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利用Langmuir技术构筑的光抗蚀剂聚合物纳米薄膜的表面微观结构及在光刻蚀方面的应用(Ⅰ):气液界面上聚合物单分子膜表面行为的研究被引量：2: 2009年; 合成了含有缩酮保护基团的共聚物聚N-十二烷基丙烯酰胺/1.4-二噁螺环[4,4]壬烷-2-亚甲基甲基丙烯酸酯pDDMA/DNMMA,并用Langmuir技术构建了单层和多层纳米超薄膜,用表面压(π)和静态弹性模量(Es)随平均重复单元面积(A)的变化研究了聚合物在气/液界面上的表面行为。研究结果表明,共聚物pDDMA/DNMMA能在水面上紧密排列,形成稳定的分子取向规整的Langmuir分子膜,其单层膜的厚度为1.6nm;分子的主链平躺在水面上,分子的侧链基团以与水面呈62°夹角向上伸展。与π-A曲线相比,Es-A曲线能更清楚直观地反映单分子层在挤压过程中微观结构的变化。Es-π曲线的研究为优化拉膜工艺条件提供了可靠依据。排列紧密的单分子膜在一定的表面压下,可单层、多层均匀的转移到固体基板上,形成规整有序层状结构的LB膜。; 许文俭李铁生任方方吴养洁; 关键词：LANGMUIR膜单分子层

5,10,15-三对氯苯基-20-邻(α-氧基硬脂酸)苯基卟啉Langmuir-Blodgett膜的性质研究被引量：1: 2007年; 研究了具有双亲性的5,10,15-三对氯苯基-20-邻(α-氧基硬脂酸)苯基卟啉(TSPP)在气-液界面上的成膜性能,制备了不同层数的TSPP LB膜.利用UV-vis分光光度计,小角x射线衍射,原子力显微镜等方法,研究了膜的表面形貌及卟啉分子在膜中的排列取向及相互作用.实验结果表明:双亲性的5,10,15-三对氯苯基-20-邻(α-氧基硬脂酸)苯基卟啉(TSPP)在气液界面上具有良好的成膜性能,制备的单层和多层LB膜性能稳定并具有良好的纵向均匀性和结构周期性.在旋转涂得的薄膜上,TSPP分子以聚集体的形式分散分布,未聚集的TSPP分子形成的薄膜,表面分布着大量针孔状的缺陷;LB膜表面平整均匀,TSPP分子的环平面紧密地排列在一起以羧基为支撑点垂直“站立”在基片平面上,分子侧链与基片平面成52.3°角排列.; 李铁生张素华许文俭尚巍吴养洁; 关键词：原子力显微镜

利用Langmuir技术构筑的光抗蚀剂聚合物纳米薄膜的表面微观结构及在光刻蚀方面的应用(Ⅱ):用深紫外诱导的含缩酮共聚物的光刻和光化学反应: 2009年; 用AFM、UVvis、FTIR、GPC和石英晶体微天平(QCM)对以十二烷基甲基丙烯酰胺(DDMA)为成膜物质,以1,4-二噁螺环[4,4]壬烷-2-亚甲基甲基丙烯酸酯(DNMMA)为光敏感物质的共聚物(pDDMA-DNMMA)LB膜的光刻过程及光分解机理进行了初步探讨。实验结果表明,在深紫外光源照射下,聚合物分子的主链和侧链发生分解反应,生成能挥发、易溶解的链碎片,用碱溶液显影后,可得到分辨率为0.75μm(所用掩膜所能达到的最大分辨率)的抗蚀剂LB膜正型图形。以这种共聚物LB膜图形为抗蚀层,经湿法腐蚀、除去抗蚀层等工序,可将抗蚀剂图形较好地转移到金薄膜上,得到具有相同分辨率的金属金的转移图形。; 许文俭宁建中付鸿李铁生吴养洁; 关键词：光分解光刻

高分子纳米LB膜的制备及其光刻性能研究: 合成并表征了 N-十六烷基丙烯酰胺(HDA) 和对叔丁基苯酚甲基丙烯酸酯(BPhMA)的共聚物 p(HDA-BPhMA)s．当 HDA 含量较高时,共聚物可在气 /液界面上形成稳定,排列紧密的单分子薄膜,并可以 Y 型膜...; 曾国良李铁生许文俭张素华王筠赵娜吴养洁; 关键词：光刻刻蚀; 文献传递

γ-射线辐照法合成聚合物载纳米银复合材料: 2007年; 实验采用γ-射线辐照法制备聚乙烯醇栽纳米银复合材料。在水体系中，由γ-射线辐照使水激发产生还原性粒子，水合电子，它将Ag^＋还原成银原子，银原子聚集形成纳米粒子，被载在所加入的聚乙烯醇上，形成复合材料。通过紫外-可见分光光度计和透射电镜对产物的特征进行表征。采用不加表面活性剂的情况下制备聚乙烯醇载纳米银复合材料，并用透射电镜测量其粒径大小，结果表明用此法可制得50nm左右的纳米银粒子。; 李铁生赵红英崔国士黄绍勇杨建亭吴养洁; 关键词：纳米复合材料纳米银粒子聚乙烯醇

高分子纳米LB膜的制备及其光刻性能研究: 2007年; 合成并表征了N-十六烷基丙烯酰胺（HDA）和对叔丁基苯酚甲基丙烯酸酯（BPhMA）的共聚物p（HDA-BPhMA）s。当HDA含量较高时，共聚物可在气，液界面上形成稳定，排列紧密的单分子薄膜，并可以Y型膜的方式沉积在各种固体基片上，形成多层均匀的Langrnuir-Blodgett（LB）膜。这种LB膜被成功地应用于光刻，获得了分辨率为0.5μm的LB膜图形。以该图形为抗蚀层，可将图形进一步转移至金属薄膜上，得到分辨率较高的金属图形，在图形转移的过程中，这种LB膜显示出较高的抗蚀性，有望作为纳米抗蚀薄膜材料在亚微米刻蚀领域得到应用。; 曾国良李铁生许文俭张素华王筠赵娜吴养洁; 关键词：光刻刻蚀

双芘基团共聚物组装膜的制备及其性质研究(英文): ＜正＞光刻技术是微电子和光电子产业中一项重要工序,因此研究高敏感的光致抗蚀材料及其成膜方式非常有必要。Langmuir-Blodgett（LB）膜技术是一种制备分子高度有序排列的超薄膜的先进技术。光化学反应通常取决于分子...; 张敏李铁生许文俭张素华吴养洁; 关键词：光刻技术共聚物; 文献传递

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河南省自然科学基金(0611020100)