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国家高技术研究发展计划(2001AA320202)

作品数:21 被引量:188H指数:9
相关作者:韩高荣翁文剑汪建勋张溪文沈鸽更多>>
相关机构:浙江大学浙江工业大学更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划国家自然科学基金教育部跨世纪优秀人才培养计划更多>>
相关领域:理学一般工业技术电子电信电气工程更多>>

文献类型

  • 21篇期刊文章
  • 2篇会议论文

领域

  • 12篇理学
  • 8篇一般工业技术
  • 4篇电子电信
  • 2篇化学工程
  • 2篇金属学及工艺
  • 2篇电气工程

主题

  • 5篇性能研究
  • 5篇氧化钛薄膜
  • 5篇气相沉积
  • 5篇化学气相
  • 5篇化学气相沉积
  • 5篇二氧化钛薄膜
  • 4篇水性
  • 4篇亲水性
  • 4篇光催化
  • 4篇光谱
  • 4篇SNO
  • 4篇催化
  • 3篇拉曼
  • 3篇拉曼光谱
  • 3篇光催化性
  • 3篇掺杂
  • 3篇常压化学气相...
  • 3篇催化性
  • 2篇镀膜
  • 2篇镀膜玻璃

机构

  • 23篇浙江大学
  • 1篇浙江工业大学

作者

  • 23篇韩高荣
  • 8篇翁文剑
  • 8篇汪建勋
  • 6篇张溪文
  • 5篇沈鸽
  • 4篇刘涌
  • 4篇宋晨路
  • 4篇赵高凌
  • 4篇郭玉
  • 4篇杜丕一
  • 3篇肖瑛
  • 3篇王薇薇
  • 2篇沃银花
  • 2篇谢莲革
  • 2篇刘鹏
  • 2篇刘起英
  • 2篇徐世友
  • 2篇周佳
  • 1篇田清华
  • 1篇莫建良

传媒

  • 4篇功能材料
  • 4篇真空科学与技...
  • 3篇硅酸盐学报
  • 2篇太阳能学报
  • 2篇材料导报
  • 2篇薄膜技术学术...
  • 1篇稀有金属材料...
  • 1篇光学技术
  • 1篇无机材料学报
  • 1篇功能材料与器...
  • 1篇浙江大学学报...
  • 1篇材料科学与工...

年份

  • 7篇2006
  • 7篇2005
  • 8篇2004
  • 1篇2003
21 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
硅掺杂和硅钒共掺杂对TiO_2光催化性能的影响被引量:36
2005年
采用溶胶凝胶法在玻璃表面制备了一定厚度(约120nm)的掺硅TiO2薄膜,在配制原始溶液时,所用钛酸四丁酯、正硅酸乙酯、乙醇、水和硝酸的摩尔比为1∶y∶25∶1∶0.2。用扫描电子显微镜观察其表面形貌,用X射线衍射表征其结构。以甲基橙溶液为体系,考察掺杂后TiO2薄膜的光催化性能。结果表明:当y≤0.3时,随硅掺入量的增加,TiO2薄膜的光催化性能提高;当y>0.3时,硅的掺入使TiO2薄膜的光催化性能降低。另外,用相同方法制备了钒硅共掺杂的TiO2薄膜,发现钒硅共掺杂可以进一步提高TiO2的光催化性能。
李红赵高凌刘琴华翁文剑杜丕一沈鸽韩高荣
关键词:溶胶-凝胶法二氧化钛薄膜光催化掺杂
CVD法制备Sb掺杂SnO_2薄膜的结构与性能研究被引量:13
2005年
采用化学气相沉积法(CVD)制备了Sb掺杂SnO2薄膜(ATO),研究了Sb掺杂量对ATO薄膜结构和性能的影响.利用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、X射线光电子能谱(XPS)等分析手段对所制得薄膜的结构、形貌、成分等进行了表征,XRD结果表明在基板温度为665℃时能够制得结晶性能较好的多晶薄膜,XPS分析确定掺杂后的Sb以Sb5+离子形式存在.讨论了Sb掺杂量对方块电阻、透射率和反射率等薄膜性质的影响,结果表明,当Sb掺杂量为2%时取得最小方块电阻为7.8Ω/□,在可见光区薄膜的透射率和反射率随着Sb掺杂量的增加呈下降趋势.最后探讨了Sb掺杂SnO2薄膜的显色特性,认为Sb5+离子的本征吸收是薄膜显色的主要原因.
谢莲革沃银花汪建勋沈鸽翁文剑刘起英韩高荣
关键词:掺杂量
HF-PECVD法生长BN_(1-x)P_x薄膜
2005年
以光学石英片为衬底,采用热丝 等离子体辅助化学气相沉积方法(HF PECVD)沉积了BN1-xPx薄膜。通过 X 射线衍射(XRD)、X 射线光电子能谱(XPS)、扫描电子显微镜 ( SEM )、X 射线能谱(EDAX)、紫外 可见(UV VIS)等测试手段研究了薄膜的化学组成、结构以及 P元素掺杂量对 BN1-xPx 薄膜材料光学带隙的调制规律。结果表明所沉积薄膜为B、P、N组成的三元化合物,没有相偏析,定向生长,与石英衬底结合牢固。BN1-xPx 薄膜中随着磷元素相对含量的增加,其光学带隙相应窄化,即通过控制磷的掺杂量可以有效调整该薄膜材料的光学带隙。
徐世友张溪文韩高荣
关键词:磷掺杂光学带隙
溶剂对溶剂热合成CdS纳米晶体的形貌控制被引量:1
2004年
以溶剂热法在不同溶剂里的160℃下反应12 h制备不同形貌的CdS纳米晶粒,分别选用水(H2O)、二甲基甲酰胺(DMF)、乙醇胺(an)和乙二胺(en)为溶剂来控制纳米CdS的形貌和尺寸.对样品的结构和性能进行表征,重点分析了溶剂的物理性质和结构特征对CdS纳米粒子晶体结构、形貌和尺寸的影响,不同溶剂的作用机制不同,可通过选择合适的反应溶剂来控制纳米粒子的形貌和尺寸,以制备满足不同应用需要的纳米结构,尤其是性能独特的一维纳米结构.
王青青赵高凌韩高荣
关键词:溶剂热法
介质阻挡放电化学气相沉积法制备DLC薄膜研究被引量:8
2005年
采用介质阻挡化学气相沉积法(DBD CVD)在Si及石英衬底上、室温下成功的沉积出光滑、致密、均匀、膜基结合较好的类金刚石(DLC)薄膜,并考察了电源电压对类金刚石薄膜结构及性能的影响。拉曼光谱(Raman)、扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、紫外可见光谱(UV Vis)、高阻仪等测试及分析结果显示DBD CVD 法适于制备高质量硬质DLC薄膜。对DBD放电做了理论分析,结果与工艺研究的结论相符合。
张溪文徐世友韩高荣
关键词:DLC拉曼光谱
一种获得半导体薄膜光学参数的方法被引量:8
2005年
实现薄膜光学参数的简便测量对于薄膜的制备和应用具有重要意义。引入适用于半导体材料的Forouhi_Bloomer模型,用其表征薄膜折射率与色散的关系。考虑到粗糙度的影响,假设薄膜厚度服从正态分布,给出了模拟退火法与迭代法相结合、由可见光光谱测定薄膜光学参数的方法。作为尝试,以硅系薄膜为例进行了计算。结果表明,获得的厚度与用椭偏仪测量的结果较为吻合。该方法适用于研究和测量半导体薄膜的光学性能和膜厚,具有很高的实用价值。
刘涌宋晨路汪建勋韩高荣
关键词:半导体薄膜色散关系模拟退火法光学参数
F掺杂SnO_2透明导电薄膜微结构及性能研究被引量:17
2004年
通过实验测量常压热分解CVD工艺制备的F掺杂SnO2薄膜的方块电阻、膜厚、形貌、微结构、中远红外反射率等性质,详细研究了基板温度对SnO2薄膜微结构的影响和微结构与薄膜电学、光学性能之间的关系。研究发现,将基板温度从375℃提高到525℃以上,薄膜结晶程度大大提高,薄膜厚度从25nm提高到近300nm,方块电阻下降了两个数量级,中远红外的反射率达到了85%以上。
莫建良陈华曹涯雁刘起英汪建勋翁文剑韩高荣
关键词:CVD微结构
低镜面反射纳米硅镀膜玻璃制备及拉曼光谱表征
2004年
为解决"光污染"问题,我们采用化学气相沉积的方法及后退火工艺,制备了低镜面反射纳米硅镀膜玻璃.用拉曼谱对样品的微结构进行表征,并测量了薄膜的反射率.结果表明,退火样品由于表面氧化形成低折射率的氧化物,以及大晶粒增强了对可见光的散射,因而具有低的反射率.
刘涌肖瑛宋晨路韩高荣
关键词:拉曼谱镀膜玻璃
AP-CVD法制备的二氧化钛薄膜结构及亲水性研究被引量:1
2004年
基于实现在线镀膜的目的,研究了以TiCl4为钛源,用AP-CVD法在玻璃基板上制备TiO2薄膜的工艺.利用扫描电子显微(SEM)技术和X射线衍射(XRD)技术,研究了不同基板反应温度下薄膜的表面形貌和晶体结构,分析了表面形貌和结构对亲水性的影响.结果表明通过改变反应温度可以控制锐钛矿和金红石的相对量,薄膜的亲水性和表面形貌、粗糙度有密切的关系.
刘鹏汪建勋翁文剑韩高荣
关键词:二氧化钛薄膜亲水性TICL4
溶剂热法制备SPAn包裹CdS纳米粒子及其性能被引量:2
2006年
采用溶剂热法,成功的制备了磺化聚苯胺(SPAn)包裹CdS纳米复合粒子。用TEM、XRD等手段对产物结构进行了表征,同时进行了UV-VIS以及电阻率的测试,研究其光学电学性能,并探讨了SPAn的浓度对产物的结构及光学、电学性能的影响。结果表明,SPAn/CdS纳米复合粒子具有优良的光学、电学性能。产物粒径分布均匀,随着SPAn用量的增加,复合粒子的粒径有减小的趋势,最小可达10nm左右;电导率则随着SPAn用量的增大而降低。
臧金鑫赵高凌邓海韩高荣
共3页<123>
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