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深圳市基础研究计划项目(JC201005280558A)

作品数:3 被引量:5H指数:2
相关作者:曹建民黄思文贺威张旭琳陈仕波更多>>
相关机构:深圳大学中兴通讯股份有限公司更多>>
发文基金:深圳市基础研究计划项目国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 3篇电子电信

主题

  • 1篇信号
  • 1篇氧化物半导体
  • 1篇偏压
  • 1篇漂移扩散模型
  • 1篇总剂量
  • 1篇总剂量辐射
  • 1篇总剂量效应
  • 1篇金属氧化物半...
  • 1篇金属氧化物半...
  • 1篇晶体管
  • 1篇绝缘体上硅
  • 1篇光放大
  • 1篇光放大器
  • 1篇光纤
  • 1篇光纤通讯
  • 1篇放大器
  • 1篇负偏压温度不...
  • 1篇半导体
  • 1篇半导体场效应...
  • 1篇PMOS器件

机构

  • 3篇深圳大学
  • 1篇中兴通讯股份...

作者

  • 2篇贺威
  • 2篇黄思文
  • 2篇曹建民
  • 1篇陈仕波
  • 1篇张旭琳
  • 1篇曹建明
  • 1篇刘诗尧

传媒

  • 1篇物理学报
  • 1篇光电工程
  • 1篇固体电子学研...

年份

  • 1篇2013
  • 2篇2012
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
光纤通讯中测试信号的引出被引量:2
2012年
和电信号的引出不同,光信号的引出存在着分路器的分光比损耗太大、引出光信号太弱、与引出光信号的位置有关等问题,使得在光通讯工程实际测试过程中,经常不稳定或不能满足测试需求而失败。本文提出了一种全光有源分路方法,充分发挥了光放大器的作用,可用于光通讯测试时光信号的引出。除了满足测试信号对原信号没有影响的基本要求之外,并且具有插入损耗小、引出信号强、成本较低和与测试光信号格式无关等特点。
曹建民陈仕波
关键词:光纤通讯测试设备光放大器
三栅FET的总剂量辐射效应研究
2013年
通过对赝MOS进行不同剂量的辐射,得到不同辐射条件下赝MOS器件的I-V特性曲线,并通过中带电压法进行分析,得出在不同辐射下SOI材料的埋氧层中产生的陷阱电荷密度和界面态电荷密度参数。采用这些参数并结合Altal三维器件模拟软件模拟了硅鳍(FIN)宽度不同的三栅FET器件的总剂量辐射效应,分析陷阱电荷在埋氧层的积累和鳍宽对器件电学特性的影响。
刘诗尧贺威曹建明黄思文
关键词:绝缘体上硅总剂量效应
pMOS器件直流应力负偏置温度不稳定性效应随器件基本参数变化的分析被引量:3
2012年
应用负偏置温度不稳定性(negative bias temperature instability,NBTI),退化氢分子的漂移扩散模型,与器件二维数值模拟软件结合在一起进行计算,并利用已有的实验数据和基本器件物理和规律,分析直流应力NBTI效应随器件沟道长度、栅氧层厚度和掺杂浓度等基本参数的变化规律,是研究NBTI可靠性问题发生和发展机理变化的一种有效方法.分析结果显示,NBTI效应不受器件沟道长度变化的影响,而主要受到栅氧化层厚度变化的影响;栅氧化层厚度的减薄和栅氧化层电场增强的影响是一致的,决定了器件退化按指数规律变化;当沟道掺杂浓度提高,NBTI效应将减弱,这是因为器件沟道表面空穴浓度降低引起的;然而当掺杂浓度提高到器件的源漏泄漏电流很小时(小泄露电流器件),NBTI效应有明显的增强.这些结论对认识NBTI效应的发展规律以及对高性能器件的设计具有重要的指导意义.
曹建民贺威黄思文张旭琳
关键词:PMOS器件负偏压温度不稳定性漂移扩散模型
共1页<1>
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