您的位置: 专家智库 > >

国家高技术研究发展计划(06593NQ070)

作品数:3 被引量:18H指数:2
相关作者:张平吴一辉刘永顺宣明王淑荣更多>>
相关机构:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:化学工程一般工业技术电子电信更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 1篇化学工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇镀镍
  • 1篇电磁驱动
  • 1篇电镀
  • 1篇电镀镍
  • 1篇镀镍工艺
  • 1篇掩模
  • 1篇微反射镜
  • 1篇微机械
  • 1篇微结构
  • 1篇微型泵
  • 1篇无阀微泵
  • 1篇均匀性
  • 1篇光亮镀
  • 1篇光亮镀镍
  • 1篇光亮镀镍工艺
  • 1篇反射镜
  • 1篇MEMS工艺

机构

  • 3篇中国科学院长...

作者

  • 3篇刘永顺
  • 3篇吴一辉
  • 3篇张平
  • 2篇李加东
  • 2篇王淑荣
  • 2篇宣明
  • 1篇于震雷
  • 1篇张涛

传媒

  • 2篇功能材料与器...
  • 1篇光学精密工程

年份

  • 3篇2008
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
掩模电镀镍微结构的镀层均匀性研究被引量:16
2008年
在给定的电镀液组分下,对掩模电镀微结构的厚度均匀性及镀层横截面轮廓进行了研究,讨论了影响微结构镀层厚度均匀性的主要因素,分析了镀层横截面轮廓随电流密度的改变而变化的原因。电镀液中无添加剂时,镀层均匀性与阴极极化度及电镀边缘效应直接相关;电镀液中有添加剂时,本实验所使用添加剂所具有的并存吸附状态是影响镀层均匀性的主要因素。通过实验得到可获得良好均匀性镀层的电镀参数为:i=(6±2)mA/cm2,t=25℃。
李加东吴一辉张平宣明刘永顺王淑荣
关键词:微结构均匀性
应用于微反射镜制作的光亮镀镍工艺被引量:2
2008年
研究了一种可用于微反射镜制作的光亮镀镍工艺。分析了微小面积电镀时出现边缘效应的问题,提出了增加牺牲结构的方法提高沉积速率并降低电镀边缘效应。通过脉冲微电镀实验,讨论了电流对电镀边缘效应的影响,同时分析了影响镀层表面质量的因素,得出了一组具有参考价值的电镀参数,电镀出了长620μm、宽500μm、厚2μm的微反射镜表面结构,经测量计算,该条件下,镍的生长速度约为0.1μm/m in,表面平均粗糙度约为4.376nm。
李加东宣明吴一辉张平王淑荣刘永顺
关键词:光亮镀镍微反射镜
基于MEMS工艺的电磁驱动无阀微泵被引量:1
2008年
基于实现主动微流体芯片的目的,提出了一种非闭合磁路型电磁驱动无阀微泵。微型电磁驱动器采用硅深刻蚀和微电铸工艺制作在硅基体上,微泵泵体的收缩/扩张单元采用微机械工艺制作,采用两步注塑工艺加工磁性PDMS(polymethylsiloxane)振动膜。电磁微泵样机的实验结果显示:该微泵的工作性能稳定,整机具有较高的体积功能比,样机尺寸32mm×28mm×10mm,在0.6A电流输入,工作频率为13Hz时,流量可达180μl/min,零流量下的最大背压达2.75mbar。
张涛吴一辉张平刘永顺于震雷
关键词:微机械微型泵
共1页<1>
聚类工具0