不二见株式会社
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- 制造存储器硬盘用的抛光组合物和抛光方法
- 本发明公开了一种抛光组合物,用于存储器硬盘用的磁盘基片,该抛光组合物包含:(a)组合物总重量的0.1—35%(重量)胶体二氧化硅作为磨料;(b)组合物总重量的0.04—2.2%(重量)硝酸铁作为抛光促进剂;(c)组合物总...
- 大桥圭吾
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- 抛光方法
- 公开了一种用于电阻率最大为0.1Ω·cm的硅晶片的抛光方法，该方法中使用的抛光组合物包括水，磨料和至少一种作为添加剂的化合物，所述化合物选自碱金属氢氧化物、碱金属碳酸盐、碱金属碳酸氢盐、季铵盐、过氧化物或过氧酸化合物。
- 井上穣伊东真时
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- 研磨用组合物及使用了该组合物的存储硬盘的制造方法
- 本发明提供了研磨速度较快、可防止刮痕的产生、并可减小表面粗度的用于研磨存储硬盘的组合物及使用了该组合物的存储硬盘的制造方法。该组合物包含水，二氧化硅，氧化剂及至少1种选自苹果酸、马来酸、乳酸、乙酸、柠檬酸、琥珀酸、富马酸...
- 安福昇大脇寿树横道典孝平野淳一
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- 喷雾用粉末及其制造方法
- 一种用于形成涂层的喷雾用粉末,以其总重量为基准,它包含80－97%(重量)的金属陶瓷粉末和3－20%(重量)金属粉末,金属粉末包含Cr和Ni,它们的总量为金属粉末总重量的至少90%,Cr含量为金属粉末总重量的0－55%(...
- 五日市刚大泽悟
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- 边抛光组合物
- 公开了一种用于晶片的边抛光组合物，它包含水和平均粒度为70—2,500纳米的二氧化硅。
- 井上穰河瀬昭博
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- 抛光组合物
- 一种抛光铝、铜或钨膜的组合物,它包含水和选自二氧化硅,氧化铝,氧化铈,氮化硅和氧化锆的抛光剂,所述组合物还包含溶解在组合物中的铁(Ⅲ)化合物,其中铁(Ⅲ)化合物选自焦磷酸铁(Ⅲ),柠檬酸铁(Ⅲ),柠檬酸铁(Ⅲ)铵,草酸铁...
- 児玉一志伊东真时铃村聡
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- 制造存储器硬盘用的抛光组合物和抛光方法
- 本发明公开了一种抛光组合物，用于存储器硬盘用的磁盘基片，该抛光组合物包含：(a)组合物总重量的0.1-35%(重量)胶体二氧化硅作为磨料；(b)组合物总重量的0.04-2.2%(重量)硝酸铁作为抛光促进剂；(c)组合物总...
- 大桥圭吾
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- 高速火焰喷涂枪和使用该喷涂枪的喷涂方法
- 本发明的热喷涂枪能形成高质量的陶瓷喷涂涂层。根据该喷涂枪，自该喷涂枪的燃烧室产生的火焰被送入自燃烧室到与燃烧室相连通的排放口形成的通道，然后火焰从排放口被排到喷涂枪外部。喷涂材料被提供到穿过通道的火焰中，这样喷涂材料能被...
- 五日市剛大澤悟森下徹
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- 抛光剂组合物
- 一种抛光剂组合物,它包含气相二氧化硅、碱性钾化合物及水,其电导率为100－5,500μs/cm。
- 三蒲司朗河村笃纪玉井一诚
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- 研磨用组合物及用该组合物研磨的方法
- 可有效防止铜(Cu)、铁(Fe)、镍(Ni)、铬(Cr)等过渡金属对被研磨物污染的研磨用组合物以及用其进行研磨的方法。研磨用组合物由以下物质组成:(a)二氧化硅、(b)从由碱金属无机盐、铵盐、环状铵和乙二胺组成的群中选择...
- 河濑昭博冈村正朗井上穰
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