北京航空航天大学物理科学与核能工程学院凝聚态物理与材料物理研究中心
- 作品数：17 被引量：49H指数：5
- 相关作者：褚立华薛亚飞张放放丁磊陈尔东更多>>
- 相关机构：大连理工大学物理与光电工程学院大连理工大学电子科学与技术学院大连理工大学物理与光电工程学院物理系更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金教育部“新世纪优秀人才支持计划”国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术电子电信化学工程更多>>
- 厚度对室温沉积ZnO∶Al薄膜光电特性的影响被引量：3
- 2009年
- 利用直流磁控溅射法,在室温玻璃衬底上制备了具有良好附着性的多晶ZnO∶A l(ZAO)薄膜。比较了室温下获得的薄膜与衬底加热条件下所得薄膜的结晶程度,研究了厚度对室温条件下制备的ZAO薄膜表面形貌、电学性能及紫外-可见-近红外光区透光性的影响。结果表明,室温条件下制备的ZAO薄膜也具有(002)面择优取向,随着膜厚的增加薄膜晶粒化程度提高,载流子浓度和迁移率增大,电阻率下降,薄膜在紫外光区的吸收边发生红移,在可见光区的平均透过率降低,在近红外光区的透过率随厚度的增加而减小。厚度为1200 nm的ZAO薄膜具有最佳光电综合性能,其电阻率为7.315×10-4Ω.cm,方块电阻为6.1Ω/□,可见光区平均透过率达到82%,波长为550 nm处的透过率为87%。
- 孟超王文文顾宝霞曹晔刁训刚康明生
- 关键词：直流磁控溅射透明导电薄膜光电特性
- WO_3薄膜的微观结构与电致变色机制研究被引量：7
- 2010年
- 采用直流反应磁控溅射方法在ITO导电玻璃上沉积了WO3薄膜,研究了靶基距对其微结构和电致变色性能的影响,利用XRD、SEM和XPS对薄膜的微结构和成分进行了表征。通过可见光透射谱对样品的电致变色性能进行了研究,并且讨论了WO3薄膜电致变色性能与其微结构、价态变化之间的关系。发现靶基距为7cm的情况下沉积得到的WO3薄膜呈非晶态,薄膜有更多的孔隙,有利于Li+的抽取,进而显示出较好的电致变色性能。反应溅射制备的WO3薄膜中W是W6+价态,颜色为透明状,当发生着色反应时,随着薄膜中Li+成分增加,薄膜颜色变为蓝色,薄膜中W原子为W6+和W5+的混合价态。认为其电致变色的行为是由于Li+和e-在薄膜中的注入和拉出引起的W6+和W5+发生转化所致。
- 杨海刚王聪宋桂林王天兴常方高
- 关键词：WO3薄膜磁控溅射
- Mo-Al_2O_3金属陶瓷颗粒膜的光学常数研究被引量：5
- 2007年
- 采用磁控溅射技术在不锈钢片上沉积了Mo-Al2O3金属陶瓷混合膜,将Maxwell-Garnett等效媒质理论应用于Mo-Al2O3颗粒膜的光学常数分析,分别以Mo和Al2O3的块体材料和溅射薄膜的光学常数为基础,理论计算了不同金属填充因子金属陶瓷颗粒膜在300nm～800nm波段范围内的光学常数n,k随波长λ的变化规律,同时对理论计算结果与实验测试结果之间存在的差异及其产生的原因进行了讨论。
- 周珑王天民杜心康陈步亮茹宁王聪
- 关键词：颗粒膜光学常数
- Ag反点阵列修饰TiO_2薄膜的制备及光催化性能研究被引量：6
- 2012年
- 采用胶体晶体模板技术和磁控溅射工艺,通过调制溅射功率,制备了一系列不同形貌的Ag反点阵列修饰TiO2复合薄膜.通过扫描电子显微镜(SEM),X射线衍射(XRD),紫外-可见分光光度计(UV-Vis)和四探针测试仪等手段对样品的结构和光催化性能进行了表征.实验结果表明:Ag反点阵列的形貌对样品光催化性能有显著影响.随着反点孔径的减小,其导电性能迅速提升,样品的光催化性能逐渐增强.孔径为710nm时,复合薄膜的光催化性能达到最高.随后,继续减小孔径,样品的光催化性能出现了一定程度的下降,这是载流子损耗增多和遮光面积增大引起的.经Ag反点阵列修饰的样品的光催化性能均明显优于TiO2薄膜,主要是由于反点阵列可有效分离光生载流子,因此使其光催化活性得到显著提高.
- 祁洪飞刘大博成波郝维昌王天民
- 关键词：TIO2薄膜光催化性能载流子
- 直流磁控溅射技术制备TiNxOy薄膜
- 2008年
- 利用直流磁控溅射技术在玻璃衬底上制备了TiNxOy薄膜样品。发现薄膜的颜色、晶体结构、光学性质等都强烈依赖于反应气体的流量。利用光电子能谱（XPS）、X射线衍射（XRD）、UV—Vis分光光度计、扫描电子显微镜（SEM）等测试手段对样品进行表征。结果表明：随着O2流量的逐步增加，薄膜逐渐呈现非晶态，晶粒逐渐变小。薄膜结构从TiN到TiNxOy再向TiO2过渡。透射光谱显示从TiN的不透明逐渐增加到透明度为80％，且吸收阈发生蓝移。
- 陈尔东王聪杨海刚朱开贵
- 关键词：直流磁控溅射吸收光谱微观形貌
- 溅射工艺对金属Mo膜微观结构及红外反射特性的影响被引量：2
- 2012年
- 本文采用直流磁控溅射方法,改变溅射功率和溅射气压,在不锈钢基底上制备了金属Mo薄膜。分别采用XRD、SEM和傅立叶红外光谱仪对不同工艺参数下薄膜结构和红外反射谱进行了测试。讨论了工艺参数、晶体结构参数与红外反射特性之间的关系,分析了影响红外反射特性的原因。结果表明,在不同工艺条件下制备的金属Mo膜均呈现很强的(110)结晶取向,溅射功率和溅射气压均会通过影响溅射过程、薄膜结构、致密度和表面形态而影响Mo薄膜的红外反射率。
- 周珑孙玉静王聪
- 关键词：磁控溅射MO薄膜微观结构红外反射
- Au反点阵列孔径对Au/TiO_2复合薄膜光催化性能的影响被引量：3
- 2014年
- 通过对胶体晶体模板的反向复制,制备了反点阵列孔径各异的Au/TiO2复合薄膜.采用SEM,AFM,XRD,UV-Vis和四探针测试仪等手段对复合薄膜的结构和光催化性能进行了表征.通过对胶体晶体模板和反点阵列几何模型的计算,讨论了Au反点阵列在TiO2薄膜表面的覆盖面积与模板中微球粒径的关系.结果表明:反点阵列孔径对复合薄膜的光催化性能有显著影响.孔径增大,使反点阵列的导电性能提高,载流子的输运效率增强,促使光催化性能的提高;同时,孔径增大又造成光生电子向反点阵列迁徙过程中的复合几率加大,反而使光催化性能降低.2种作用共同导致了Au/TiO2复合薄膜的光催化性能随Au反点阵列孔径的增大出现先提高后降低的变化规律,并在孔径为3.3μm时达到最高.
- 祁洪飞刘大博滕乐金王天民罗飞田野
- 关键词：TIO2孔径光催化性能
- TiN_xO_y薄膜的制备及其光学特性被引量：1
- 2008年
- 用直流磁控溅射技术在玻璃基底上沉积TiNxOy薄膜。应用XRD与SEM表征了TiNxOy薄膜的晶化程度及表面形貌。在室温下300～900nm的波长范围内测量了薄膜的透射光谱，并根据“包络法”理论，计算了薄膜的光学常数。结果表明，随着入射波长的增加，薄膜的折射率n先减小后再增加；消光系数k单调增加；而吸收系数变化平缓。由“包络法”和Tauc关系确定TiNxOy薄膜的光学能隙约为2．213eV。
- 陈尔东王聪
- 关键词：直流磁控溅射光学特性包络法
- 基底及HMVF层厚度变化对NbSiN/NbSiNO/Si_3N_4涂层光学性能的影响被引量：1
- 2014年
- 采用多靶磁控溅射镀膜机,以在Si靶上加Nb片的方法分别在Cu和单面抛光不锈钢(SS)基底上制备NbSiN/NbSiNO/Si3N4和Mo/NbSiN/NbSiNO/Si3N4多层膜。用α-step台阶仪(DEKTAK IIA)测量膜层厚度,UVPC3100分光光度计和傅里叶红外光谱仪(EXCALIBUR FTS 3000)对样品的光学性质进行表征。实验表明:在Cu基底上制备的涂层吸收率α=0.90,发射率ε=0.12;以SS为基底,红外反射层Mo的厚度约为230nm时,在λ>2.5μm范围内反射率最高,达到90%以上。高金属体积分数吸收层(HMVF)厚度约为80nm时吸收率α=0.95,发射率ε=0.33;真空下500℃和600℃各20h退火后吸收率、发射率变化不大。
- 谢万峰闫金良刘宇薛亚飞张易军张放放王聪
- 关键词：光学特性吸收率发射率磁控溅射
- 水热法制备自组装纺锤形WO_3及其光催化性能
- 2015年
- 采用水热法,以NaCl为引导剂,调节不同的pH值得到形貌均一的纺锤形和花球形WO_3材料。采用XRD、SEM、TEM和Raman光谱研究了WO_3的形貌和结构,同时研究了不同形貌和不同退火条件下样品的太阳光催化降解罗丹明B的性能。研究发现,纺锤形WO_3具有更好的光催化降解罗丹明B的性能,纺锤形WO_3的光催化性能受其微观结构影响较大。
- 李叶生唐子龙张俊英张中太
- 关键词：WO3水热法光催化
