国家自然科学基金(10776030)
- 作品数:2 被引量:5H指数:1
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- 相关机构:中国科学技术大学更多>>
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- 相关领域:电子电信理学机械工程更多>>
- 大面积软X射线自支撑金透射光栅的研制被引量:1
- 2011年
- 针对等离子体诊断及空间环境探测等领域对软X射线透射光栅的需要,采用全息光刻和微电镀技术制作了自支撑软X射线金透射光栅。在基底与光刻胶之间增加减反膜层以降低高反射基底引起的驻波效应对掩模槽形的影响,使用全息光刻技术获得了侧壁陡直的光栅掩模。然后,在掩模顶部镀保护层并使用反应离子刻蚀获得电镀掩模,通过改变保护层厚度来调节电镀掩模的占宽比。最后,利用微电镀技术沉积金,成功制作了线条密度为3 450gr/mm的自支撑透射光栅,光栅周期约为290nm,占宽比为0.55,金吸收体为500nm,光栅尺寸达到10mm×15mm。在国家同步辐射装置上,测得在5~12nm软X射线波段其+1级透射衍射效率约为5%。
- 邱克强刘正坤陈火耀徐向东刘颖洪义麟付绍军
- 关键词:全息光刻电镀
- 全息光刻中的驻波效应研究被引量:4
- 2012年
- 对光刻胶内光强分布进行了计算与模拟,结果表明,来自基底的反射光与入射光干涉,光强在垂直基底的方向上呈现强弱周期性变化,即驻波效应.进一步的分析与实验结果表明,随着基底反射率的增加,驻波效应变得严重,进而影响光栅掩模的槽形、占宽比并限制线条高度.为减弱驻波效应的影响,尝试了使用减反射膜降低基底反射光强度,实验结果表明,在基底与光刻胶之间增加一层减反射膜吸收来自基底的反射光强度,减弱驻波效应的效果显著.
- 邱克强刘正坤徐向东刘颖洪义麟付绍军
- 关键词:全息光刻驻波减反射膜