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株式会社国际电气

作品数：966 被引量：0H指数：0
相关机构：株式会社椿本链条信越石英株式会社株式会社富士金更多>>
相关领域：电子电信自动化与计算机技术文化科学经济管理更多>>

合作机构

文献类型

  • 966篇中文专利

领域

  • 238篇电子电信
  • 48篇自动化与计算...
  • 40篇文化科学
  • 32篇经济管理
  • 14篇金属学及工艺
  • 6篇理学
  • 4篇化学工程
  • 4篇轻工技术与工...
  • 3篇机械工程
  • 3篇电气工程
  • 3篇航空宇航科学...
  • 2篇交通运输工程
  • 2篇医药卫生
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇环境科学与工...

主题

  • 818篇半导体
  • 530篇基板
  • 464篇半导体器件
  • 389篇介质
  • 388篇记录介质
  • 368篇衬底
  • 350篇半导体装置
  • 138篇气体
  • 101篇排气
  • 84篇存储介质
  • 83篇反应管
  • 64篇均匀性
  • 51篇改性
  • 45篇含氧气体
  • 44篇支承
  • 44篇成膜
  • 43篇反应气体
  • 40篇等离子体
  • 39篇金属
  • 37篇氧化膜

机构

  • 966篇株式会社国际...
  • 4篇株式会社椿本...
  • 2篇株式会社富士...
  • 2篇信越石英株式...
  • 1篇国际电气株式...
  • 1篇株式会社日立...

年份

  • 265篇2024
  • 184篇2023
  • 136篇2022
  • 128篇2021
  • 122篇2020
  • 105篇2019
  • 20篇2018
  • 1篇2004
  • 1篇2003
  • 1篇1999
  • 1篇1997
  • 2篇1996
共 966 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
基板处理装置、半导体装置的制造方法以及存储介质
本发明提供一种基板处理装置、半导体装置的制造方法以及存储介质，能够提高基板上所形成的膜的基板面内膜厚分布的控制性。基板处理装置的气体供给系统具备：将第一处理气体暂时性地贮留的第一贮留部、将第一处理气体暂时性地贮留的第二贮...
奥田和幸樱井修三井之口泰启南政克
基板处理装置、基板处理方法以及半导体装置的制造方法
本发明提供一种基板处理装置，其具备：(a)具有上部被覆盖且在内侧收纳基板的筒部的处理管；(b)设于上述筒部的侧壁且从上述侧壁向外侧突出的供给缓冲区；(c)设于上述供给缓冲区的内侧且沿上述筒部的轴的方向延伸的第一喷射装置；...
平野敦士 笠松健太 西本英幸 守屋赳利
基板处理装置、半导体器件的制造方法以及程序
本发明提供一种技术，具备：控制部，其以执行工艺制程来处理基板的方式进行控制；以及控压控制器，其调节设于对基板进行处理的处理室的排气管线的压力调节阀的开度，控制处理室的压力，控压控制器在控制所述处理室的压力时，对压力调节阀...
中谷一夫 安藤文恵 西浦进 越湖裕
文献传递
衬底处理装置、半导体器件的制造方法、记录介质
本发明涉及衬底处理装置、半导体器件的制造方法、记录介质。本发明的目的在于，提供能够在处理室中抑制大气气氛的侵入的技术。本发明的技术具有：支承衬底的衬底支承部；处理室，其具有处理所述衬底的第一空间；排气部，其对所述第一空间...
大野干雄村田慧
文献传递
冷却单元、绝热结构体、基板处理装置、以及半导体装置的制造方法
本发明涉及冷却单元、绝热结构体、基板处理装置、以及半导体装置的制造方法，提供使区域间的加热和冷却控制的响应性改善的结构。构成为具备：设置于每个区域并供给使反应管冷却的气体的吸气管；设置于该吸气管并对气体的流量进行调整的控...
小杉哲也村田等上野正昭
文献传递
基板处理装置、基板处理方法、半导体装置的制造方法以及存储介质
本发明公开一种以抑制在基板上生成的薄膜的面内均匀性的降低为目的的技术。该技术具备：处理室；处理气体供给系统，其向处理室供给处理气体；排气系统，其对处理室内进行排气；等离子体发生构造，其向处理室供给等离子体；旋转轴，其能够...
江尻靖则
基板处理装置、反应容器、半导体器件的制造方法以及记录介质
本发明提供一种基板处理装置，其具备：反应容器，其供具有支承基板的基板支承区域的基板支承工具以及设于基板支承区域的下部的隔热部插入，在反应容器的内壁的与基板支承区域相对置的部分的下侧配置有朝向反应容器的内侧突出的突出部的端...
野野村一树
文献传递
基板处理装置、半导体器件的制造方法以及记录介质
本发明提供基板处理装置、半导体器件的制造方法以及记录介质，提供能够提高基板的搬送效率的技术。提供一种技术，具备：能够进行基板的处理的至少一个处理室；能够支承所述基板的支承器具；能够搬送所述支承器具的搬送单元；能够进行所述...
竹林雄二越卷寿朗
处理装置、半导体器件的制造方法以及记录介质
本发明能够在恰当的时机去除除害装置上附着的副生成物而提高装置的运转率。处理装置至少具有：构成于处理炉内的处理室；与多个除害装置连接并从该处理室排出气体的排气系统；和执行在搬入处理室的基板上形成膜的工艺配方的控制部，该控制...
奥野正则米岛利彦
基板处理装置、半导体器件的制造方法及记录介质
本发明提供能够检测基板是否已被正常处理的基板处理装置、半导体器件的制造方法及记录介质。本发明的基板处理装置(1)包括：处理室(136～139)，其进行基板(200)的处理；存储部(322)，其存储配方信息、工艺数据、偏差...
山本一良林原秀元屋敷佳代子浅井一秀
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