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国家自然科学基金(50204006)

作品数:13 被引量:26H指数:3
相关作者:李军李冰邱竹贤叶以富徐金富更多>>
相关机构:华东理工大学东北大学上海工程技术大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:化学工程金属学及工艺冶金工程理学更多>>

文献类型

  • 13篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 7篇化学工程
  • 4篇金属学及工艺
  • 2篇冶金工程
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 9篇TIB
  • 8篇电沉积
  • 7篇镀层
  • 7篇硼化钛
  • 7篇二硼化钛
  • 4篇TIB2
  • 4篇KF
  • 4篇LIF
  • 4篇NAF
  • 3篇电镀
  • 3篇熔盐
  • 3篇石墨
  • 2篇电化学
  • 2篇电化学还原
  • 2篇
  • 2篇COATIN...
  • 1篇电沉积层
  • 1篇电沉积制备
  • 1篇电镀法
  • 1篇电镀工艺

机构

  • 11篇华东理工大学
  • 4篇上海工程技术...
  • 3篇东北大学
  • 1篇华东师范大学
  • 1篇西安工程科技...

作者

  • 11篇李冰
  • 11篇李军
  • 3篇叶以富
  • 3篇邱竹贤
  • 3篇徐金富
  • 2篇江卢山
  • 2篇赵祖欣
  • 1篇孙颖
  • 1篇庞厚君
  • 1篇董政娥

传媒

  • 3篇稀有金属材料...
  • 3篇Rare M...
  • 2篇稀有金属
  • 1篇功能材料
  • 1篇钛工业进展
  • 1篇轻金属
  • 1篇中国有色金属...
  • 1篇中国腐蚀与防...

年份

  • 3篇2007
  • 4篇2006
  • 3篇2005
  • 4篇2004
13 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
LiF-NaF-KF熔盐中石墨基体上电沉积TiB2镀层的研究
2007年
通过直流电沉积技术在LiF-NaF-KF熔盐体系中,以K2TiF6和KBF4作为活性物质在石墨基体上制备了晶粒细小、裂纹少、孔隙率低、表面平整和基体结合良好的TiB2镀层。研究表明,当电流密度为0.4~0.8A/cm^2,能够得到TiB2镀层。随着电流密度的增加,浓差极化作用逐渐显著,带来的负面影响是镀层边角效应也逐渐明显,这使得厚度均匀性下降;但过电位的增加又会导致镀层晶粒变得更为细小,这就削弱甚至足以弥补浓差极化对镀层表面平整度造成的负面影响,结果就是平整度随电流密度增加而得以改善。综合考虑,适宜的电流密度应控制在0.6A/cm^2,在该条件下,涂层由相对纯净的TiB2组成且表现出强的(110)面择优取向。涂层横截面上硬度分布范围为2986~3056HV0.1,表明涂层比较致密均匀。
李军李冰
关键词:电沉积二硼化钛
熔盐体系中电沉积制备TiB_2镀层的研究现状被引量:2
2004年
介绍了熔盐体系中电沉积制备TiB2镀层技术中熔盐的选择、电镀工艺和参数的选择,概述了不同熔盐体系中B离子、Ti离子在阴极沉积的电化学机理以及TiB2的合成机理,论述了TiB2惰性阴极在铝电解工业中的研究现状,最后分析了熔盐体系中石墨电极上制备TiB2镀层的可行性。
李军李冰叶以富孙颖庞厚君
关键词:镀层电沉积电镀工艺TIB2石墨电极
LiF-NaF-KF熔盐中石墨基体上电沉积TiB2镀层的研究
通过直流电沉积技术在 LiF-NaF-KF 熔盐体系中,以 KTiF和 KBF作为活性物质在石墨基体上制备了晶粒细小、裂纹少、孔隙率低、表面平整和基体结合良好的 TiB镀层.研究表明,当电流密度为0.4~0.8 A/cm...
李军李冰
关键词:电沉积二硼化钛
文献传递
在石墨基体上电沉积TiB_2镀层的研究被引量:10
2004年
采用K2TiF6-KBF4-KF-KCl融盐体系在石墨基体上电沉积制备TiB2镀层。考察了预电解条件和电活性组分的含量对镀层性能的影响。实验结果表明预电解对镀层的组成影响较大;在K2TiF6与KBF4的摩尔比为12.5,并且其总含量较高的条件下,镀层与基体结合力好,重复性好,但是晶粒较大,含有少量杂质;在K2TiF6与KBF4的摩尔比为17.5,并且其总含量较低的条件下,得到的镀层晶粒细小,有金属光泽,TiB2的纯度很高,但是重复性较差。需要进一步进行电化学实验,明确电沉积的机理。
李冰邱竹贤李军叶以富赵祖欣
关键词:石墨电沉积TIB2镀层
高择优取向TiB_2电沉积层的制备及其表征被引量:5
2006年
在KF-KCl体系中通过电沉积方法(直流电沉积CCP和周期断开电流电沉积PIC),以K2TiF6和KBF4作为活性物质在石墨基体上制备了高择优取向的TiB2镀层。用X射线衍射(XRD)研究了阴极电流密度对TiB2镀层晶粒尺寸、择优取向、微观应力及晶格常数的影响。结果表明,晶粒尺寸随电流密度增加而变小,这是过电位增加提高了形核速率所致,相对CCP而言,PIC制备的TiB2镀层具有更小的晶粒,这是因为PIC通过增加扩散层内离子的浓度减弱了浓差极化,提高了形核率所致;本实验条件下制备的TiB2镀层择优取向均为(001)面,这可用二维晶核理论来解释;无论CCP还是PIC,制备的TiB2镀层的晶格常数均和理论值有所偏差,这是镀层中存在的应力引起的;另外,还通过热力学预测、XRD和界面能谱(EDS)证实了镀层和基体间的结合为物理结合,界面处的裂纹可能是镀层和基体间热膨胀系数存在差异造成的。
李军李冰
关键词:电沉积二硼化钛镀层
铝电解质对TiB_2镀层的渗透被引量:2
2005年
采用熔盐体系在石墨基体上电沉积制备了TiB2 镀层 将TiB2 镀层和铝电解阴极碳块和石墨分别作为阴极 ,考察了Na和电解质对其渗透腐蚀 电解 4h后 ,由酚酞试剂检测表明 ,Na对TiB2 镀层的渗透深度为零 ,对阴极炭块的渗透深度为 16mm ,对石墨的渗透深度为 4mm 电子探针的分析结果指出 ,Na和F元素渗透到石墨基体的量很少 ,元素Al相对较多 ,TiB2 镀层阻碍了Na的产生并减缓了Na的渗透 ,但没有改变Na的渗透机理 同时 ,镀层与基体的结合力良好 ,Al对TiB2 镀层的湿润性良好 .
李冰邱竹贤李军徐金富
关键词:铝电解质
钠和电解质对阴极炭块及TiB_2镀层的渗透被引量:5
2004年
把无烟煤阴极炭块和由电沉积得到的TiB2镀层作为阴极,在工业铝电解的条件下电解4小时,考察钠和电解质对它们的渗透腐蚀。实验结果表明:由酚酞试剂的检测钠对阴极炭块的渗透深度达到16mm,对TiB2镀层的渗透深度为零;钠和电解质主要渗透到阴极炭块的孔隙,钠比电解质渗透的深。由扫描电镜的分析结果表明:Na和F元素渗透到石墨基体的量很少,元素铝相对较多,TiB2镀层阻碍了钠的产生并减缓了钠的渗透,但没有改变钠的渗透机理。同时,镀层与基体的结合力是很好的,铝对TiB2镀层的湿润性很好。
李冰邱竹贤李军徐金富
关键词:阴极炭块TIB2镀层
Electrochemical reduction and electrocrystallization process of B(Ⅲ) in the LiF-NaF-KF-KBF_4 molten salt被引量:2
2007年
The mechanisms of the electrochemical reduction and nucleation process of B(Ⅲ) on the platinum electrode in the LiF-NaF-KF-KBF4 molten salt at 700°C were first investigated using cyclic voltammetry and chronoamperometry tech-niques. It was found that the electrochemical reduction of B(Ⅲ) occurs in single-step charge transfer: B(Ⅲ) + 3e → B, and the cathode process is reversible. The electrocrystallization process of B(Ⅲ) is instantaneous.
LI JunLI Bing
关键词:电化学还原电结晶
Preparation of highly preferred orientation TiB_2 coatings
2006年
This paper focuses on the preparation of titanium diboride (TiB2) coatings on the graphite substrate by continuous current plating (CCP) and pulse current plating (PIC) electrochemical techniques in fluoride electrolytes (LiF-NaF-KF) containing K2TiF6 and KBF4 as the electrochemically-active components at 700°C. Thick leveled and uniform coatings were obtained and were composed of relatively pure TiB2. The effect of the experimental parameters on the microstructure of the coatings was studied. The results showed the electrodeposition with PIC produced coatings with better quality, when compared with those obtained by CCP, under the conditions of the current density i = 0.6 A/cm2, frequency = 100 Hz, and ton/toff = 4/1. XRD analysis indicated that the preferred orientation of coatings is (110) plane, which is in accordance with the prediction of the two-dimensional crystal nuclei theory. The effect of a ratio of ton/toff and frequency on the crystal size, tex- ture coefficient and microstress was also investigated.
LI JunLI BingJIANG LushanDONG Zheng 'eYE Yifu
关键词:电沉积熔盐
氧化物熔盐电沉积二硼化钛镀层的研究
2005年
分别采用脉冲电源和直流电源,利用TiO2 B2 O3 LiF KF熔盐体系,在石墨基体上电沉积制备了TiB2 镀层。在实验中,考察了直流电流密度、脉冲宽度、脉冲间隔、脉冲电流幅度等条件对TiB2 镀层性能的影响。实验结果表明:采用脉冲电沉积得到的镀层性能优于直流电沉积。在本实验参数下(摩尔比TiO2 ∶B2 O3∶KF∶LiF =0 .0 6∶0 .4∶0 .74∶0 .8,温度80 0℃,脉冲宽度7.5ms ,脉冲间隔2 .5ms,电流密度0 .6A·cm- 2 ,电沉积时间5 0min)得到的TiB2 镀层表面平整,有金属光泽,结构致密,晶粒细小,与基体的结合力良好。
江卢山李冰李军
关键词:氧化物二硼化钛电沉积脉冲
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