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国家自然科学基金(90406009)

作品数:1 被引量:12H指数:1
相关作者:林罡张琨刘刚王晓平田扬超更多>>
相关机构:中国科学技术大学南京电子器件研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇电子束光刻
  • 1篇电子束光刻技...
  • 1篇微纳加工
  • 1篇光刻
  • 1篇光刻技术

机构

  • 1篇南京电子器件...
  • 1篇中国科学技术...

作者

  • 1篇田扬超
  • 1篇王晓平
  • 1篇刘刚
  • 1篇张琨
  • 1篇林罡

传媒

  • 1篇电子显微学报

年份

  • 1篇2006
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
电子束光刻技术的原理及其在微纳加工与纳米器件制备中的应用被引量:12
2006年
电子束光刻是微电子技术领域重要的光刻技术之一,它可以制备特征尺寸10nm甚至更小的图形。随着电子束曝光机越来越多地进入科研领域,它在微纳加工、纳米结构的特性研究和纳米器件的制备等方面都呈现出重要的应用价值。本文以几种常见的电子束曝光机为例,说明电子束光刻的工作原理和关键技术,并给出一些它在纳米器件和微纳加工方面的应用实例。
张琨林罡刘刚田扬超王晓平
关键词:电子束光刻微纳加工
共1页<1>
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