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国家自然科学基金(60676026)

作品数:3 被引量:5H指数:2
相关作者:张永刚李爱珍徐刚毅魏林李耀耀更多>>
相关机构:中国科学院中国科学院大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家高技术研究发展计划国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域:理学电子电信更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信
  • 2篇理学

主题

  • 1篇电学
  • 1篇电学性质
  • 1篇镀膜
  • 1篇气态源分子束...
  • 1篇腔面
  • 1篇腔面镀膜
  • 1篇激光
  • 1篇激光器
  • 1篇反馈激光器
  • 1篇分布反馈激光...
  • 1篇分子束
  • 1篇分子束外延
  • 1篇SI
  • 1篇XGA
  • 1篇ALGAAS
  • 1篇X

机构

  • 3篇中国科学院
  • 1篇中国科学院大...

作者

  • 3篇李爱珍
  • 3篇张永刚
  • 2篇李耀耀
  • 2篇魏林
  • 2篇徐刚毅
  • 1篇齐鸣
  • 1篇李华

传媒

  • 2篇功能材料与器...
  • 1篇红外与毫米波...

年份

  • 2篇2009
  • 1篇2007
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
气态源分子束外延Al_xGa_(1-x)As(x=0~1)材料中Si的掺杂行为研究(英文)被引量:1
2007年
研究了Si在AlxGa1-xAs(0≤x≤1)中的掺杂行为.为比较Al組份对Si掺杂浓度的影响,在用气态源分子束外延生长(GSMBE)掺Si n型AlxGa1-xAs(0≤x≤1)的所有样品时,n型掺杂剂Si炉的温度恒定不变.用Hall效应测量外延层的自由载流子浓度和迁移率,用X射线双晶衍射迴摆曲线测量外延层的组份.测试结果表明,当AlxGa1-xAs中Al组份从0增至0.38时,Si的掺杂浓度从4×1018cm-3降至7.8×1016cm-3,电子迁移率从1900 cm2/Vs降至100 cm2/Vs.这与AlxGa1-xAs材料的Γ-X直接—间接带隙的转换点十分吻合.在AlxGa1-xAs全组份范囲内,自由载流子浓度隨Al组份从0至1呈“V”形变化,在X=0.38处呈最低点.在x>0.4之后,AlxGa1-xAs的电子迁移随Al组分的增加,一直维持较低值且波动幅度很小.
李华李爱珍张永刚齐鸣
关键词:气态源分子束外延ALGAAS电学性质
分布反馈量子级联激光器的光栅制备被引量:2
2009年
利用全息曝光方法制备了分布反馈量子级联激光器的光栅掩模,选择和发展了恰当的用于InGaAs/InP材料的光栅腐蚀优化工艺,得到腐蚀规律,讨论了腐蚀机制。在量子级联激光器的InGaAs/InP层上制备光栅得到分布反馈量子级联激光器,其单模特性较好,信噪比大于30dB。
李耀耀徐刚毅张永刚李爱珍魏林
关键词:分布反馈激光器
腔面镀膜分布反馈量子级联激光器被引量:2
2009年
报道了后腔面蒸镀高反射率镀膜工艺及其对分布反馈量子级联激光器性能影响的研究结果。与没有腔面镀膜的器件相比,采用了腔面镀膜工艺的器件,室温下的阈值电流密度降低了20%,前腔面出光峰值功率提高了50%,斜率效率提高了44%。通过对比镀膜和未镀膜器件的阈值电流密度,估算出器件的波导损耗约为7.25cm-1。
魏林李耀耀李爱珍徐刚毅张永刚
共1页<1>
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