国家科技重大专项(2009ZX02205-001)
- 作品数：6 被引量：35H指数：4
- 相关作者：王向朝杨宝喜朱菁黄惠杰徐静浩更多>>
- 相关机构：中国科学院上海光学精密机械研究所中国科学院大学上海大学更多>>
- 发文基金：国家科技重大专项上海市科技人才计划项目国际科技合作与交流专项项目更多>>
- 相关领域：理学机械工程电子电信自动化与计算机技术更多>>
- 一种混合迭代算法在大离焦距离TIE相位恢复中的应用被引量：5
- 2016年
- 研究了一种基于强度传输方程(TIE)和角谱迭代传播算法的混合迭代算法。通过仿真和实验,对比了TIE算法与混合迭代算法在不同离焦距离下的相位恢复效果。结果表明,与TIE算法相比,混合迭代算法提升了大离焦距离下的相位恢复精度,同时提高了相位恢复的空间分辨率。该算法为高精度相位恢复提供了解决方案。
- 郭怡明张方宋强朱菁司徒国海袁乔杨宝喜黄惠杰
- 关键词：相位恢复图像处理
- 基于光谱估计与多光谱技术的光学元件表面疵病检测被引量：12
- 2019年
- 为实现精密光学元件表面疵病的高效测量和精确统计,提出了一种基于光谱估计和多光谱技术的光学元件表面疵病检测方法。该方法利用光谱估计提取白光图像中不同波长的单光谱疵病图像,并合成多光谱疵病图像,然后采用优化后的OTSU(Otsu Image Segmentation Algorithm)分别对单光谱与多光谱疵病图像进行分析。基于该方法搭建了光学元件表面疵病检测装置,获得了白光照明条件下光学元件表面疵病的图像。实验结果表明,与原始白光图像相比,合成多光谱图像的疵病检出数量提升了1.85倍,疵病检出面积最大增加了6.0倍,检测效率得到明显提高。根据光学元件表面疵病的特性选取不同波长组合来生成单光谱与多光谱图像,可更加高效精确地检测出传统检测技术不易检出的疵病信息。
- 杨言若步扬徐静浩王少卿王向朝李杰
- 光刻机扫描狭缝刀口半影宽度测量技术被引量：5
- 2019年
- 扫描狭缝是步进扫描光刻机用于控制曝光剂量的重要单元。随着光刻工艺节点减小到90 nm及以下,光刻照明分系统对刀口半影宽度的测量精度和重复性提出了更高要求。基于此,提出一种基于光瞳像的光刻机扫描狭缝刀口半影宽度测量技术。分析了共面扫描狭缝刀片成像光路,推导得到掩模面半影区与光瞳像的对应关系。搭建了扫描狭缝刀口半影检测系统,并对90 nm光刻机照明分系统的扫描狭缝刀口半影宽度进行测量。实验结果表明,所提测量技术可有效改善光强波动对刀口半影宽度测量的影响,扫描狭缝刀口半影宽度的测量重复性达到0.026 mm,提高了3.46倍(与传统扫描法相比)。该技术可用于高数值孔径浸没式光刻机照明分系统光学半影参数的测量。
- 刘志帆陈明步扬徐静浩范李立张建华王向朝
- 关键词：光刻机
- 基于有限元分析方法的深紫外波段熔石英应力双折射分析被引量：4
- 2021年
- 提出一种深紫外波长条件下熔石英光学元件应力双折射的评估方法。该方法利用有限元仿真技术获取熔石英光学元件内若干截面的应力数据,结合三维插值拟合法、琼斯矩阵和路径积分方法计算光学元件引入的总相位延迟量和总方位角。在忽略样品平行度误差的情况下,所提方法对熔石英薄板样品在632.8 nm波长下相位延迟量和方位角的数值计算结果和实验结果基本一致,验证了所提方法的准确性和有效性。在此基础上,推导出相同载荷条件下,熔石英薄板在248 nm和193 nm波长下的应力双折射变化量,所得计算结果可用于分析光学元件内部应力双折射对光学系统偏振性能的影响。
- 刘志帆蔡燕民步扬张建华王向朝
- 关键词：物理光学光刻机应力双折射熔石英有限元
- 基于ybar-y图的光学结构计算方法研究
- 2015年
- 本文基于ybar-y图,建立了计算光学系统一阶结构的数学模型,并利用粒子群优化算法对模型进行了求解,可以自动优化出各种光学系统的一阶结构.编写了一套含图形用户界面(GUI)的软件,将光学系统的基本设计要求进行处理后导入GUI,求解之后利用商用光学设计软件如ZEMAX等,将一阶结构转换为实际透镜结构,然后经过透镜优化,就可以设计出满足要求的光学系统.根据本文所提出的光学结构计算方法,首先进行了1300万像素手机摄像物镜的设计,该物镜使用了4片非球面,各项性能指标能够满足设计要求.然后设计出一套头盔显示光学系统的目镜,使用了两片非球面透镜实现了90的视场角,其他的性能指标也都满足要求.两类光学系统的设计实例验证了该方法是一种可靠的光学系统一阶结构获取方法.
- 吕向博朱菁杨宝喜黄惠杰
- 关键词：光学设计几何光学
- 高分辨率投影光刻机光瞳整形技术被引量：10
- 2011年
- 在高分辨光学光刻技术中,光瞳整形技术针对不同的掩模图形产生特定的光瞳光强分布模式,从而实现分辨力增强,获得更好的成像性能。概述了高分辨率投影光刻机照明系统中基于衍射光学元件(DOE)、微透镜阵列(MLA)和微反射镜阵列(MMA)的3种光瞳整形技术,并对这些技术的工作原理、设计制作方法和性能特点进行了归纳与总结。
- 胡中华杨宝喜朱菁肖艳芬曾爱军黄立华赵永凯黄惠杰
- 关键词：光学制造光刻离轴照明衍射光学元件微透镜阵列
