江西省自然科学基金(0620046)
- 作品数：1 被引量：12H指数：1
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- 直接沉淀法制备纳米氧化铈及其抛光硅晶片的性能与影响因素被引量：12
- 2010年
- 以硝酸铈为原料,十二烷基苯磺酸钠为分散剂,过氧化氢为氧化剂,氨水为沉淀剂,采用直接沉淀法制备了粒径分布均匀的纳米氧化铈粉体,并通过XRD,TEM等手段对粉体进行了表征。采用所制备的氧化铈粉体配置成抛光浆料对硅片进行抛光,研究了浆料pH值、固含量及过氧化氢浓度对n型半导体硅晶片(111)晶面抛光性能的影响。确定了最佳的抛光条件为:pH值10.5,含固量为0.5%,过氧化氢体积分数为1.5%,此时的抛光速率为61.1 nm.min-1,所抛光的硅晶片的表面粗糙度为0.148 nm。
- 李艳花傅毛生危亮华周雪珍周新木李永绣
- 关键词：化学机械抛光硅晶片稀土
