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国家自然科学基金(61306099)

作品数:3 被引量:13H指数:3
相关作者:邹建华王磊兰林锋彭俊彪陶洪更多>>
相关机构:华南理工大学广州新视界光电科技有限公司中国科学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金中央高校基本科研业务费专项资金中国博士后科学基金更多>>
相关领域:电子电信理学更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 1篇氧化物
  • 1篇氧化物半导体
  • 1篇氧化铟
  • 1篇柔性显示屏
  • 1篇主动矩阵
  • 1篇显示屏
  • 1篇金属
  • 1篇金属氧化物
  • 1篇非晶
  • 1篇半导体
  • 1篇ORGANI...
  • 1篇
  • 1篇
  • 1篇
  • 1篇
  • 1篇AMO
  • 1篇DOUBLE
  • 1篇EMITTI...
  • 1篇INDEX
  • 1篇LED显示

机构

  • 2篇华南理工大学
  • 1篇中国科学院
  • 1篇广州新视界光...

作者

  • 2篇徐苗
  • 2篇陶洪
  • 2篇彭俊彪
  • 2篇兰林锋
  • 2篇王磊
  • 2篇邹建华
  • 1篇宁洪龙
  • 1篇姚日晖
  • 1篇朱峰
  • 1篇徐华

传媒

  • 1篇物理学报
  • 1篇Nano-M...
  • 1篇中国科学:化...

年份

  • 1篇2015
  • 1篇2014
  • 1篇2013
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
金属氧化物TFT驱动AMOLED显示研究进展被引量:6
2013年
金属氧化物薄膜晶体管(metal oxide thin film transistor,MOTFT)由于具有迁移率高、均匀性好、工艺简单、工艺温度低、成本低等优势,非常适合高分辨率、大尺寸液晶显示(LCD)和有源矩阵有机发光二极管显示(AMOLED)等新型显示技术发展的需要,因此受到业界和学界的广泛关注.结合本课题组的工作,本文阐述了MOTFT的材料、器件结构、制作工艺以及应用,并对影响MOTFT性能的因素进行了讨论.本课题组开发的新型MOTFT迁移率可达35cm^2/(Vs),阈值电压为1.63V,开关比为10^9,亚阈值摆幅为0.21Wdecade.基于自主开发的MOTFT背板,在国内率先实现了3—5英寸彩色AMOLED显示屏、透明AMOLED显示屏以及柔性AMOLED显示屏,展示了MOTFT背板良好的应用前景.
王磊王磊兰林锋徐苗陶洪兰林锋李民邹建华彭俊彪
关键词:金属氧化物氧化物半导体主动矩阵柔性显示屏
Very-High Color Rendering Index Hybrid White Organic Light-Emitting Diodes with Double Emitting Nanolayers被引量:4
2014年
A very-high color rendering index white organic light-emitting diode(WOLED) based on a simple structure was successfully fabricated. The optimized device exhibits a maximum total efficiency of 13.1 and 5.4 lm/W at 1,000 cd/m2. A peak color rendering index of 90 and a relatively stable color during a wide range of luminance were obtained. In addition, it was demonstrated that the 4,40,400-tri(9-carbazoyl) triphenylamine host influenced strongly the performance of this WOLED.These results may be beneficial to the design of both material and device architecture for high-performance WOLED.
Baiquan LiuMiao XuLei WangHong TaoYueju SuDongyu GaoLinfeng LanJianhua ZouJunbiao Peng
关键词:HYBRID
铜-钼源漏电极对非晶氧化铟镓锌薄膜晶体管性能的改善被引量:3
2015年
在铜(Cu)和非晶铟镓锌氧化物(a-IGZO)之间插入30 nm厚的钼(Mo)接触层,制备了具有Cu-Mo源漏电极的a-IGZO薄膜晶体管(TFT).Mo接触层不仅能够抑制Cu与a-IGZO有源层之间的扩散,而且提高了Cu电极与玻璃基底以及栅极绝缘层的结合强度.制备的Cu-Mo结构TFT与纯Cu结构TFT相比,具有较高的迁移率(~9.26 cm2·V-1·s-1)、更短的电流传输长度(~0.2μm)、更低的接触电阻(~1072Ω)和有效接触电阻率(~1×10-4Ω·cm2),能够满足TFT阵列高导互联的要求.
宁洪龙胡诗犇朱峰姚日晖徐苗邹建华陶洪徐瑞霞徐华王磊兰林锋彭俊彪
共1页<1>
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