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作品数： 29被引量：28H指数：4

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一种用于确定非正入射条件下光学原件透过率的方法: 本发明提供一种用于确定非正入射条件下光学原件透过率的方法，属于光学原件领域。解决现有的方法需要透过率已知的参考样品、需要制作两个透过率完全一致的样品、样品透过率存在制作误差与测量误差的问题。该方法先按照分光光度计的透过率...; 贺健康张立超才玺坤武潇野时光梅林隋永新杨怀江

用于确定光学材料激光辐照老化寿命的加速实验方法: 用于确定光学材料激光辐照老化寿命的加速实验方法，涉及光学材料，解决测试光学元件的使用寿命时，存在的耗费时间长，且浪费人力物力等问题，同时采用加速实验方法时无法确定加速比的问题，本发明方法将材料加工成符合激光量热吸收测试所...; 张立超赵灵才玺坤武潇野时光梅林贺健康隋永新杨怀江; 文献传递

一种重复可调式的镀膜仿面形工装: 一种重复可调式的镀膜仿面形工装，属于光学镀膜领域，解决了现有技术仿面形夹具难以模拟多种曲率半径和不同口径的镀膜基片，在反复的加热、镀膜过程中，容易发生变形的技术问题；本发明包括行星盘、多个可调式镜座和镀膜基片；多个可调式...; 武潇野时光才玺坤梅林张立超隋永新杨怀江

热蒸发与离子束溅射制备LaF_3薄膜的光学特性被引量：4: 2014年; 研究了钼舟热蒸发工艺和离子束溅射方法制备的单层LaF3薄膜的特性。首先,采用分光光度计测量了LaF3薄膜的透射率和反射率光谱,使用不同模型拟合得出薄膜的折射率和消光系数。然后,采用应力仪测量了加热和降温过程中LaF3薄膜的应力-温度曲线。最后,采用X射线衍射仪测试了薄膜的晶体结构。实验结果表明,热蒸发制备的LaF3(RH LaF3)存在折射率的不均匀性,在193 nm,其折射率和消光系数分别为1.687和5×10-4,而离子束溅射制备的LaF3(IBS LaF3)折射率和消光系数分别为1.714和9×10-4。两种薄膜表现出相反的应力状态,RH LaF3薄膜具有张应力,而IBS LaF3具有压应力,退火之后其压应力减小。热蒸发制备的MgF2/LaF3减反膜在193 nm透过率为99.4%,反射率为0.04%,离子束溅射制备的AlF3/LaF3减反膜透过率为99.2%,反射率为0.1%。; 才玺坤张立超梅林时光; 关键词：LAF3 热蒸发离子束溅射减反膜

一种用于确定非正入射条件下光学元件透过率的方法: 本发明提供一种用于确定非正入射条件下光学原件透过率的方法，属于光学原件领域。解决现有的方法需要透过率已知的参考样品、需要制作两个透过率完全一致的样品、样品透过率存在制作误差与测量误差的问题。该方法先按照分光光度计的透过率...; 贺健康张立超才玺坤武潇野时光梅林隋永新杨怀江; 文献传递

用于确定光学材料激光辐照老化寿命的加速实验方法: 用于确定光学材料激光辐照老化寿命的加速实验方法，涉及光学材料，解决测试光学元件的使用寿命时，存在的耗费时间长，且浪费人力物力等问题，同时采用加速实验方法时无法确定加速比的问题，本发明方法将材料加工成符合激光量热吸收测试所...; 张立超赵灵才玺坤武潇野时光梅林贺健康隋永新杨怀江; 文献传递

可调节式光学镀膜夹具: 可调节式光学镀膜夹具，涉及光学镀膜领域，解决了现有镀膜夹具存在的只针对单一尺寸和单一形状的待镀膜基片而当待镀膜基片的尺寸和形状发生改变时不再适用的问题。本发明包括连接构件；开有多个T型槽的固定导向构件；一一对应安装在T型...; 时光张立超梅林才玺坤武潇野贺健康隋永新杨怀江

一种光度计变角度测试夹具: 本发明一种光度计变角度测试夹具，属于光谱测量领域，解决了现有技术中测量不准确、误差大的技术问题；本发明包括支撑机构和两个相同的样品夹持机构，所述支撑机构包括连接单元和角度转换单元，所述连接单元包括一个U形槽和三个通孔，连...; 时光张立超梅林武潇野才玺坤赵灵贺健康隋永新杨怀江; 文献传递

一种光学元件超声波清洗装置: 本发明涉及一种超声波清洗装置，属于光学镀膜技术领域；为了解决在超声波清洗过程中不同的原件必须准备不同规格的装置，不仅成本高，并且仍然存在规格不匹配的技术问题；本装置包括金属外框、金属横梁、支柱固定夹和锁紧固件；水平平行安...; 武潇野张立超时光梅林才玺坤贺健康隋永新杨怀江; 文献传递

离子束溅射制备GdF_3光学薄膜沉积速率分布特性被引量：2: 2016年; 本文采用离子束溅射方法制备GdF_3薄膜,并研究其沉积速率分布特征。首先,采用膜厚仪测量得出GdF_3薄膜在行星盘平面的二维沉积速率分布图,通过拟合模型得到二维沉积速率分布公式。其次,分析了束流束压及靶材角度对沉积速率分布特征的影响。最后,以二维沉积速率分布公式为基础,通过计算机编程设计均匀性挡板,并进行膜厚均匀性实验验证。结果表明,沉积速率在水平方向上满足ECS函数分布,在竖直方向上满足标准Gauss分布,拟合公式残差为2.05×10^(-6)。改变离子源的束流和束压,沉积速率分布特征保持不变。而随着靶材角度的增大,Gauss分布的半峰宽值ω逐渐增大,峰值位置x_c逐渐增大,在θ=292°时,GdF_3薄膜的沉积速率最大。通过挡板修调实验,可将270 mm口径平面元件的膜厚均匀性调整为97.9%。; 贺健康张立超才玺坤时光武潇野梅林; 关键词：离子束溅射光学薄膜沉积速率膜厚均匀性