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国家自然科学基金(11005059)

作品数:5 被引量:4H指数:1
相关作者:赵勇方利广盛广沪朱礼良张小林更多>>
相关机构:南昌大学北京师范大学包头师范学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金江西省教育厅科学技术研究项目更多>>
相关领域:理学电子电信金属学及工艺化学工程更多>>

文献类型

  • 5篇中文期刊文章

领域

  • 3篇理学
  • 1篇化学工程
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇电子电信

主题

  • 3篇纳米
  • 2篇退火
  • 2篇纳米线
  • 2篇发光
  • 1篇低温退火
  • 1篇氧化硅
  • 1篇氧化锌纳米
  • 1篇氧化锌纳米线
  • 1篇乙基
  • 1篇热退火
  • 1篇热氧化
  • 1篇噻唑
  • 1篇温度
  • 1篇纤锌矿
  • 1篇纤锌矿结构
  • 1篇线阵列
  • 1篇离子注入
  • 1篇纳米棒
  • 1篇纳米棒阵列
  • 1篇纳米线阵列

机构

  • 3篇南昌大学
  • 1篇包头师范学院
  • 1篇北京师范大学

作者

  • 2篇盛广沪
  • 2篇方利广
  • 2篇赵勇
  • 1篇欧阳红霞
  • 1篇刘兵发
  • 1篇俞进
  • 1篇郑军
  • 1篇李海峰
  • 1篇张小林
  • 1篇程国安
  • 1篇侯硕
  • 1篇朱礼良
  • 1篇唐建成
  • 1篇陈贤

传媒

  • 2篇南昌大学学报...
  • 1篇真空
  • 1篇电子显微学报
  • 1篇Plasma...

年份

  • 1篇2021
  • 1篇2013
  • 1篇2012
  • 2篇2011
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
反应源温度对ZnO纳米线阵列定向性及发光性能的影响
2012年
以Au薄膜为催化剂、ZnO与碳混合粉末为反应源,采用碳热还原法在单晶Si衬底上制备了ZnO纳米线阵列。通过扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、荧光分光光度计对样品的表征,研究了反应源温度对ZnO纳米线阵列的定向性和光致发光性能的影响。样品在源温度920℃条件下沿(002)方向择优生长,定向性最好,温度过低不利于ZnO纳米线阵列密集生长,而温度过高导致Zn原子二次蒸发,因而也不利于纳米线阵列的定向和择优生长;样品在源温度880℃有最强的近紫外带边发射,表明温度过高和过低都不利于ZnO晶体结构的优化;由于ZnO纳米线在缺氧氛围下生长,氧空位是缺陷存在的主要形式,因此所有样品都有较强的绿光发射。温度升高导致纳米线生长速度提高而增加了氧空位缺陷数量,从而使样品绿峰强度增强并在源温度920℃时达最大值,但温度的进一步升高可导致ZnO纳米线表面Zn元素的蒸发而降低氧空位缺陷的数量,从而抑制绿峰强度。
赵勇陈贤刘兵发程国安唐建成方利广盛广沪
关键词:ZNO纳米线阵列温度光致发光
4-甲基-5-(2-羟乙基)噻唑的合成新工艺被引量:4
2011年
以5-羟基-2-戊酮为原料经过酯化、氯化及关环反应,得到中间体2-氨基-4-甲基-5-(2-乙酰氧基)噻唑,在浓H2SO4作用下,用NaNO2和NaH2PO2还原氨基,最后通过皂化反应得到目标产物4-甲基-5-(2-羟乙基)噻唑,采用IR,1H NMR和13C NMR对产物的结构进行了表征确认。
张小林李海峰欧阳红霞朱礼良
关键词:关环
类金刚石纳米棒阵列的制备与场发射测试
2021年
在硅衬底上用磁过滤阴极真空弧(FCVAD)沉积系统沉积类金刚石(DLC)膜,以镍颗粒做掩膜,在电感耦合等离子体(ICP)系统中刻蚀DLC膜进而得到DLC纳米棒。经场发射检测,DLC纳米棒阵列的开启电场低至1.990 V·μm^(-1),阈值电场为4.312 V·μm^(-1),测量到的最大电流密度达到20.248 mA·cm^(-2)时所需的外加电场为4.563 V·μm^(-1)。XPS和拉曼光谱确定了sp2相区域尺寸的增加,可增强场发射性能。
李慧慧何金龙
关键词:类金刚石纳米棒干法刻蚀场发射
Effects of Annealing on the Structural and Photoluminescent Properties of Ag-Doped ZnO Nanowires Prepared by Ion Implantation
2013年
ZnO nanowires deposited on Si substrates were prepared by thermal evaporation of a mixture of ZnO and carbon powder. Ag ions with an energy of 63 keV and a dose of 5×1015 ions/cm-2 were implanted into the as-prepared ZnO nanowires. After ion implantation, the Ag-implanted ZnO nanowires were annealed in air at different temperatures from 600℃ to 1000℃. Effects of ion implantation and thermal annealing on the structural and photoluminescent (PL) properties of the ZnO nanowires were investigated by transmission electron microscopy (TEM), selected area energy dispersive X-ray spectroscopy (SAEDX), X-ray diffraction (XRD), and fluorescence spectrophotometry. TEM, HR-TEM, and SAEDX analyses demonstrated that efficient doping of Ag was achieved by ion implantation and the subsequent annealing process. XRD patterns revealed that the hexagonal wurtzite structure of ZnO nanowires was maintained after ion implantation. Photoluminescent emissions of ZnO nanowires were decreased significantly by Ag implantation but could be recovered by thermal annealing. The mechanism of the influence of ion implantation and annealing on the PL intensity was assessed.
赵勇陈贤方利广杨莲芳李慧慧高跃飞
关键词:氧化锌纳米线纤锌矿结构热退火
注入剂量和低温退火对硅离子注入热氧化硅层发光特性的影响
2011年
采用金属蒸气真空弧(MEVVA)离子源制得了SiO2:Si辐照层。样品的室温可见PL谱峰位集中在560~700nm的4个谱带;Raman谱表明样品中没有纳米硅晶形成,XPS谱检测到富氧和缺氧两种价键结构。560nm发光中心起源于氧化硅层中的富氧结构缺陷SPR,620~700nm的谱峰均源自非桥氧空穴中心NBOHC。研究了注入剂量和退火温度对缺陷发光特性的影响。结果表明,当Si离子注入剂量小于6×1016 cm2时,伴随注入剂量的增加观察到PL谱带强度单调上升;当注入剂量超过6×1016 cm2时,因过量离子注入引发的浓度猝灭致使PL谱带发光强度显著减弱;注入剂量6×1016 cm2的样品在200~500℃温度范围内退火后相应的PL谱两个子谱带呈现相反的温度变化趋势,这种差异是由于作为发光中心的SPR和NBOHC具有不同的热诱导生长机制而导致的。
赵勇侯硕俞进方利广郑军盛广沪
关键词:离子注入氧化硅辐照损伤
共1页<1>
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