您的位置: 专家智库 > >

国家自然科学基金(50271053)

作品数:5 被引量:60H指数:3
相关作者:徐可为马胜利介万奇马大衍马青松更多>>
相关机构:西安交通大学西北工业大学中国科学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家高技术研究发展计划国家教育部博士点基金更多>>
相关领域:一般工业技术理学金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 5篇中文期刊文章

领域

  • 4篇一般工业技术
  • 3篇理学
  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 4篇PCVD
  • 2篇硬质
  • 2篇硬质薄膜
  • 1篇型腔
  • 1篇气相
  • 1篇物相
  • 1篇物相分析
  • 1篇狭缝
  • 1篇相分析
  • 1篇相组成
  • 1篇脉冲
  • 1篇盲孔
  • 1篇膜厚
  • 1篇摩擦磨损性能
  • 1篇摩擦学
  • 1篇摩擦学性能
  • 1篇耐磨
  • 1篇耐磨性
  • 1篇结合力
  • 1篇复杂型腔

机构

  • 5篇西安交通大学
  • 2篇西北工业大学
  • 1篇慕尼黑工业大...
  • 1篇中国科学院

作者

  • 5篇马胜利
  • 5篇徐可为
  • 2篇马青松
  • 2篇马大衍
  • 2篇介万奇
  • 1篇王昕
  • 1篇刘维民

传媒

  • 2篇稀有金属材料...
  • 1篇摩擦学学报
  • 1篇真空科学与技...
  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 2篇2005
  • 1篇2004
  • 1篇2003
  • 1篇2002
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
脉冲直流PCVD技术在盲孔底部沉积Ti-Si-N薄膜被引量:7
2005年
用脉冲直流等离子体辅助化学气相沉积(PCVD)技术在盲孔的底部获得Ti-Si-N薄膜。用扫描电子显微镜(SEM),X射线能量色散谱仪(EDX),X射线衍射仪(XRD),球痕法(ball-crater),显微硬度计(Hv)和涂层压入仪(Pc)分析不同盲孔深度处薄膜的微观结构和力学性能。结果表明,随着盲孔深度的增加,Ti-Si-N薄膜中Ti与Si元素相对比例降低,薄膜厚度下降,薄膜与基体的结合强度有很大提高,膜基复合显微硬度下降,而薄膜的本征硬度在盲孔深度为20mm处出现最大值。
马青松马胜利徐可为
关键词:复杂型腔
气相沉积制备硬质薄膜技术与应用述评被引量:20
2002年
本文对气相沉积技术的发展与最新趋势给出了述评 ,重点强调了等离子体辅助化学气相沉积 (PCVD)的优势。
马胜利徐可为介万奇
关键词:硬质薄膜PCVD
脉冲直流等离子体辅助化学气相沉积TiN和TiCN薄膜摩擦磨损特性研究被引量:31
2003年
对比研究了脉冲直流等离子体辅助化学气相沉积TiN和TiCN薄膜的摩擦磨损特性,用扫描电子显微镜、X射线衍射仪及销-盘摩擦磨损试验机分析薄膜形貌和结合力,考察了不同沉积条件下2种薄膜的摩擦磨损过程及其影响因素.结果表明,TiCN薄膜具有较高硬度、良好的膜基结合力,相对于TiN薄膜而言表现出更低的摩擦系数和更好的耐磨性能.在实际使用中应注重成分和结构优化设计,以保证薄膜具有良优良的减摩性能.
马胜利马大衍王昕徐可为介万奇
关键词:硬质薄膜PCVD结合力摩擦磨损性能TIN薄膜
纳米复合Ti-B-N薄膜的结构和摩擦学性能被引量:3
2005年
研究了射频等离子体辅助化学气相沉积(PCVD)技术获得的Ti-B-N薄膜的组织结构和力学性能。结果发现,B元素的加入使薄膜中出现TiN纳米晶和BN非晶(nc-TiN/a-BN)的复合结构,其硬度显著高于TiN薄膜,最高可达40GPa。用球盘式摩擦磨损实验考察了薄膜的磨损特性。结果表明:与TiN薄膜相比,Ti-B-N薄膜抗磨损性能有显著提高,磨损机制与TiN薄膜不同,摩擦系数较TiN稍高。
马大衍马胜利徐可为刘维民S.Veprek
关键词:PCVD耐磨性
PCVD在狭缝内壁沉积Ti-Si-N薄膜的研究被引量:2
2004年
用脉冲直流等离子体辅助化学气相沉积 (PCVD)设备在狭缝的侧壁上沉积Ti Si N薄膜。经微观物相分析发现 ,在狭缝的侧壁上随着测试深度的增加 ,薄膜中Ti元素逐渐减少 ,Si含量增加 ,薄膜的相组成始终为nc TiN/Si3 N4。利用球痕法测定了各深度处薄膜的厚度 ,显微硬度仪测试了侧壁上深度不同位置处薄膜显微硬度。实验结果表明 ,随测试深度增加 ,薄膜厚度和显微硬度下降。
马青松马胜利徐可为
关键词:薄膜厚度狭缝脉冲物相分析PCVD相组成
共1页<1>
聚类工具0