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北京工业大学博士启动基金(X0006015201101)

作品数:3 被引量:11H指数:2
相关作者:崔敏邓金祥王旭张维佳段苹更多>>
相关机构:北京工业大学北京航空航天大学更多>>
发文基金:北京工业大学博士启动基金北京市自然科学基金国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 3篇会议论文

领域

  • 5篇理学
  • 1篇电气工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇电池
  • 2篇圆偏振
  • 2篇圆偏振光
  • 2篇直流磁控
  • 2篇直流磁控溅射
  • 2篇太阳电池
  • 2篇偏振
  • 2篇偏振光
  • 2篇偏振光谱
  • 2篇氢化非晶硅
  • 2篇椭圆偏振
  • 2篇椭圆偏振光
  • 2篇椭圆偏振光谱
  • 2篇溅射
  • 2篇工艺参
  • 2篇工艺参数
  • 2篇光谱
  • 2篇光学
  • 2篇光学参数
  • 2篇非晶

机构

  • 6篇北京工业大学
  • 2篇北京航空航天...

作者

  • 5篇崔敏
  • 4篇邓金祥
  • 3篇李廷
  • 3篇王旭
  • 2篇陈仁刚
  • 2篇高学飞
  • 2篇陈亮
  • 1篇刘国庆
  • 1篇王吉有
  • 1篇段苹
  • 1篇原安娟
  • 1篇孔乐
  • 1篇张维佳
  • 1篇万欣
  • 1篇崔成宇
  • 1篇周琪

传媒

  • 1篇物理实验
  • 1篇真空
  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 1篇2014
  • 2篇2013
  • 1篇2012
  • 2篇2011
3 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
空气密度测量仪的研制与测试研究被引量:4
2013年
研制了空气密度测量仪,能够同时测量并直接显示空气的温度、湿度、压强和密度.密封空气的测量结果较好地验证了理想气体状态方程,空气密度测量不确定度为0.1kg/m3,湿度的不确定度对密度测量的影响最大.
王旭崔敏周琪崔成宇万欣邓金祥王吉有原安娟刘国庆
关键词:不确定度温度压强
氢化非晶硅(a-Si:H)薄膜的制备及微结构研究
<正>氢化非晶硅(a-Si:H)薄膜是一种优异的光电功能材料,在太阳能电池、薄膜晶体管和大面积液晶显示等高技术领域起着十分重要的作用。我们在其他条件一定的情况下改变衬底温度,以制备高质量的氢化非晶硅薄膜,薄膜利用红外吸收...
李廷邓金祥崔敏杨学良秦扬杨萍曲艳丽
文献传递
直流反应磁控溅射法制备太阳电池用ITO透明导电膜被引量:5
2012年
采用直流反应磁控溅射法制备了ITO透明导电薄膜,针对氧流量、溅射气压、溅射电流3种工艺参数对ITO薄膜电阻率和可见光区透射率的影响进行了分析和研究。结果表明:从ITO薄膜作为太阳电池用减反射层和电极出发,得到了工艺参数的优化值,分别为氧流量0.2 ml/min(标准状态),溅射气压3 Pa和溅射电流0.2 A,ITO薄膜的电阻率为3.7×10-3Ω.cm,透过率(550 nm)高达93.3%。另外,利用该优化工艺条件下制备的ITO薄膜作为电极和减反射层,制备了结构为ITO/n+-nc-Si∶H/-i nc-Si:H/p-c-Si/Ag的太阳能电池,电池开路电压Voc达到534.7mV,短路电流Isc达到49.24mA(3 cm2),填充因子为0.4228。
崔敏邓金祥张维佳段苹
关键词:ITO薄膜直流磁控溅射太阳电池工艺参数
直流反应磁控溅射法制备太阳电池用ITO透明导电膜
锡掺杂氧化铟(ITO,In203:Sn)薄膜是一种n型半导体材料,具有较宽的带隙(3.5-4.3eV),较高的载流子密度(1021cm-3)。另外,ITO薄膜还具有许多其它优异的物理、化学性能,例如高的可见光透过率和电导...
崔敏邓金祥张维佳
关键词:ITO薄膜直流磁控溅射太阳电池工艺参数
文献传递
氢化非晶硅薄膜制备及其椭圆偏振光谱测试分析被引量:2
2014年
射频磁控溅射法制备a-Si:H薄膜,利用椭圆偏振光谱对不同气压下a-Si:H薄膜的厚度、折射率和消光系数进行了测试和研究。薄膜采用双层光学模型,通过Forouhi-Bloomer模型对椭圆偏振光谱参数进行拟合,获得450-850 nm光谱区域的a-Si:H薄膜光学参数值。结果表明,随着工作气压增加,薄膜厚度增厚,沉积速率升高;相同工作气压下,随偏振光波长增大,折射率呈下降趋势;相同波长偏振光下,折射率随工作气压上升而下降,折射率变化范围在3.5-4.1;消光系数随着工作气压增大呈略微增大的趋势。根据吸收系数与消光系数的关系,获得了薄膜的吸收谱,测算出不同工作气压下a-Si:H薄膜的光学带隙为1.63 eV-1.77 eV。
崔敏邓金祥李廷陈亮陈仁刚高学飞孔乐王旭
关键词:A-SI椭圆偏振光谱光学参数工作气压
氢化非晶硅薄膜制备及其椭圆偏振光谱测试分析
氢化非晶硅(a-Si:H)薄膜是一种优异的光电功能材料,具有光吸收率高、电阻温度系数大、可大面积低温成膜、易掺杂、基片种类不限、与硅半导体工艺兼容等突出优点,在太阳能电池、薄膜晶体管、液晶显示和光电探测等领域有着广泛的应...
崔敏邓金祥李廷陈亮陈仁刚高学飞王旭
关键词:氢化非晶硅薄膜A-SI:H椭圆偏振光谱光学参数
文献传递
共1页<1>
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