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国家高技术研究发展计划(2008AA05Z415)

作品数:3 被引量:7H指数:2
相关作者:崔银芳崔毅王聪周瑜升曹晔更多>>
相关机构:北京航空航天大学更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学化学工程电子电信金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 2篇理学
  • 1篇化学工程
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇电子电信

主题

  • 2篇溅射
  • 2篇磁控
  • 1篇导电薄膜
  • 1篇电特性
  • 1篇电致变色
  • 1篇性能研究
  • 1篇氧化铋
  • 1篇直流磁控
  • 1篇直流磁控溅射
  • 1篇射频磁控
  • 1篇透明导电
  • 1篇透明导电薄膜
  • 1篇溅射法
  • 1篇溅射法制备
  • 1篇光电
  • 1篇光电特性
  • 1篇厚度
  • 1篇VISIBL...
  • 1篇ZNO
  • 1篇BI

机构

  • 2篇北京航空航天...

作者

  • 1篇周瑜升
  • 1篇王聪
  • 1篇孟超
  • 1篇刁训刚
  • 1篇崔毅
  • 1篇王文文
  • 1篇顾宝霞
  • 1篇曹晔
  • 1篇崔银芳

传媒

  • 1篇稀有金属
  • 1篇功能材料与器...
  • 1篇Chines...

年份

  • 2篇2010
  • 1篇2009
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
厚度对室温沉积ZnO∶Al薄膜光电特性的影响被引量:3
2009年
利用直流磁控溅射法,在室温玻璃衬底上制备了具有良好附着性的多晶ZnO∶A l(ZAO)薄膜。比较了室温下获得的薄膜与衬底加热条件下所得薄膜的结晶程度,研究了厚度对室温条件下制备的ZAO薄膜表面形貌、电学性能及紫外-可见-近红外光区透光性的影响。结果表明,室温条件下制备的ZAO薄膜也具有(002)面择优取向,随着膜厚的增加薄膜晶粒化程度提高,载流子浓度和迁移率增大,电阻率下降,薄膜在紫外光区的吸收边发生红移,在可见光区的平均透过率降低,在近红外光区的透过率随厚度的增加而减小。厚度为1200 nm的ZAO薄膜具有最佳光电综合性能,其电阻率为7.315×10-4Ω.cm,方块电阻为6.1Ω/□,可见光区平均透过率达到82%,波长为550 nm处的透过率为87%。
孟超王文文顾宝霞曹晔刁训刚康明生
关键词:直流磁控溅射透明导电薄膜光电特性
射频磁控溅射法制备Bi_2O_3薄膜的电致变色性能研究被引量:4
2010年
采用射频磁控溅射技术在ITO导电玻璃上沉积了Bi_2O_3薄膜,利用X射线衍射仪、原子力显微镜、X射线光电子谱对薄膜的微结构、表面形貌、成分和价态进行了表征。分析表明在空气气氛中350℃热处理的Bi_2O_3薄膜具有四方结构,属β-Bi_2O_3,该薄膜在-1.8-+3V的直流电压驱动下具有在透明和暗棕色之间转换的电致变色性能,着色和漂白过程中均没有其他价态(+3价以外)的Bi生成。研究发现Bi_2O_3薄膜在400-800nm的可见光波段平均透射率调制幅度可达44%,550nm处着色系数为9.6cm^2/C,该材料具有优良的电致变色性能。
崔毅王聪周瑜升崔银芳
关键词:氧化铋电致变色
The Influence of Au-Doping on Morphology and Visible-Light Reflectivity of TiN Thin Films Deposited by Direct-Current Reactive Magnetron Sputtering
2010年
Ti, TiN and Au-TiN (Au content: from 0.5%to 7.7%) thin films were deposited on stainless steel substrates by dc reactive magnetron sputtering with a metal Ti target. The crystal structure, surface morphology and visiblelight reflectivity of the films for different film compositions are studied in detail. Distinctly different surface morphologies appear for the Ti, TiN and Au-TiN thin films. It can be observed that the surface morphology of the TiN film is affected by the Au-doping, when the Au content increases from 0% to 7.7%, surface roughness enlarges from 62.4 to 82.8 nm. Moreover, visible-light reflectivity varies significantly with increasing A u contents in the TiN films. However, the rettectivity of the TiN thin film at 550-800 nm is higher than that of the Au-TiN thin film. The present work illustrates the dependence of metal elements on the surface morphology and on the reflectivity of Au-TiN thin films. It is speculated that the addition of Au can suppress the formation and growth of TiN grains so that it changes the surface morphology and the Au-TiN thin film has potential applications in spectral selective coating.
纳元元王聪刘宇
共1页<1>
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