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福建省教育厅科技项目(JA10268)

作品数:2 被引量:2H指数:1
相关作者:高立华高松华更多>>
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文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇理学

主题

  • 2篇TIO2薄膜
  • 2篇TIO_2薄...
  • 1篇亲水
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射制备
  • 1篇光催化
  • 1篇光催化性
  • 1篇光催化性能
  • 1篇光致亲水性
  • 1篇和亲
  • 1篇NI
  • 1篇
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射
  • 1篇磁控溅射制备
  • 1篇催化
  • 1篇催化性

机构

  • 2篇三明学院

作者

  • 2篇高松华
  • 2篇高立华

传媒

  • 2篇三明学院学报

年份

  • 2篇2011
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
氩氧比对射频反应磁控溅射制备TiO_2薄膜亲水性能的影响被引量:1
2011年
采用射频磁控溅射法制备了锐钛矿相TiO2薄膜,在基片温度、溅射功率、溅射时间以及靶材与基片间的距离等因素不变的情况下,研究不同氩氧分压比对薄膜亲水性能的影响。通过原子力显微镜(AFM)、X射线衍射光谱(XRD)表征了薄膜的微观表面形貌和晶相组成,采用静态接触角(SCA)评估薄膜的亲水性。实验结果表明不同氩氧比制备的锐钛矿相TiO2薄膜,紫外光照12 h后,接触角降到10o左右,而氩氧比小于等于5:5的接触角都低至5o左右,达到了超亲水性。氩氧分压比为4:6时,样品薄膜的光致亲水性最佳且光照后亲水性的保持较长。
高立华高松华
关键词:磁控溅射TIO2薄膜
Ni^(2+)掺杂对TiO_2薄膜光催化性能和亲水性的影响被引量:1
2011年
采用sol-gel法制备了锐钛矿型TiO2薄膜与Ni2+掺杂TiO2薄膜。通过XRD、AFM表征了薄膜的晶相和形貌特征,用接触角测定仪测定接触角以评估薄膜的亲水性,以甲基橙作为有机污染物研究了薄膜的光催化性能。实验结果发现:少量Ni2+掺杂提高了TiO2薄膜的亲水性和光致亲水性。但Ni2+掺杂却使TiO2光催化性能有所降低。结果表明,TiO2薄膜表面的光致亲水性与光催化特性无正相关性。
高松华高立华
关键词:TIO2薄膜光催化性能光致亲水性
共1页<1>
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