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江苏省科技支撑计划项目(BE20120070)
作品数:
1
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相关作者:
王金
周建军
孔岑
陈堂胜
倪金玉
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相关机构:
南京电子器件研究所
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发文基金:
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刘涛
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周建军
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王金
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2013
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Si基GaNHEMT低温欧姆接触工艺研究
2013年
研究了在Si基GaN外延材料上实现低温欧姆接触的技术途径。研究了外延层的刻蚀深度、合金温度以及不同金属体系对接触特性的影响,发现外延层刻蚀深度的优化可显著改善欧姆接触特性。采用Ti/Al(10/200nm)金属,在外延层刻蚀深度为20nm以及合金温度550°C时,得到接近传统高温合金条件下的接触电阻,最小值达到0.76Ω.mm,同时实现的欧姆接触电极具有良好的形貌。该技术有望应用于高频、高功率GaN HEMT的工艺。
王金
孔岑
周建军
倪金玉
陈堂胜
刘涛
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低温合金
欧姆接触
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