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国家重点基础研究发展计划(2006CD601004)

作品数:19 被引量:18H指数:2
相关作者:冯庆荣王银博黄煦孙玄王亚洲更多>>
相关机构:北京大学中国科学院宾州州立大学更多>>
发文基金:国家重点基础研究发展计划国家自然科学基金国家基础科学人才培养基金更多>>
相关领域:理学一般工业技术电气工程更多>>

文献类型

  • 6篇中文期刊文章

领域

  • 5篇一般工业技术
  • 3篇理学
  • 2篇电气工程

主题

  • 4篇超导
  • 2篇MGB2超导...
  • 2篇超导薄膜
  • 2篇MGB_2
  • 1篇单晶
  • 1篇载流
  • 1篇载流能力
  • 1篇溶液法
  • 1篇碳掺杂
  • 1篇钛离子
  • 1篇离子
  • 1篇临界电流
  • 1篇临界电流密度
  • 1篇零电阻
  • 1篇厚度
  • 1篇辐照
  • 1篇薄膜生长
  • 1篇B2
  • 1篇JC
  • 1篇MGB2

机构

  • 6篇北京大学
  • 1篇中国科学院
  • 1篇宾州州立大学

作者

  • 6篇冯庆荣
  • 2篇王越
  • 2篇陈艺灵
  • 1篇王银博
  • 1篇张辰
  • 1篇薛驰
  • 1篇庄承钢
  • 1篇何法
  • 1篇孟胜
  • 1篇闻海虎
  • 1篇张从尧
  • 1篇贾颖
  • 1篇郭峥山
  • 1篇马平
  • 1篇孙玄
  • 1篇郗小星
  • 1篇黄煦
  • 1篇杨欢
  • 1篇王亚洲
  • 1篇甘子钊

传媒

  • 4篇物理学报
  • 1篇稀有金属材料...
  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 1篇2014
  • 1篇2013
  • 2篇2012
  • 1篇2011
  • 1篇2008
19 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
MgB2超薄膜的制备和性质研究被引量:2
2011年
利用混合物理化学气相沉积法在6H-SiC(001)衬底上制备干净的MgB2超导超薄膜.在本底气体压强、载气氢气流量等条件一定的情况下,改变B2H6流量及沉积时间,制备得到不同厚度的系列MgB2超薄膜样品,并研究了超导转变温度Tc、剩余电阻率ρ(42K)、上临界磁场Hc2等与膜厚的关系.该系列超薄膜沿c轴外延生长,随膜厚度的变小,Tc(0)降低,ρ(42K)升高.膜在衬底上的生长遵循Volmer-Weber岛状生长模式.对于厚度为7.5nm的MgB2超薄膜,Tc(0)=32.8K,ρ(42K)=118μΩcm,是迄今为止所观测到的厚度为7.5nm的MgB2超薄膜最高的Tc值;对于厚度为10nm的MgB2膜,Tc(0)=35.5K,ρ(42K)=17.7μΩcm,上临界磁场μ0Hc2估算为12T左右,零磁场、4K时的临界电流密度Jc=1.0×107A/cm2,是迄今为止10nm厚MgB2超薄膜的最高Jc值,且其表面连接性良好,均方根粗糙度为0.731nm.这预示MgB2超薄膜在超导纳米器件上具有广阔的应用前景.
孙玄黄煦王亚洲冯庆荣
关键词:薄膜生长
MgB2超导膜的厚度与其Jc(5K,0T)的关系
2013年
通过混合物理化学气相沉积法(hybrid physical-chemical vapor deposition,HPCVD),在(000l)SiC衬底上制得一系列从10 nm到8μm的MgB2超导膜样品,并对它们的形貌、超导转变温度Tc和临界电流密度Jc与膜厚度的关系进行了研究.观察到Tc随膜厚度增加上升到最大值后,尽管膜继续增厚,但Tc值保持近乎平稳,而Jc则先随膜厚度增加上升到最高值后,继而则随膜的厚度的增加而下降.MgB2膜的Tc(0)和Tc(onset)值与膜厚的关系基本一致,Tc(0)在膜厚为230 nm处达到最大值Tc(0)=41.4 K,而Jc(5K,0T)在膜厚为100 nm时达到最大值,Jc(5 K,0 T)=2.3×108A·cm-2,这也说明了我们能用HPCVD方法制备出高质量干净MgB2超导膜.本文研究的超导膜厚度变化跨度非常大,从10 nm级的超薄膜到100 nm级的薄膜,再到几微米的厚膜,如此Tc和Jc对膜厚度变化的依赖就有了较完整、成体系的研究.并且本文的工作对MgB2超导薄膜制备的厚度选取具有实际应用意义.
陈艺灵张辰何法王达王越冯庆荣
关键词:厚度临界电流密度
钛离子辐照对MgB_2超导薄膜的载流能力和磁通钉扎能力的影响被引量:1
2012年
利用混合物理化学气相沉积法(hybrid physical-chemical vapor deposition,HPCVD)可以制备出高性能的MgB2超导薄膜,再对薄膜进行钛(Ti)离子辐照处理.经过辐照处理后的样品被掺入了Ti元素,与未处理的干净MgB2样品相比,其超导转变温度没有出现大幅度的下降,而在外加磁场下的临界电流密度得到了明显的提高,同时样品的上临界磁场也得到了提高.在温度5 K,外加垂直磁场为4 T的情况下,Ti离子辐照剂量为1×10^(13)/cm^2的样品的临界电流密度达到了1.72×10~5A/cm^2,比干净的MgB_2要高出许多,而其超导转变温度仍能维持在39.9 K的较高水平.
王银博薛驰冯庆荣
关键词:MGB2超导薄膜
高质量的干净极限与脏极限MgB2超导薄膜
2008年
利用混合物理化学气相沉积法(hybrid physical-chemical vapor deposition),在0001取向的SiC和Al2O3上原位制备了高质量的c轴外延MgB2薄膜,样品具有高于41K的零转变温度,超导剩余电阻率ρ(42K)<0.5μΩcm,很好地吻合第一原理计算的干净极限行为。X射线相分析图谱上没有MgO的衍射峰出现说明这种方法极大程度上避免了MgB2制备过程最易出现的"氧污染"。较高的磁电阻和低温低场条件下不存在磁通跳跃都说明了样品非常干净。借助一种改进的双加热丝装置,我们在干净MgB2样品基础上实现了可控的碳掺杂,掺碳后的样品超导临界温度下降,剩余电阻率升高,电子平均自由程由于杂质散射作用的增强而得到显著抑制,为符合脏极限的超导样品。
庄承钢孟胜张从尧杨欢贾颖闻海虎郗小星冯庆荣甘子钊
关键词:碳掺杂
溶液法制备MgB_2超导膜研究被引量:1
2012年
介绍了利用溶液法制备Mg(BH4)2前驱体,进而在衬底上涂抹粘稠的Mg(BH4)2乙醚溶胶(Mg(BH4)2.Et2O)制备MgB2厚膜的方法,也可称为溶胶凝胶法制备MgB2。运用此种方法制备出了10μm级厚度、转变温度达到37 K的MgB2超导厚膜。这种方法设备简单、制膜所需温度低、原料便宜,并且无毒无污染。更为重要的是,这种方法克服了困扰工业上因为硼(B)在采购、运输和存储过程中易于氧化的缺点,可以通过将Mg(BH4)2.Et2O溶胶直接在衬底上均匀甩胶,进而大规模制备MgB2带材。可见溶液法制备MgB2是一种有着很大应用潜力的方法。
郭峥山陈艺灵冯庆荣
关键词:MGB2溶液法
混合物理化学气相沉积法制备MgB_2单晶纳米晶片的研究
2014年
利用混合物理化学气相沉积法在石墨衬底上制备出了晶形为六角结构、厚度不同、径向尺寸不一的Mg B2单晶纳米晶片.利用纳米定向转移技术将此晶片转移到了碳支持膜铜网上,以便对其精细结构等物性进行表征.电输运测量和磁性测量结果都表明晶片具有超导电性:T c onset=38K,T c(0)=33K.扫描电子显微镜图像表明,晶片表面平整、厚度分布在几个纳米到200 nm之间,宽度从几微米到上百微米;高分辨透射电镜图像显示出晶片具有周期性晶格条纹.选区电子衍射数据与Mg B2已有的单晶衍射数据相符.这些测量结果证实了其确为高质量单晶Mg B2超导纳米晶片.本文不仅提出了一种全新的制备单晶Mg B2的方法,也观察到了纳米尺度Mg B2单晶的零电阻现象,为后续的磁通钉扎、纳米力学性能等领域的深入研究提供了合适的素材.
张焱王越马平冯庆荣
关键词:B2零电阻
共1页<1>
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