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国家自然科学基金(91023042)

作品数:7 被引量:33H指数:4
相关作者:戴一帆解旭辉周林袁征舒谊更多>>
相关机构:国防科学技术大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域:机械工程金属学及工艺电子电信化学工程更多>>

文献类型

  • 7篇中文期刊文章

领域

  • 3篇机械工程
  • 2篇金属学及工艺
  • 2篇电子电信
  • 1篇化学工程

主题

  • 3篇抛光
  • 3篇磁流变
  • 3篇磁流变抛光
  • 2篇离子束
  • 2篇面粗糙度
  • 2篇晶体
  • 2篇光学
  • 2篇KDP晶体
  • 2篇表面粗糙度
  • 2篇粗糙度
  • 1篇单晶
  • 1篇单晶硅
  • 1篇电子制造
  • 1篇熔石英
  • 1篇入射
  • 1篇数值模拟
  • 1篇四轴联动
  • 1篇铁粉
  • 1篇倾斜入射
  • 1篇微电子

机构

  • 6篇国防科学技术...

作者

  • 5篇戴一帆
  • 4篇周林
  • 4篇解旭辉
  • 2篇彭小强
  • 2篇李圣怡
  • 2篇袁征
  • 2篇舒谊
  • 1篇韩凯
  • 1篇冯殊瑞
  • 1篇关朝亮
  • 1篇石峰
  • 1篇田野
  • 1篇朱志武
  • 1篇廖文林
  • 1篇沈永祥

传媒

  • 2篇人工晶体学报
  • 1篇机械工程学报
  • 1篇物理学报
  • 1篇国防科技大学...
  • 1篇纳米技术与精...
  • 1篇Journa...

年份

  • 1篇2015
  • 3篇2013
  • 2篇2012
  • 1篇2011
7 条 记 录,以下是 1-7
排序方式:
离子束修形中光学元件表面热量沉积数值模拟被引量:5
2012年
根据Sigmund溅射能量沉积理论建立了低能离子入射光学元件引起的能量扰动层厚度模型.理论推导了离子束倾斜入射时光学元件表面的束流密度,并建立了低能离子束对光学元件的热量沉积模型.采用Monte Carlo方法模拟了低能离子与熔石英光学表面的相互作用.分析了离子能量、离子类型、入射角度等参数对光学元件热量沉积和扰动层深度的影响规律.以离子束沉积在工件的能量作为热源,采用有限元分析软件ANSYS模拟了离子束入射工件的温度场分布、温度梯度场分布和温度应力分布.入射表面温度和热梯度呈高斯分布,束斑中心最高并向工件边缘逐渐减小.入射表面束斑区域受热膨胀,其膨胀受到外环区域的制约,从中心区域到大约束斑半峰值半径的区域,所受环向应力为压应力,在大致束斑半峰值半径以外区域为拉应力.
袁征戴一帆解旭辉周林
关键词:光学加工
光刻物镜光学零件制造关键技术概述被引量:9
2013年
光刻物镜制造是当前超精密光学加工领域的发展前沿,其加工精度要求达到纳米甚至亚纳米量级。围绕光刻物镜纳米精度制造、超光滑表面生成和特殊材料加工等要求,提出纳米精度制造的关键性理论和方法。基于Sigmund溅射理论,研究高效原子量级材料去除可控性,为纳米精度生成提供了基础;提出材料添加和去除相结合的方法,克服传统误差高点去除光学制造理论局限,为纳米精度和超光滑表面生成提供了思路;针对单晶CaF2纳米制造的各向异性,研究可控柔体抛光理论,克服传统刚性盘抛光差异性适应能力局限,建立各向异性材料的一致性去除理论。在自行研制的装备上进行相关的工艺试验,实现了光学零件的超高精度加工,从加工角度看,已基本掌握193 nm光刻物镜光学零件加工的理论、工艺和装备技术。
戴一帆彭小强
关键词:微电子制造光刻物镜磁流变抛光
单晶硅反射镜激光能量吸收系数与衬底表面质量的关联被引量:2
2015年
高能激光系统中,单晶硅基底反射镜的能量吸收系数是影响系统性能的关键指标。衬底加工质量对镀膜后元件激光能量吸收系数影响显著。通过测试不同衬底粗糙度、划痕密度的单晶硅反射元件,分析衬底表面典型加工特征(粗糙度、划痕)对激光能量吸收系数的影响规律,认为粗糙度与吸收系数正相关,粗糙度均方根从0.668nm降低至0.345nm会使吸收系数降低28.0%。少量划痕对吸收系数的直接影响并不明显,吸收系数均值变化在3.1%以内。但表面划痕会诱发激光损伤,划痕密度较大时会引起后续能量吸收持续增大,辐照400s后,吸收系数较辐照100s时增大18.3%。
田野戴一帆石峰彭小强韩凯朱志武万稳
关键词:单晶硅
Magnetorheological finishing of low-gradient curved surfaces based on four-axis linkage technique被引量:1
2013年
Based on the distribution characteristic of magnetic field along the polish wheel,the four-axis linkage technique is advanced to replace a standard five-axis one to figure low-gradient optical surfaces with a raster tool-path in magnetorheological finishing(MRF).After introducing the fundaments of such simplification,the figuring reachability of a four-axis system for the low-gradient optics was theoretically analyzed.Further validation including magnetic field intensity and influence function characteristic was performed to establish its application.To demonstrate the correctness,feasibility and applicability of such technique,a K4 spherical part was figured by two iterations of MRF with surface form error improved to 0.219λPV and 0.027λRMS.Meanwhile,the surface roughness was also improved a lot in MRF process.These theoretical analyses and experimental results both indicate that high form accuracy and excellent surface quality can be obtained by using the four-axis linkage technique in the process of figuring low-gradient optical elements,and the four-axis linkage system undoubtedly is much more easy to control and much more economical.
宋辞戴一帆彭小强
关键词:磁流变抛光四轴联动光学表面
离子束作用下KDP晶体表面粗糙度研究被引量:4
2011年
为了避免传统加工过程对KDP(Potassium dihydrogen phosphate)晶体表面产生损伤、嵌入杂质等降低晶体抗激光损伤阈值的不利因素,文章探索采用离子束抛光技术实现KDP晶体的加工。本文主要分析了离子束抛光作用下KDP晶体表面粗糙度的演变过程,采用垂直入射和倾斜45°入射两种方式研究KDP晶体表面粗糙度,利用倾斜45°入射的加工方式提高了KDP晶体的表面质量,其表面均方根粗糙度值由初始的3.07 nm减小到了1.95 nm,实验结果验证了离子束抛光加工KDP晶体的可行性。
舒谊周林戴一帆沈永祥解旭辉李圣怡
关键词:KDP晶体表面粗糙度
基于离子束抛光的KDP晶体表面嵌入铁粉清洗研究被引量:8
2013年
磁流变抛光技术是实现KDP晶体超精密加工的新方法,但磁流变液中的铁粉容易嵌入质软的KDP晶体表面。本文提出了利用基于低能离子溅射原理的离子束抛光技术去除KDP表面嵌入的铁粉。利用红外拉曼光谱和白光干涉仪分别分析了低能离子束抛光前后KDP晶体表面物质结构变化和表面粗糙度的变化;结果显示,低能离子束溅射不改变KDP晶体表面的组成结构,并改善了KDP晶体表面质量,因此离子束抛光可用于KDP晶体的加工;利用飞行时间二次离子质谱分析技术分别对单点金刚石车削、磁流变抛光和低能离子束抛光后的KDP晶体表面进行元素分析,结果显示低能离子束抛光可有效去除磁流变抛光在KDP晶体表面嵌入的铁粉。
袁征戴一帆解旭辉周林关朝亮冯殊瑞
关键词:KDP晶体磁流变抛光
离子束倾斜入射抛光对表面粗糙度的影响被引量:8
2012年
基于光学元件离子束高精度确定性抛光技术,在自行研制的离子束抛光机床上,本文研究了离子束倾斜入射抛光对光学材料熔石英表面粗糙度的影响.为了在离子束抛光中改善表面粗糙度,采用了0°~80°之间不同入射角度的离子束倾斜抛光和倾斜45°入射均匀去除两种实验方案进行研究,其中不同入射角度抛光实验研究结果表明:离子束垂直入射抛光较难改善表面粗糙度,倾斜入射抛光可以较好地改善表面粗糙度,入射角为30°~60°之间时抛光效果最佳,表面粗糙度得到明显改善;倾斜45°入射均匀去除抛光实验结果表明表面粗糙度的RMS值由抛光前(0.92±0.06)nm下降到(0.48±0.04)nm,提高了光学零件的表面质量,验证了离子束倾斜入射抛光可以较好地改善表面粗糙度,实现了离子束倾斜抛光超光滑表面的生成.
舒谊周林解旭辉廖文林李圣怡
关键词:倾斜入射熔石英表面粗糙度超光滑表面
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