公共文化服务平台

共 8 条记录，以下是 1-8

全选清除导出

排序方式：

Si(111)衬底上生长的ZnO薄膜的光学特性研究: 2011年; 利用等离子体分子束外延(P-MBE)设备在S i(111)衬底上制备了高质量的ZnO薄膜。通过扫描电镜观察了ZnO薄膜的表面形貌为的六角结构。X射线衍射谱显示ZnO薄膜为c轴择优取向的,ZnO(002)取向X射线衍射峰的最大半宽度仅0.18°。并通过室温和变温发光谱对ZnO薄膜的发光特性进行了研究。在低温下ZnO的发光以施主束缚激子为主,室温下发光的主要来源为ZnO的自由激子发光。; 宿世臣胡灿栋牛犇; 关键词：ZNO SI 光致发光

阴极电沉积ZnO薄膜的取向控制生长被引量：1: 2010年; 采用阴极电沉积法,在Zn(NO3)2水溶液中,以304不锈钢为衬底制备了ZnO薄膜,研究了Zn2+浓度和电流密度对ZnO薄膜择优取向的影响规律。XRD结果表明:随着Zn2+浓度和电流密度增大,ZnO薄膜逐渐由(002)面择优取向生长转变为(101)面择优取向生长;当Zn2+浓度为0.005mol.L-1、电流密度为2.0mA.cm-2或Zn2+浓度为0.05mol.L-1、电流密度为0.5mA.cm-2时,可以得到(002)面择优取向生长的ZnO薄膜;当Zn2+浓度为0.05mol.L-1、电流密度为2.0mA.cm-2时,可以得到(101)面择优取向生长的ZnO薄膜。根据二维晶核理论,通过分析不同生长条件下的过饱和度及其对ZnO的(002)型和(101)型二维晶核形核活化能的影响,对这一规律进行了解释。可见,通过改变Zn2+浓度和电流密度能够实现阴极电沉积ZnO薄膜的取向可控生长。; 柳文军蔡少敏谢红丝曹培江贾芳朱德亮马晓翠吕有明; 关键词：ZNO薄膜电沉积

利用脉冲激光沉积法制备高Mg掺杂的六方相MgZnO薄膜被引量：7: 2010年; 选用Mg0.2Zn0.8O陶瓷靶,利用脉冲激光沉积(PLD)法,在单晶Si(100)和石英衬底上生长了一系列MgZnO薄膜(MZO)。通过X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱(EDS)和紫外可见光透射光谱(UV-Vis)等实验手段,研究了在不同工作压强下生长的薄膜样品的晶体结构、微观形貌和光学性能的变化。结果表明:所有的薄膜样品都是单一的ZnO六方相,禁带宽度随生长压强的升高而增加,变化范围在3.83～4.05eV之间,最短吸收边接近300nm。; 朱德亮陈吉星曹培江贾芳柳文军马晓翠吕有明; 关键词：脉冲激光沉积光学性能

ZnMgO/n-ZnO/ZnMgO/p-GaN异质结LED的紫外电致发光被引量：7: 2011年; 利用等离子体辅助分子束外延(P-MBE)技术制备了ZnMgO/n-ZnO/ZnMgO/p-GaN异质结LED。Ni/Au电极与p-GaN、In电极与ZnMgO之间都形成了良好的欧姆接触。在ZnMgO/n-ZnO/ZnMgO/p-GaN异质结器件中观察到了明显的整流特性。异质结的电致发光强度随着注入电流的增大而逐渐增强。室温下在注入电流为20 mA时,电致发光光谱由位于370 nm和430 nm的两个发光峰构成。通过异质结的电致发光光谱与ZnO和GaN材料的光致发光光谱相比较确认:位于370 nm的发光来源于ZnO的自由激子,这主要是利用了ZnMgO/ZnO/ZnMgO的双异质结结构,这种双异质结结构能够阻挡ZnO中的电子进入GaN中,而GaN中的空穴可以进入到ZnO层中。盖层的ZnMgO作为一个限制层,能够提高载流子的复合效率,从而实现ZnO异质结的室温电致激子发光。; 宿世臣吕有明; 关键词：ZNO GAN ZNMGO 电致发光

射频溅射功率对AZO薄膜结构及光电特性和热稳定性的影响被引量：8: 2010年; 采用射频磁控溅射法,在玻璃基片上制备了ZnO:Al(AZO)透明导电薄膜。用X射线衍射(XRD)仪、紫外-可见分光光度计、方块电阻测试仪和台阶仪对不同溅射功率下Al掺杂ZnO薄膜的结晶、光学、电学性能、沉积速率以及热稳定性进行了研究。研究结果表明:不同溅射功率下沉积的AZO薄膜具有六角纤锌矿结构,均呈c轴择优取向;(002)衍射峰强和薄膜的结晶度随溅射功率的提高逐渐增强;随溅射功率的提高,AZO薄膜的透射率有所下降,但在可见光(380～780nm)范围内平均透射率仍>80%;薄膜的方块电阻随溅射功率的增加逐渐减小;功率为160～200W时,薄膜的热稳定性最好,升温前后方块电阻变化率为13%。; 马晓翠叶家聪曹培江柳文军贾芳朱德亮吕有明; 关键词：磁控溅射 AZO薄膜射频功率热稳定性

氧气流量对脉冲激光沉积ZnO薄膜的形貌及光学性质影响被引量：8: 2010年; 使用脉冲激光沉积(PLD)方法在石英(SiO2)和单晶Si(111)基底上制备了具有高c轴择优取向的ZnO薄膜。测试结果显示:在30～70sccm氧气流量范围内,氧气流量50sccm时制备的ZnO薄膜具有较好的结晶质量、较高的光学透过率(≥80%)、较高的氧含量(～40.71%)、较快的生长速率(～252nm/h)和较好的发光特性:450～580nm附近发射峰最弱,同时～378nm附近的紫外发光峰最强,表明薄膜材料中含有较少的氧空位等缺陷。; 曹培江林传强曾玉祥柳文军贾芳朱德亮马晓翠吕有明; 关键词：脉冲激光沉积 ZNO薄膜

衬底温度对ZnO薄膜的结构和光学特性的影响被引量：2: 2011年; 利用等离子体辅助分子束外延(P-MBE)设备在蓝宝石衬底上通过改变生长温度,制备了不同的ZnO样品。研究了衬底温度对ZnO的结构、光学和电学性质的影响。样品的晶体结构利用X射线衍射谱进行表征。X射线衍射谱表明,所有的ZnO样品都是(002)取向的六角纤锌矿结构。随着生长温度的升高,X射线的(002)衍射峰的半峰全宽逐渐减小。样品的表面形貌随着衬底的温度改变而变化,在800℃得知了平整的ZnO表面。通过光致发光的实验得知,ZnO的紫外发光随着生长温度的升高,强度逐渐增强。光致发光的来源为ZnO的自由激子发光。在生长温度为800℃时,得到了高质量的ZnO单晶薄膜,X射线衍射峰的最大半峰全宽为0.05°,霍尔迁移率为51 cm2/(V.s),载流子浓度为1.8×1018cm-3。; 宿世臣吕有明张吉英申德振; 关键词：氧化锌光致发光

m面蓝宝石上ZnO/ZnMgO多量子阱的制备及发光特性研究被引量：4: 2011年; 利用等离子体辅助分子束外延设备(P-MBE)在m面的蓝宝石(m-Al2O3)衬底上制备了ZnO/Zn0.85Mg0.15O多量子阱.反射式高能电子衍射谱(RHEED)图样的原位观察表明,多量子阱结构是以二维模式生长的.从光致发光谱中可以看到ZnO/Zn0.85Mg0.15O多量子阱在室温仍具有明显的量子限域效应.在290K时阱宽为3nm的ZnO/Zn0.85Mg0.15O量子阱的发光峰位于3.405eV,通过变温发光谱研究了ZnO/Zn0.85Mg0.15O多量子阱的发光来源,在较低温度下为ZnO束缚激子辐射复合,而在较高温度下发光以自由激子为主.3nm的ZnO/Zn0.85Mg0.15O多量子阱束缚能为73meV.; 宿世臣吕有明梅霆; 关键词：光致发光

全选清除导出

共1页<1>

广东省自然科学基金(8151806001000009)