菌性能影响
目的探究Ti N对正畸弓丝用不锈钢材料的摩擦力及抗菌性能的影响。方法将正畸弓丝用不锈钢材料制成直径2cm厚度1mm的薄圆片,采用离子束辅助沉积法在表面镀厚度约400nm的Ti N,采用多功能摩擦磨损试验机进行表面摩擦...
刘晓默林久祥
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一种针对超厚TiN层保持超硬特性同时提高韧性的制备方法
本发明公开了一种制备超厚以及韧性高的TiN方法,其中,制备该TiN方法包括:采用金属阴极真空磁过滤沉积系统(FCVA),在工件表面利用高能大束流金属离子束对工件进行清洗;然后采用金属真空蒸汽离子源方法(MEVVA),在...
廖斌王宇东姜其立张旭罗军吴先映

相关作者

何家文
作品数:248被引量:1,270H指数:21
供职机构:西安交通大学材料科学与工程学院
研究主题:残余应力 钛合金 镀层 气相沉积 TIN
谢飞
作品数:57被引量:156H指数:7
供职机构:西安交通大学
研究主题:PECVD 离子渗氮 TIN膜 TIN 化学热处理
刘德浚
作品数:19被引量:135H指数:7
供职机构:南京航空航天大学材料科学与技术学院
研究主题:离子镀 氮化钛 TIN膜层 性能研究 渗碳
赵杰
作品数:64被引量:99H指数:5
供职机构:天津师范大学物理与电子信息学院
研究主题:离子注入 抗菌性 银 TIN膜 离子束辅助沉积
冯宏剑
作品数:10被引量:12H指数:2
供职机构:天津师范大学物理与电子信息学院
研究主题:TIN膜 银 离子注入 抗菌性 XRD