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河北省自然科学基金(2007000098)
作品数:
1
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相关作者:
王勇
杨克武
张志国
冯志宏
杨瑞霞
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相关机构:
中国电子科技集团第十三研究所
河北工业大学
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发文基金:
天津市自然科学基金
河北省自然科学基金
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相关领域:
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泄漏电流
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中国电子科技...
作者
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冯震
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宋建博
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杨瑞霞
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冯志宏
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张志国
1篇
杨克武
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王勇
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半导体技术
年份
1篇
2008
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表面处理与离子注入对GaN HEMT肖特基特性的影响
2008年
研究了不同的表面处理方法及离子注入对AlGaN/GaN HEMT肖特基特性的影响。在栅金属化前,采用不同的表面处理方法进行实验,发现通过表面处理,栅肖特基特性得到一定的改善,但还不能从根本上解决漏电大、理想因子偏高的问题。进一步实验发现,硼离子注入才是导致栅肖特基特性变差的主要因素,通过对离子注入的优化,器件栅金属化后的理想因子减小到1.6,栅源反向电压为-20 V时,反向泄漏电流为2.8×10-6A。
宋建博
杨瑞霞
张志国
王勇
冯震
冯志宏
杨克武
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表面处理
离子注入
泄漏电流
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