您的位置: 专家智库 > >

湖北省科技攻关计划(2004AA1031303)

作品数:3 被引量:3H指数:1
相关作者:陆平程金树刘清万军鹏汤李缨更多>>
相关机构:武汉理工大学更多>>
发文基金:湖北省科技攻关计划更多>>
相关领域:化学工程更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 3篇化学工程

主题

  • 2篇渗锡
  • 2篇下表面
  • 1篇电子探针
  • 1篇英文

机构

  • 3篇武汉理工大学

作者

  • 3篇程金树
  • 3篇陆平
  • 2篇万军鹏
  • 2篇刘清
  • 1篇汤李缨

传媒

  • 2篇玻璃与搪瓷
  • 1篇硅酸盐学报

年份

  • 2篇2008
  • 1篇2007
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
硼硅酸盐浮法玻璃平衡厚度和抛光时间的研究
2008年
通过自制锡槽模拟硼硅酸盐浮法玻璃在不同温度下的抛光过程,测量静置平衡厚度的变化,用原子力显微镜(AFM)研究1250℃时抛光效果随时间的变化规律。结果表明,硼硅酸盐浮法玻璃的平衡厚度比钠钙硅浮法玻璃的平衡厚度大,并且平衡厚度随着温度的升高而减小,1250℃时的平衡厚度大约为7.11mm,1200℃时的平衡厚度大约为7.36mm。硼硅酸盐玻璃1250℃时在锡液上停留3min就能达到理想的抛光效果。
陆平程金树汤李缨万军鹏
浮法硼硅酸盐玻璃下表面渗锡的研究被引量:1
2007年
根据实验样品的成分,制定一定的浮法成型的温度制度,采用自制小型石墨锡槽,模拟硼硅酸盐玻璃的浮法成型过程,用电子探针结合能谱仪,测试浮法硼硅酸盐玻璃在1250~650℃温度范围内不同温度段下表面渗锡的分布情况,研究硼硅酸盐玻璃不同于传统钠钙硅浮法玻璃的渗锡特点。研究结果表明,在特定的浮法工艺制度下,硼硅酸盐玻璃渗锡的深度达到40μm左右,并且高温段锡离子以纵向深度扩散为主,低温下锡离子主要在玻璃的近表面富集。在浮法成型的过程中,渗锡的分布曲线上会出现卫星峰,但是最终在出锡槽的温度下渗锡曲线是单调递减的。
陆平程金树刘清
关键词:渗锡电子探针
降温速率对浮法硼硅酸盐玻璃下表面渗锡的影响(英文)被引量:2
2008年
研究锡槽中降温速率对浮法硼硅酸盐玻璃下表面渗锡的影响。采用不同降温速率制备浮法硼硅酸盐玻璃,用电子探针测试浮法硼硅酸盐玻璃在1250~650℃温度范围内不同降温速率情况下表面渗锡分布情况。研究结果表明:浮法成形过程中硼硅酸盐玻璃渗锡的深度可达到40.0μm左右,并且在1050℃以上的高温段锡离子以深度方向扩散为主,在1050℃以下的低温阶段锡离子主要在玻璃的近表面富集。随着时间的延长浮法硼硅酸盐玻璃近表面的渗锡量增加,而深度大于7.0μm以上的内部的渗锡量不会由于时间的延长而累加,只与温度有关。在浮法成形过程中渗锡曲线会在1050℃左右,距玻璃表面15.0μm处出现卫星峰,但最终在低温时该卫星峰会由于逆扩散而消失。
陆平程金树刘清万军鹏
关键词:渗锡
共1页<1>
聚类工具0