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富士纺控股株式会社
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旭硝子株式会社
国立大学法人九州大学
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化学工程
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2021
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2020
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2019
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2018
8篇
2017
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2016
4篇
2015
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2篇
2012
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研磨垫
研磨垫(13)用于对具有凸状曲面部分(1a)的被研磨物(1)的所述凸状曲面部分进行研磨,其特征在于,在圆盘状且具有厚度的弹性体的侧表面配置有环状凹研磨部(13a),一边以该圆盘的圆的中心为轴沿圆周方向驱动所述环状凹研磨部...
柏田太志
德重伸
高桥大介
文献传递
研磨垫
提供了一种在对具有变化厚度的被研磨物的表面进行研磨时,可提高研磨精度并可抑制研磨不均的研磨垫。研磨垫(1)是将具有研磨面(9)的上层片材(3)及下层片材(5)至少两片片材贴合而构成的,上层片材的厚度为1.0mm~2.0m...
高桥大介
高田直树
前田宪孝
文献传递
研磨垫和研磨垫的制造方法
根据本发明,提供能够抑制光透过率的不均的研磨垫或者能够减少研磨屑向透光性树脂构件(窗构件)的研磨面侧的表面的附着、固着的研磨垫。
立野哲平
田中启介
喜乐香枝
小池坚一
栗原浩
宫内庆树
研磨垫及研磨方法
本发明提供一种研磨垫,所述研磨垫具有研磨构件,所述研磨构件具有研磨面,所述研磨构件含有具有膨胀特性的材料。
土肥俊郎
濑下清
高木正孝
柏田太志
文献传递
研磨垫及研磨加工物的制造方法
本发明的目的是提供能够减少划痕产生的研磨垫及研磨加工物的制造方法。研磨垫,其具备聚氨酯片作为研磨层,在浸水状态下以频率1.6Hz、20~100℃的条件进行的动态粘弹性测定中,所述聚氨酯片在40~60℃的范围内具有损耗角正...
松冈立马
栗原浩
鸣岛早月
高见泽大和
基板固定环
1.本外观设计产品的名称:基板固定环。;2.本外观设计产品的用途:用于研磨机械。;3.本外观设计产品的设计要点:在于产品的形状。;4.最能表明本外观设计设计要点的图片或照片:设计1立体图。;5.指定基本设计:本外观设计申...
广田幸史
铃木基文
永岛匠
研磨垫及其制造方法
本发明提供一种研磨垫,所述研磨垫是含有在研磨布基体含浸聚氨酯树脂及碳化硅而成的含树脂研磨布的研磨垫,所述碳化硅的粒径在0.2μm至3.0μm的范围内,而且在含树脂研磨布中,相对于研磨布基体100质量份是含有60质量份至5...
柏田太志
小池坚一
徳重伸
文献传递
玻璃基板保持用膜体及玻璃基板的研磨方法
本发明涉及一种玻璃基板保持用膜体,通过借助双面胶粘片将自吸附型片粘贴在背板上而构成,并且玻璃基板吸附保持于所述自吸附型片上,其中,所述双面胶粘片包含配置在同一面内的多片双面胶粘片,该多片双面胶粘片以相邻的双面胶粘片各自隔...
横田稔
古田充
笹森孝
文献传递
研磨垫及研磨垫的制造方法
一种研磨垫,具有包含聚氨基甲酸酯树脂发泡体的研磨层,所述聚氨基甲酸酯树脂发泡体源自异氰酸酯末端预聚物及硬化剂,所述研磨垫中,通过X射线小角散射法测定的所述研磨层中的硬链段间的距离为9.5nm以下,或者,通过脉冲NMR法在...
立野哲平
栗原浩
山口早月
高见沢大和
越智恵介
川崎哲明
研磨垫、及研磨加工物的制造方法
本发明涉及具备研磨层和缓冲层的研磨垫,在干燥状态、频率10rad/s、20~100℃的弯曲模式条件下进行的动态粘弹性测定的40℃时的储能模量E’<Sub>B40</Sub>相对在干燥状态、频率10rad/s、20~100...
立野哲平
松冈立马
栗原浩
鸣岛早月
高见泽大和
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