国家自然科学基金(20161004)
- 作品数：4 被引量：20H指数：3
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- 相关领域：理学机械工程化学工程更多>>
- 直接沉淀法制备纳米氧化铈及其抛光硅晶片的性能与影响因素被引量：12
- 2010年
- 以硝酸铈为原料,十二烷基苯磺酸钠为分散剂,过氧化氢为氧化剂,氨水为沉淀剂,采用直接沉淀法制备了粒径分布均匀的纳米氧化铈粉体,并通过XRD,TEM等手段对粉体进行了表征。采用所制备的氧化铈粉体配置成抛光浆料对硅片进行抛光,研究了浆料pH值、固含量及过氧化氢浓度对n型半导体硅晶片(111)晶面抛光性能的影响。确定了最佳的抛光条件为:pH值10.5,含固量为0.5%,过氧化氢体积分数为1.5%,此时的抛光速率为61.1 nm.min-1,所抛光的硅晶片的表面粗糙度为0.148 nm。
- 李艳花傅毛生危亮华周雪珍周新木李永绣
- 关键词：化学机械抛光硅晶片稀土
- 在氧化铈表面掺铝以显著提高其抛光光学玻璃的抛蚀量被引量：4
- 2010年
- 将水合碳酸铈与硝酸铝和氨水共同进行机械球磨,使新形成的无定型氢氧化铝包覆在细小的碳酸铈颗粒表面,经脱水干燥和煅烧,以制备出表面掺杂有氧化铝的氧化铈。结果表明:球磨中间产物仍然以水合碳酸铈为主,氢氧化铝的形成阻碍了碳酸铈的无定型化和向氢氧化铈的转化过程。在氧化铝掺杂量不超过10%的条件下,煅烧产物均具有立方萤石型结构。所有掺杂铝的氧化铈粉体对ZF7和K9光学玻璃的抛光速率均比纯氧化铈的有很大提高,证明铝的掺杂能够大大提高氧化铈的抛光性能。其最佳掺杂量为0.6%,煅烧条件为在1000℃下煅烧2 h。此时的MRR值为纯氧化铈的两倍以上。
- 金靇孙戊辰焦晓燕李艳花罗巍李永绣
- 关键词：二氧化铈铝掺杂抛光稀土
- 超细锡铈复合氧化物的制备及其抛光性能被引量：1
- 2011年
- 以SnCl2.2H2O和Ce2(CO3)3.8H2O为原料,氨水为沉淀剂,采用湿固相机械化学法制备了不同比例的锡铈复合氧化物。研究了煅烧温度和反应物配比对最终产物相组成和粒度大小的影响,并分别评价了用于K9、ZF7玻璃的抛光性能。结果表明,复合氧化物的主晶相为立方萤石型氧化铈,次晶相为二氧化锡。随煅烧温度从800℃升高到1000℃,合成产物的结晶度提高,但抛光速率并不随之提高。具有抛光增强效果的复合氧化物是在800℃煅烧温度下合成的锡复配量超过50%的复合氧化物。达到最好抛光效果所需的Sn∶Ce的量之比与抛光玻璃有关,ZF7玻璃为5∶5,K9玻璃为6:4。
- 罗巍周雪珍李艳花项神佑李永绣
- 关键词：化学机械抛光光学玻璃
- 氯化钠和六偏磷酸钠对氧化铈抛光ZF7玻璃的协同增强作用被引量：5
- 2008年
- 研究了添加NaCl或(NaPO3)6的氧化铈浆料对ZF7光学玻璃抛光的材料去除速率(MRR)及对应的粒子表面Zeta电位和悬浮稳定性的影响.结果表明,加入NaCl使CeO2浆料的抛光速率下降,而(NaPO3)6则可有效提高MRR;同时添加NaCl和(NaPO3)6对MRR值有明显的协同增强作用.用原子力显微镜测定了最大MRR值(351.26nm/min)时抛光玻璃的表面粗糙度Ra为0.799nm,完全可以满足高质量玻璃抛光的要求,比未加添加剂的MRR(199.36nm/min)和Ra(0.754nm)分别提高了76.2%和5.97%.MRR与粒子表面Zeta电位呈线性关系,证明可通过合理构筑粒子表面双电层来提高表面电性,进而提高抛光效果.
- 危亮华傅毛生李艳花周雪珍周新木焦晓燕李永绣
- 关键词：氧化铈氯化钠六偏磷酸钠抛光
