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浙江省自然科学基金(111383A4D04238)
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相关作者:
左佃太
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姚奎鸿
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醇热还原法包覆超微Si_3N_4粉体
2008年
针对热CVD法制备的无定形超微Si3N4粉体表面富含N—H键的特性,以RuCl3为钌源,采用醇热还原法对Si3N4粉体进行了钌包覆。并利用傅立叶红外光谱(FTIR)、紫外-可见光谱分析(UV-Vis)、扫描电子显微镜(SEM)和能谱仪(EDS)等检测手段对所得样品的结构和形貌进行了表征。研究结果表明,在Si3N4表面包覆了一层钌颗粒。并对钌包覆层的形成机理进行了讨论。
左佃太
王耐艳
姚奎鸿
关键词:
氮化硅
包覆
钌
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