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国家高技术研究发展计划(2006AA05Z411)

作品数:2 被引量:7H指数:2
相关作者:刘红忠冷娜卢萍赵琳范多旺更多>>
相关机构:兰州交通大学西安交通大学浙江理工大学更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划长江学者和创新团队发展计划国家自然科学基金更多>>
相关领域:金属学及工艺化学工程更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 2篇金属学及工艺
  • 1篇化学工程

主题

  • 2篇镀层
  • 2篇镁合金
  • 2篇镁合金表面
  • 2篇合金
  • 2篇合金表面
  • 2篇复合镀
  • 2篇复合镀层
  • 2篇TI
  • 2篇TIN
  • 1篇多弧离子镀
  • 1篇氧化钛薄膜
  • 1篇真空蒸镀
  • 1篇水性
  • 1篇亲水性
  • 1篇离子镀
  • 1篇二氧化钛薄膜
  • 1篇TIO2

机构

  • 3篇兰州交通大学
  • 2篇西安交通大学
  • 1篇浙江理工大学

作者

  • 2篇范多旺
  • 1篇曹开斌
  • 1篇王成龙
  • 1篇赵琳
  • 1篇孙法
  • 1篇卢萍
  • 1篇汪洋
  • 1篇冷娜
  • 1篇刘红忠
  • 1篇彭晓光

传媒

  • 1篇腐蚀与防护
  • 1篇功能材料

年份

  • 2篇2008
  • 1篇2007
2 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
镁合金表面Ti-TiN复合镀层的阴极多弧离子制备与表征
表面强化、耐蚀处理对镁及其合金的应用至关重要.采用阴极多弧离子镀膜技术,在 AZ91C 镁合金基底上首次成功镀制了强结合力的以 Ti 为过渡层的 TiN 复合膜层,并利用高分辨扫描电子显微镜(SEM)、 X 射线能谱仪(...
王成龙范多旺刘红忠赵琳卢萍冷娜
关键词:镁合金
文献传递
AZ91C镁合金表面Ti-TiN复合镀层的阴极多弧离子镀法制备与表征被引量:4
2008年
采用阴极多弧离子镀膜技术,在AZ91C镁合金基底上首次成功镀制了结合力强的以Ti为过渡层的TiN复合膜层,并利用高分辨扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱仪(EDS)、显微划痕测试等技术对复合膜层的形貌、组织结构及性能进行分析研究。结果表明,采用多弧离子镀膜工艺,能在经过恰当预处理的镁合金基底上制备出性能良好的TiN膜,膜层均匀、致密,膜基结合力达130 mN以上,复合硬度达500 HV左右(AZ91镁合金基底为125 HV)。此外中性盐雾强化实验表明,经该方法处理后的镁合金在ASTM-B117标准测试条件下,腐蚀速率明显降低,经过200 h后,表面无明显腐蚀现象。真空多弧离子镀膜技术有望在镁合金表面防护领域得到应用。
王成龙范多旺刘红忠赵琳卢萍冷娜
关键词:镁合金
大规模真空蒸镀二氧化钛薄膜及其表征被引量:3
2008年
采用大型真空镀膜设备在玻璃基底上蒸镀二氧化钛(TiO2)薄膜,并对TiO2薄膜进行了SEM、AFM、XRD、紫外可见光吸收光谱、亲水性的测试及分析,探讨了退火温度对薄膜性能的影响。结果表明制备的TiO2薄膜具有良好的均匀性。在室温条件下,TiO2薄膜具有无定型的结构;在300~500℃的条件下,TiO2薄膜退火2h后以锐钛矿晶型为主,600℃退火的TiO2薄膜明显向金红石型转变。随退火温度的升高,薄膜对紫外光和可见光的吸收有明显提高,并出现了明显的红移现象。另外,亲水性也随退火温度的升高而变强,500和600℃退火的TiO2薄膜表面出现超亲水性。
彭晓光汪洋曹开斌孙法
关键词:TIO2真空蒸镀亲水性
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