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国家教育部博士点基金(20100201110018)

作品数:4 被引量:13H指数:2
相关作者:胡志良贺朝会郭达禧张国和更多>>
相关机构:西安交通大学更多>>
发文基金:国家教育部博士点基金国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 4篇中文期刊文章

领域

  • 4篇电子电信
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 2篇数值模拟
  • 2篇SOI
  • 2篇值模拟
  • 1篇单粒子
  • 1篇单粒子翻转
  • 1篇电子辐照
  • 1篇亚微米
  • 1篇质子
  • 1篇质子辐照
  • 1篇深亚微米
  • 1篇随机存取
  • 1篇随机存取存储...
  • 1篇器件尺寸
  • 1篇中子
  • 1篇中子辐照
  • 1篇微米
  • 1篇静态随机存取...
  • 1篇NMOS
  • 1篇RELIAB...
  • 1篇SEU

机构

  • 2篇西安交通大学

作者

  • 2篇贺朝会
  • 2篇胡志良
  • 1篇张国和
  • 1篇郭达禧

传媒

  • 1篇强激光与粒子...
  • 1篇原子能科学技...
  • 1篇Scienc...
  • 1篇Scienc...

年份

  • 1篇2014
  • 1篇2013
  • 2篇2011
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
Soft error reliability in advanced CMOS technologies—trends and challenges被引量:2
2014年
With the decrease of the device size,soft error induced by various particles becomes a serious problem for advanced CMOS technologies.In this paper,we review the evolution of two main aspects of soft error-SEU and SET,including the new mechanisms to induced SEUs,the advances of the MCUs and some newly observed phenomena of the SETs.The mechanisms and the trends with downscaling of these issues are briefly discussed.We also review the hardening strategies for different types of soft errors from different perspective and present the challenges in testing,modeling and hardening assurance of soft error issues we have to address in the future.
TANG DuHE ChaoHuiLI YongHongZANG HangXIONG CenZHANG JinXin
关键词:CMOS技术器件尺寸SEU
4H-SiC NMOS电子、质子辐照数值模拟被引量:2
2011年
分析了高能电子、质子对4H-SiC的损伤机理,建立了4H-SiC NMOS器件物理模型。电子、质子辐照效应模型。应用ISE-TCAD软件进行数值模拟计算,得出在能量为2.5 MeV、注量为5×1013cm-2的电子辐照及能量为6.5 MeV、注量为2×1014cm-2的质子辐照下,4H-SiC NMOS转移特性曲线和亚阈值漏电流曲线变化的初步规律。数值模拟结果与相同条件下Si NMOS实验结果吻合较好。
胡志良贺朝会
关键词:4H-SIC电子辐照质子辐照数值模拟
Single event upset sensitivity of 45 nm FDSOI and SOI FinFET SRAM被引量:6
2013年
In this work single event upset(SEU) sensitivity of 45 nm fully depleted silicon-on-insulator(FDSOI) static random access memory(SRAM) cell and that of SOI fin-shaped field-effect-transistor(FinFET) SRAM cell have been investigated by 3D TCAD simulations.The critical charges and SEU threshold linear energy transfer(LET) value of the two SRAM cells are consistent due to similar gate capacitance.The low electrical field and the high recombination rate account for the non-sensitivity to SEU in heavily doped drain region.Compared with FDSOI SRAM,SOI FinFET SRAM cell exhibits lower SEU sensitivity at the center of the gate.The smaller sensitive area in SOI FinFET SRAM cell may result in a smaller SEU saturation cross section than that of SOI FinFET SRAM.
TANG DuLI YongHongZHANG GuoHeHE ChaoHuiFAN YunYun
关键词:SRAM单元FINFET单粒子翻转SOI静态随机存取存储器
超深亚微米SOI NMOSFET中子辐照效应数值模拟被引量:4
2011年
考虑3种特征尺寸的超深亚微米SOI NMOSFET的中子辐照效应。分析了中子位移辐照损伤机理,数值模拟了3种器件输出特性曲线随能量为1MeV的等效中子在不同辐照注量下的变化关系及中子辐照环境下器件工艺参数对超深亚微米SOI NMOSFET的影响。数值模拟部分结果与反应堆中子辐照实验结果一致。
胡志良贺朝会张国和郭达禧
关键词:中子辐照超深亚微米SOINMOSFET数值模拟
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