同济大学波耳固体物理研究所
- 作品数：723 被引量：2,702H指数：24
- 相关作者：邱勋林张慧琴梁玲肖轶群肖春更多>>
- 相关机构：上海理工大学理学院郧阳师范高等专科学校物理系上海理工大学理学院物理系更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划上海市教育委员会重点学科基金更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术电子电信化学工程更多>>
- 微孔结构氟聚合物铁电驻极体的制备及其热稳定性研究
- 描述了一种微孔结构氟聚合物铁电驻极体的制备方法,利用准静态方法测量了该功能膜的压电系数 d,并通过等温衰减和热刺激放电电流谱的测量研究了 d的热稳定性．结果表明,这类氟聚合物铁电驻极体膜的准静态压电系数 d与热压时间有关...
- 张晓青黄金峰王姝万振茂陈剑波王学文夏钟福
- 关键词：氟聚合物驻极体压电性热稳定性微孔结构
- 文献传递
- 光子晶体耦合腔波导的色散特性被引量：9
- 2005年
- 理论研究表明 ,在基于光子晶体的耦合腔波导中 ,杂质带的色散性质取决于相邻缺陷间局域电磁场的特性 ,而非缺陷间距离的大小 .在第一布里渊区中出现的杂质带的反常色散实际上是能带折叠的结果 .通过计算结构的有效折射率 ,证实了杂质带色散是正常色散 .
- 冯立娟江海涛李宏强张冶文陈鸿
- 关键词：光子晶体反常色散
- 恒流电晕充电对ETFE驻极体驻极态的影响
- 作者利用常温恒流和恒压电晕充电及充电后的等温表面电位衰减测量、热刺激放电(ThermallyStimulatedDischarge,TSD)电流谱分析和热脉冲技术对电荷重心的测量和分析等方法,研究了以恒流和恒压电晕充电形...
- 沈莉莉夏钟福冀忠宝朱建伟
- 文献传递
- 一维传输线结构负折射材料的带隙深度计算
- 2004年
- 详细分析了C-L周期性结构的一个单元的传输性质,并在此基础上分析了多单元的周期性结构的透射系数S21与电容电感之间的关系,定性分析了一维周期性结构的C-L网络的电磁特性产生的物理机制,给出了带隙产生的物理根源,最后给出了实验结果,并对实验结果进行了详细的讨论.
- 王素玲苏本庆
- 关键词：阻抗变换
- 一种金属——电介质复合型微波人工带隙材料
- 2002年
- 介绍了一种用铜箔和环氧玻璃布层压板复合并利用简单印刷电路技术制作的微波频段人工带隙材料,同时对其在1～20GHz频率范围内的TE表面波传输情况进行了测试.用LC模型对结果进行了分析比较.实验表明:各材料在一定频率范围内均有明显的禁带出现.
- 宋文仙张冶文李宏强陈鸿
- 关键词：光子晶体微波频段
- 表面活性剂浓度对介孔氧化硅薄膜结构和性能的影响研究被引量：2
- 2004年
- 报道了一种新型纳米多孔氧化硅薄膜的制备方法 ,并详细探讨了表面活性剂浓度对介孔氧化硅薄膜结构和性能的影响。以十六烷基三甲基溴化铵 (CTAB)为模板剂 ,正硅酸乙酯为硅源 ,盐酸为催化剂 ,采用溶胶 -凝胶技术 ,通过提拉法制备了二氧化硅透明介孔薄膜。用红外光谱、小角XRD、原子力显微镜对样品进行了表征 ,并采用椭偏仪和阻抗分析仪测量薄膜的折射率和介电常数。该薄膜具有很低的介电常数和较好的机械强度 。
- 吴兆丰吴广明姚兰芳
- 关键词：溶胶-凝胶技术介电常数
- 含单负材料的一维光子晶体的杂质模被引量：5
- 2007年
- 采用转移矩阵的方法研究了含单负材料的一维光子晶体中掺入双层正常材料杂质时杂质模频率的变化问题.研究结果表明,杂质模频率与晶格常量的标度无关,且对晶格常量的涨落很不敏感.同时,通过增加杂质层厚度及层数发现,杂质模频率随之减小,而它的变化率随之增加,且杂质模消失在低频带边的速度会越来越快.
- 董丽娟江海涛杨成全石云龙
- 关键词：光子晶体单负材料转移矩阵
- 无机分散溶胶-凝胶法制备块状锂基气凝胶被引量：6
- 2008年
- 以无机锂盐(LiCl)的醇溶液为前驱体,聚丙烯酸(PAA)既作为分散剂又为凝胶引导剂,环氧丙烷为凝胶促进剂,采用溶胶-凝胶工艺制备了块状锂基醇凝胶,经CO2超临界流体干燥工艺,得到白色锂基气凝胶块体样品,其密度约为150 g/m3。用透射电镜(TEM)对气凝胶的微观结构进行分析表明,气凝胶样品由线性骨架构成网络结构。结合红外光谱分析及XPS测试结果分析可知,样品中主要含有锂、碳元素。由BET测试结果可知,样品比表面积达18.9 m2/g。
- 肖淑芳周斌万慧军杜艾徐翔杨小云沈军吴广明张志华
- 关键词：聚丙烯酸环氧丙烷
- 铝衰减膜表面氧化对软X光透过率的影响与修正被引量：1
- 1999年
- 对用不同方法制备的软Ｘ光激光实验用的Ａｌ衰减膜样品，用Ａｕｇｅｒ电子能谱（ＡＥＳ）结合氩离子束刻蚀进行了组分的表面和深度分布分析，结果表明表面氧化层主要由Ａｌ２Ｏ３组成，氧化达到饱和时的氧化层厚度≈７．５ｎｍ。由于在软Ｘ光波段内，氧的吸收系数比铝大一个多数量级，这一氧化层对软Ｘ光透过率的影响甚大。将ＡＥＳ测试结果作为参数，使用公式Ｉ＝Ｉ０·ｅｘｐ［－μ（Ｅ）·（ρｄ）］对Ｘ光透过强度进行修正。同步辐射软Ｘ光对样品透过率的直接测量表明，对于透过率大于２０％的Ａｌ膜，直接测量结果与按修正公式计算的结果在最大偏差１１％范围内符合。
- 赖珍荃沈军杜保旗王珏王珏
- 关键词：透过率X光激光
- 深振幅Al调制靶的化学腐蚀制备工艺研究被引量：3
- 2005年
- 介绍了用于惯性约束聚变分解实验的铝调制靶的制备。以半导体光刻工艺结合化学腐蚀工艺在铝箔表面引入周期为50μm的条槽图形,研究腐蚀条件对腐蚀速率的影响;采用光学显微镜、扫描电镜和台阶仪对图形形貌和样品表面成分进行测量和分析,获得厚度在32μm左右、腐蚀深度达到20μm的铝调制靶。
- 孙骐周斌杨帆沈军吴广明
- 关键词：惯性约束聚变化学腐蚀
