教育部科学技术研究重点项目(208102)
- 作品数：2 被引量：6H指数：1
- 相关作者：路家斌阎秋生高伟强汤爱军杨勇更多>>
- 相关机构：广东工业大学更多>>
- 发文基金：国家教育部博士点基金教育部科学技术研究重点项目国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：机械工程金属学及工艺更多>>
- 磁流变效应即效微磨头平面抛光研究被引量：1
- 2009年
- 利用磁流变效应即效微磨头对光学玻璃进行了抛光试验,研究了磁感应强度、加工间隙、工具转速、加工时间等参数对工件表面粗糙度值的影响。研究发现,磁感应强度、加工间隙、工具转速等对抛光质量的影响规律相似,都是随着参数值的增大,表面粗糙度呈现先减小、后增大的趋势;但加工时间的影响略有不同,随着加工时间的延长,表面粗糙度迅速下降,然后趋于稳定。研究结果表明,合适的参数选择是提高磁流变效应即效微磨头抛光质量的关键。
- 杨勇阎秋生路家斌刘毅高伟强
- 关键词：磁流变效应抛光表面粗糙度
- 集群磁流变效应微磨头平面研抛加工参数研究被引量：5
- 2008年
- 本文实验研究了磁感应强度、研抛压力、加工速度及加工时间等几个加工参数对集群磁流变效应微磨头平面研抛加工效果的影响。实验结果发现,随着磁感应强度的增强,材料去除率增大,而表面粗糙度略有提高;研抛压力及加工速度与材料去除率成正比,表面粗糙度随加工速度的提高逐渐变大,而随着研抛压力的增大先降低后增加,当压力为6898 Pa时到达最小;随着加工时间的增加,材料去除量线性增大,而粗糙度先迅速降低后逐渐趋于稳定。在此基础上,提出了集群磁流变效应微磨头平面研抛加工的材料去除模型,其加工特征介于游离磨料研磨抛光和固着磨料研磨抛光之间,是一种全新的平面研抛加工技术,有着较好的应用前景。
- 阎秋生汤爱军路家斌高伟强
- 关键词：磁流变效应
