您的位置: 专家智库 > >

国家自然科学基金(51032005)

作品数:13 被引量:39H指数:5
相关作者:赵修建夏冬林赵青南殷官超刘莹更多>>
相关机构:武汉理工大学江苏秀强玻璃工艺股份有限公司更多>>
发文基金:国家自然科学基金中央高校基本科研业务费专项资金江苏省科技成果转化专项资金更多>>
相关领域:一般工业技术理学化学工程金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 13篇期刊文章
  • 3篇会议论文

领域

  • 6篇化学工程
  • 6篇一般工业技术
  • 6篇理学
  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 5篇折射率
  • 5篇溅射
  • 5篇磁控
  • 5篇磁控溅射
  • 3篇硅薄膜
  • 2篇带隙
  • 2篇氮化
  • 2篇氮化硅
  • 2篇氮化硅薄膜
  • 2篇润湿
  • 2篇润湿角
  • 2篇透射
  • 2篇透射率
  • 2篇氢化非晶硅
  • 2篇微观结构
  • 2篇微结构
  • 2篇硫化
  • 2篇纳米
  • 2篇光学
  • 2篇光学带隙

机构

  • 15篇武汉理工大学
  • 4篇江苏秀强玻璃...

作者

  • 8篇赵修建
  • 5篇夏冬林
  • 3篇赵青南
  • 3篇殷官超
  • 2篇陶海征
  • 2篇刘俊
  • 2篇刘莹
  • 2篇王朔
  • 2篇徐俊
  • 2篇雷盼
  • 1篇袁文辉
  • 1篇曾妩
  • 1篇董玉红
  • 1篇冯晋阳
  • 1篇黄波
  • 1篇缪灯奎
  • 1篇马晓
  • 1篇张文元
  • 1篇赵长林
  • 1篇隋小涛

传媒

  • 3篇人工晶体学报
  • 2篇稀有金属材料...
  • 2篇硅酸盐学报
  • 2篇武汉理工大学...
  • 1篇材料导报
  • 1篇Journa...
  • 1篇材料科学与工...
  • 1篇影像科学与光...

年份

  • 1篇2019
  • 2篇2016
  • 1篇2015
  • 4篇2012
  • 4篇2011
  • 4篇2010
13 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
磷掺杂对非晶硅薄膜结构及光电性能的影响被引量:5
2011年
采用射频等离子增强化学气相沉积方法制备了磷掺杂氢化非晶硅(a-Si:H)薄膜。通过Raman散射光谱研究了不同磷烷掺杂含量薄膜的微结构,利用分光光度计对薄膜的厚度、消光系数和折射率进行了模拟,用高阻仪测得了非晶硅薄膜暗电导率。结果表明:薄膜的中程有序度随着磷掺杂量(?)(体积分数)的增加而减小;折射率在(?)为0 8%时最大;在结构无序度随着(?)而增大的影响下,薄膜暗电导率在(?)为1%时达到最大,为8.41×10^(-3)S/cm。
殷官超高峰袁文辉夏冬林赵修建
关键词:氢化非晶硅等离子增强化学气相沉积
硫化温度对CuInS_2薄膜微结构和光学性能的影响被引量:2
2011年
采用磁控溅射法在玻璃衬底上沉积Cu-In合金预置膜,采用固态硫源在N2气氛下硫化热处理的方法制备了CuInS2薄膜。研究了硫化温度对CuInS2薄膜的晶相结构、表面形貌和光学带隙等性能的影响。采用X射线衍射(XRD)、场发射扫描电镜(FE-SEM)、紫外-可见光谱(UV-Vis)等测试手段对薄膜的晶相结构、表面形貌、光学性能进行了表征。结果表明,Cu-In合金预置膜经550℃硫化热处理20min可制备出黄铜矿结构的CuInS2薄膜,并具有(112)面的择优取向,所制备的CuInS2薄膜晶粒粒径约为1μm,光学带隙为1.51eV。
夏冬林刘俊张兴良赵修建
关键词:磁控溅射硫化微观结构光学带隙
Effect of Heat-treatment on Crystalline Phase and UV Absorption of 60CeO_2-40TiO_2 Thin Films by Magnetron Sputtering被引量:5
2012年
60CeO2-40TiO2 thin films were deposited on soda-lime silicate glass substrates by R.F. magnetron sputtering. The effects of heat-treatment on the UV-absorption of the thin films were studied on the 60CeO2-40TiO2 thin film with the largest UV cut-off wavelength. The sample films with CeO2:TiO2=60:40 were heated at 773 K, 873 K, 973 K for 30 min. These films are characterized by X-ray diffraction (XRD), scanning electron microscopy (SEM), and X-ray photoelectron spectroscopy and spectrometer (XPS). XRD analysis proves that the addition of TiO2 to CeO2 changed the crystalline state of CeO2. But the UV absorption effect of CeO2-TiO2 films with CeO2 crystallite phase is inferior to that of the amorphous phase CeO2-TiO2 films. XPS analysis also indicates that the amorphous phase CeO2-TiO2 films have the most Ce3+ content in these films. Amorphous phase and crystalline phase of the CeO2-TiO2 films have different effects on UV absorption of the thin films.
倪佳苗赵修建
关键词:TIO2薄膜紫外吸收XPS分析扫描电子显微镜
氮化硅薄膜热处理前后表面组成和折射率
在不同Ar/N流量比的气氛下,用磁控反应溅射方法在玻璃基片上沉积了氮化硅薄膜,然后在大气环境、730℃下对制备的氮化硅薄膜样品进行了4.5分钟快速热处理。用nkd-System Spectrophotometer测试了薄...
赵青南董玉红刘莹赵庆忠赵修建
关键词:氮化硅薄膜高温热处理折射率磁控溅射
文献传递
辉光功率对n型a-Si:H薄膜结构及性能的影响
2011年
采用射频等离子增强化学气相沉积(RF-PECVD)方法,以氢稀释的硅烷(SiH4)为反应气体,磷烷(PH3)为掺杂气体,制备了n型氢化非晶硅(a-Si:H)薄膜。研究了辉光放电功率对薄膜微结构和光电性能的影响,采用XRD和拉曼散射光谱对薄膜的微结构进行了表征,薄膜的折射率通过NKD-7000 W光学薄膜系统拟合,薄膜暗电导率利用高阻仪测试。结果表明:在辉光功率30-150 W范围内,所沉积的磷掺杂的硅薄膜为非晶态;非晶态薄膜结构中程有序度随辉光功率的增大先增大后减小,在功率为100 W时非晶硅薄膜中程有序程度最高;薄膜的折射率随着辉光功率的增大先增加后减小,在功率为70 W达到最大值3.7;薄膜暗电导率在100 W最大,其最大值为9.32×10^-3S/cm。
殷官超夏冬林马晓冯晋阳赵修建
关键词:氢化非晶硅薄膜有序度折射率拉曼光谱
氮化硅薄膜热处理前后表面组成和折射率被引量:7
2010年
在不同Ar/N2流量比的气氛下,用磁控反应溅射方法在玻璃基片上沉积了氮化硅薄膜,然后在大气环境、730℃下对制备的氮化硅薄膜样品进行了4.5 min快速热处理。用nkd-System Spectrophotometer测试了薄膜的折射率,用X射线光电子能谱(XPS)分析了薄膜的元素组成和离子状态。结果表明,热处理前,氮化硅薄膜中存在单质Si,随着Ar/N2流量比的增加,氮化硅薄膜中的单质Si增加,薄膜的折射率增大;薄膜快速热处理后,氮化硅薄膜中存在O-Si-N,导致薄膜的折射率降低。对得到的结果进行了讨论。
赵青南董玉红刘莹赵庆忠赵修建
关键词:氮化硅薄膜高温热处理折射率磁控溅射
玻璃基SiO_2-TiO_2纳米孔薄膜被引量:3
2010年
针对光伏组件封装盖板玻璃,用溶胶-凝胶方法在玻璃上镀制了SiO2-TiO2纳米孔膜。研究了膜层中二氧化钛与二氧化硅比例对薄膜折射率的影响,分析了去离子水、无水乙醇与TEOS比例和薄膜可见光透射率的关系,以及快速热处理温度对膜层硬度的影响。用X射线光电子能谱(XPS)表征了薄膜的元素组成,用扫描电镜(SEM)观察了薄膜的表面形貌,使用接触角测试仪测试了镀膜玻璃的润湿性能,分析了薄膜的组成和表面形貌与光学性能的关系,对得到的结果进行了讨论。
董玉红赵青南刘莹缪灯奎尚明君赵庆忠赵修建
关键词:折射率透射率润湿角
磁控溅射Cu膜结构及电学性能研究
采用射频磁控溅射方法在普通玻璃基片上沉积Cu膜,研究了在100℃的沉积温度下,不同厚度、溅射功率以及热处理温度对Cu膜结构及电学性能的影响。结果表明,在相同溅射功率下,随着厚度的增加,结晶度增加,电阻率下降,到厚度达到4...
郑敏栋赵修建倪佳苗梁斐
关键词:磁控溅射电阻率
文献传递
沉积电位对电沉积ZnS薄膜的影响被引量:3
2012年
采用电沉积方法,在不同沉积电位条件下,在氧化锡铟(ITO)导电玻璃上沉积制备了ZnS薄膜,利用XRD、SEM和UV-VIS测试技术对在不同沉积电位所制备薄膜的晶相结构、表面微观形貌和光学性能进行了表征.研究结果表明:沉积电位在1.5V—1.7V范围内制备的ZnS薄膜呈非晶态,其可见光透过率从60%降低到20%,薄膜的光学带隙约为3.97eV.在沉积电位为2.0V条件下所沉积薄膜为ZnS结晶相和金属Zn混合相,薄膜透过率显著降低.
夏冬林雷盼石正忠徐俊
关键词:ZNS薄膜电沉积透过率光学带隙
玻璃基SiO2-TiO2纳米孔薄膜
本文针对光伏组件封装盖板玻璃,用溶胶-凝胶方法在玻璃上镀制了SiO-TiO纳米孔膜。研究了膜层中二氧化钛与二氧化硅比例对薄膜折射率的影响,分析了去离子水、无水乙醇与TEOS比例和薄膜可见光透射率的关系,以及快速热处理温度...
董玉红赵青南刘莹缪灯奎尚明君赵庆忠赵修建
关键词:折射率透射率润湿角
文献传递
共2页<12>
聚类工具0