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表面物理与化学国家重点实验室开放基金(90000460200503)

作品数：1 被引量：3H指数：1
相关作者：鲜晓斌张川杨江荣刘柯钊朱永法更多>>
相关机构：表面物理与化学重点实验室清华大学更多>>
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相关领域：理学更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇理学

主题

  • 1篇电子能
  • 1篇电子能谱
  • 1篇扫描电镜
  • 1篇射线衍射
  • 1篇能谱
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射法
  • 1篇光电子能谱
  • 1篇俄歇电子
  • 1篇俄歇电子能谱
  • 1篇X射线
  • 1篇X射线光电子...
  • 1篇X射线衍射
  • 1篇ZR
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射
  • 1篇磁控溅射法

机构

  • 1篇清华大学
  • 1篇表面物理与化...

作者

  • 1篇姚文清
  • 1篇牟豪杰
  • 1篇张立武
  • 1篇严谨
  • 1篇朱永法
  • 1篇刘柯钊
  • 1篇杨江荣
  • 1篇张川
  • 1篇鲜晓斌

传媒

  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 1篇2011
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
Zr/Nb薄膜材料的制备及界面结构研究被引量：3
2011年
通过直流磁控溅射法在单晶Si(100)基底上制备了Zr/Nb/Si薄膜材料。X射线衍射(XRD)研究表明Zr薄膜以多晶形式存在,而Nb薄膜则形成了(110)晶面择优生长。薄膜中Zr和Nb晶粒大小分别为14,6 nm。扫描电镜研究表明形成的薄膜表面平整光滑,没有微裂纹存在。扫描俄歇电子能谱及X射线光电子能谱的研究表明,Zr/Nb/Si薄膜样品具有清晰的界面结构。在薄膜表面形成了致密的氧化层物种,而在膜层内部少量氧则以吸附态形式存在。
姚文清张立武牟豪杰张川严谨朱永法杨江荣刘柯钊鲜晓斌
关键词：磁控溅射法扫描电镜X射线衍射俄歇电子能谱X射线光电子能谱
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