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全化学法制备缓冲层和YBaCuO超导涂层被引量：1: 2009年; 用化学溶液沉积法,尤其是金属有机物沉积法(MOD)制备第二代超导带材,包括缓冲层和YBaCuO涂层,在当前超导带材研究中具有重要的意义.因为其成本低、操作简单、便于规模化生产,可能成为制备高温超导带材最有前途的方法.文内详述了用化学气相沉积,化学溶液沉积,电泳共沉积以及超声雾化热分解等方法制备YBaCuO超导涂层的国内外进展,介绍了在LaAlO3单晶上以及金属基带上制备钙钛矿结构缓冲层的主要种类和特征,也介绍了当前研究的热点之一,导电缓冲层的作用、制备方法和研究进展.; 樊占国李英楠张聪聪李凤华; 关键词：化学法缓冲层

化学溶液沉积法中YBaCuO超导体合成反应动力学被引量：1: 2011年; 利用德国耐驰STA 409 CD型热分析仪对YBCO化合物合成过程进行了研究.采用普适积分法,微分法及多重速率扫描Kissinger法相结合的方式来确定合成反应的机理,求解动力学参数.结果表明,YBCO超导体合成反应遵守随机成核和随后生长模型.利用积分法和微分法求得合成反应的平均表观活化能为174 kJ.mol-1.; 洪成哲罗清威冉阿倩樊占国; 关键词：动力学

MOD法在LaAlO_3单晶上沉积La_(0.4)Sr_(0.6)CoO_3导电缓冲层被引量：3: 2011年; 用金属有机物沉积(MOD)法在LaAlO3(100)单晶基底上制备了立方钙钛矿型导电缓冲层La0.4Sr0.6CoO3(LaSrCoO)薄膜。根据热分析曲线确定前驱膜的热处理工艺,其中前驱膜的热分解温度为620～800℃,涂膜的结晶温度为825℃。由X射线衍射(XRD)分析可知,热处理后涂膜的主相是LaSrCoO,其择优取向为<100>;另外还有La2CO5和LaCoO3等杂相。由φ扫描和(100)极图可知,所制备的涂膜有较强双轴织构。用标准四引线法测量了涂膜的室温和低温电阻率,在77K时达到1.04×10-4?·m,实现了沉积导电缓冲层的目的。; 李英楠李凤华沈悦樊占国李成山卢亚峰; 关键词：立方织构

采用钙钛矿导电缓冲层提高YBCO涂层导体临界电流密度的可行性研究: 2010年; 以Ni合金为基底的YBCO涂层导体具有三明治结构,从下至上分别是:Ni合金、缓冲层、YBCO涂层与稳定层.在实用超导薄膜内部,局域超导电流由于晶粒弱连接、缺陷或裂纹等原因突然消失的情况下,一旦能量耗散超过临界值将会导致超导薄膜失超.在典型的YBCO涂层导体结构中,由于缓冲层是绝缘的氧化物,只能通过顶层的Ag或Cu稳定层的分流来实现电流传输方向的调整.如果在YBCO与正常金属基底之间存在连续的导体连接,即缓冲层导电,就可以不需稳定层,减少涂层导体的整体厚度,提高工程临界电流密度JE.如果钙钛矿导电缓冲层均匀无裂纹且足够厚,就可以起到隔离、外延、电流传输三重功效,同时提高JE.采用全化学溶液法制备了具有(00l)择优取向的BaPbO3,La0.5Sr0.5TiO3钙钛矿导电缓冲层与YBCO涂层,对于探索低成本的实用化工艺路线具有重要的实际应用价值.; 李凤华罗清威李英楠樊占国; 关键词：YBCO涂层导体钙钛矿临界电流密度

MOD法在种子层/Ni-W上制备La_(0.4)Sr_(0.6)TiO_3薄膜的研究: 2011年; 采用金属有机沉积法(MOD)在双轴织构的Ni-5%(原子分数)W基带上制备了SrTiO3种子层,然后再在种子层上沉积La0.4Sr0.6TiO3薄膜。SEM图像显示种子层颗粒分布均匀,大小基本一致。通过XRD和SEM研究了不同热处理温度对La0.4Sr0.6TiO3薄膜取向和微观形貌的影响,结果显示,在Ar-4%H2气氛下于950℃制备的薄膜取向良好,表面光滑致密,无裂纹和孔洞出现。; 罗清威王雪李凤华冉阿倩李英楠樊占国

March-Dollase函数在计算铜带择优取向上的应用: 2009年; 根据XRD衍射图谱分析了Cu加工的择优取向行为,采用极密度相除的方法对March-Dollase函数求解过程进行了简化,使之可以直接根据XRD衍射图谱的若干峰值算出r值,间接计算择优取向的体积分数。把实测样品的XRD衍射花样与由Rietveld程序根据March-Dollase函数反推的XRD衍射花样进行对比,发现当r值小于0.45时两者符合良好,说明在此条件下(r<0.45)本数值计算方法对r值的计算准确可靠,能够估算择优取向体积分数。; 李英楠李凤华樊占国李成山卢亚锋; 关键词：冷轧再结晶

MOD法在不同种子层上制备La_(0.4)Sr_(0.6)TiO_3缓冲层的研究: 2011年; 采用金属有机沉积法(MOD)在双轴织构的Ni-5%W基带上制备了La0.4Sr0.6TiO3,LaTiO3和SrTiO3三种种子层,然后再在种子层上沉积La0.4Sr0.6TiO3薄膜.SEM图像显示种子层颗粒分布均匀,大小基本一致.通过XRD和SEM研究了不同种子层对La0.4Sr0.6TiO3薄膜取向和表面形貌的影响.结果显示,在LaTiO3种子层上Ar-4%H2气氛下950℃制备的薄膜取向良好,表面光滑致密,无裂纹和孔洞出现.; 罗清威冉阿倩洪成哲樊占国

化学溶液法合成La_(0.5)Sr_(0.5)TiO_3导电薄膜的研究: 2010年; 采用化学溶液沉积法制备了La0.5Sr0.5Ti O3(LSTO)外延薄膜作为第二代高温超导带材YBCO涂层导体的缓冲层.以乙酸镧、碳酸锶和钛酸丁酯为前驱物,配制了La离子浓度为0.14 mol/L的前驱液,经旋转涂覆和适当的热处理制得LSTO薄膜.对薄膜前驱粉末进行了热重与差热分析,确定了LSTO的合成过程.X射线衍射分析表明,在840,890℃恒温60 min的热处理后样品薄膜为单相的LSTO,具有明显的(100)择优生长取向,缓慢升温更有利于LSTO薄膜的结晶.扫描电镜结果表明:LSTO薄膜表面光滑致密,采用四探针法测得薄膜电阻率约为1×10-2Ω.cm.这种方法制取的LSTO薄膜电阻率小,外延性好,可作为YBCO涂层导体的导电缓冲层.; 李凤华罗清威高锋樊占国; 关键词：YBCO涂层导体

热处理对立方织构Ni-5%(体积分数)W基带上Ag薄膜择优取向的影响被引量：2: 2009年; 采用磁控溅射法在立方织构Ni-5%(原子分数,下同)W基底上沉积了Ag薄膜作为第二代高温超导带材——YBaCuO涂层导体的导电缓冲层,并通过后期在Ar气氛下热处理使Ag膜具有(200)择优取向。磁控溅射后Ag膜的择优取向为(111),随着热处理温度的升高,(200)择优取向强度增加。采用慢降温工艺即在900℃下恒温30min,然后以较慢的速率10℃/h降至800℃后样品随炉冷却,有利于Ag薄膜由(111)向(200)的择优生长转变。; 李凤华王威李英楠罗清威单玉桥樊占国卢亚峰李成山; 关键词：AG

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国家高技术研究发展计划(2008AA03Z202)