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河南省教育厅自然科学基金(2008B140004)
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相关作者:
樊志琴
蔡根旺
黄浩
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最优实验条件下碳纳米管膜的场发射特性
2010年
利用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)方法,在不锈钢衬底上直接沉积碳纳米管膜。通过正交设计方法综合研究了反应温度、气压、沉积时间、甲烷流量对碳纳米管膜场发射性能的影响。结果表明,不同条件下制备的碳纳米管膜的场发射性能有很大差异,其中起主要作用的是反应温度和气压。保持氢气的流量(100mL/min)不变,温度为700~800℃时,反应室压强为6.5kPa时,场发射性能最好,开启场强仅为0.8V/μm,发射点分布密集、均匀。
樊志琴
蔡根旺
李瑞
黄浩
张君德
王建星
康广生
关键词:
碳纳米管
MPCVD
场发射
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