国家自然科学基金(50872139)
- 作品数：3 被引量：9H指数：2
- 相关作者：吴谊群赖天树王阳姜来新黄欢更多>>
- 相关机构：中国科学院上海光学精密机械研究所中山大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划中国科学院知识创新工程重要方向项目更多>>
- 相关领域：理学电子电信更多>>
- 半金属锑薄膜中电子动力学研究
- 2009年
- 采用时间分辨抽运-探测透射光谱,研究了不同波长和不同激发流密度下半金属Sb薄膜的超快电子动力学过程.透射变化率的时间延迟扫描曲线显示在延迟零点附近出现强的振荡,正的吸收饱和峰在亚皮秒时间内衰减为负的吸收增强峰.之后,负的吸收增强峰在数皮秒时间内甚至再次演变为吸收饱和.正饱和峰和负吸收峰幅度正比于激发流密度和光波长.对这些现象进行了分析,引入"缺陷"态模型及考虑"缺陷"态对光激发电子的快速俘获和逐渐释放,能够合理、半定量地解释实验观察到的所有现象.
- 陈宇辉王阳左方圆赖天树吴谊群
- 关键词：半金属电子动力学
- 膜厚对Sb_2Te_3薄膜光学性质的影响被引量：4
- 2011年
- 超分辨近场结构光存储技术(Super-RENS)是一种利用功能薄膜结构实现突破光学衍射极限的信息点记录和读取的新技术,作为超分辨光盘结构的掩膜材料是决定其性能的关键。利用透射电子显微镜研究了可作为超分辨光盘掩膜层Sb2Te3薄膜的晶态结构、表面形貌;利用光谱仪和椭偏仪分析了其光学性质随膜厚的变化。结果表明,沉积态Sb2Te3薄膜呈弱晶状态,在一定厚度范围内,其光学性质随膜厚的不同有较大变化。当膜较薄时,其消光系数和折射率随膜厚的增加而减小;当膜厚达到一定值时,其光学常数随膜厚的增加逐渐趋于稳定,即存在膜厚影响临界值。消光系数和折射率的膜厚影响临界值分别在80nm和50nm左右。薄膜的光学性质与膜厚的关系可以用薄膜结构的连续性来解释。
- 张奎耿永友吴谊群顿爱欢李豪
- 关键词：光学性质膜厚
- Bi20Sb80薄膜的皮秒激光脉冲诱导瞬态光学响应被引量：7
- 2010年
- 利用抽运-探测技术研究了皮秒激光脉冲诱导下Bi20Sb80(BiSb)薄膜的时间分辨反射率演化过程。利用原子力显微镜和椭圆偏振光谱仪研究了激光诱导开关前后薄膜微区的表面结构特征和光学特性。结果表明,在一定能量密度范围内的皮秒激光脉冲作用下,该薄膜具有快速光热开关特性,瞬态反射率变化的开关时间约为19 ns,且不随激光能量密度的变化而变化,在多次脉冲重复作用下具有较好的重复性和稳定性。表明BiSb薄膜有望用于超快光存储超分辨掩模结构中,这将为发展新型快速开关掩模材料和理解BiSb作为超分辨掩模的工作机理提供帮助。
- 翟凤潇李思勉黄欢姜来新王阳赖天树吴谊群
- 关键词：皮秒脉冲
