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成都精密光学工程研究中心

作品数:508 被引量:1,279H指数:17
相关作者:马平鄢定尧杨春林张清华周礼书更多>>
相关机构:四川大学中国工程物理研究院哈尔滨工业大学更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划国家自然科学基金国家科技重大专项更多>>
相关领域:理学机械工程电子电信金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 299篇期刊文章
  • 126篇专利
  • 82篇会议论文
  • 1篇标准

领域

  • 158篇理学
  • 154篇机械工程
  • 127篇电子电信
  • 35篇金属学及工艺
  • 21篇化学工程
  • 17篇核科学技术
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  • 7篇自动化与计算...
  • 3篇经济管理
  • 3篇文化科学
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  • 2篇建筑科学
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  • 1篇生物学
  • 1篇航空宇航科学...

主题

  • 204篇光学
  • 122篇激光
  • 102篇光学元件
  • 60篇激光损伤
  • 59篇大口径
  • 58篇抛光
  • 51篇面形
  • 38篇损伤阈值
  • 25篇晶体
  • 24篇口径
  • 23篇激光损伤阈值
  • 21篇大口径光学元...
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  • 18篇衍射
  • 18篇光学薄膜
  • 18篇光栅
  • 17篇光学检测
  • 16篇熔石英
  • 15篇面形误差

机构

  • 508篇成都精密光学...
  • 77篇四川大学
  • 15篇中国工程物理...
  • 13篇哈尔滨工业大...
  • 12篇厦门大学
  • 11篇浙江大学
  • 10篇浙江师范大学
  • 10篇中国科学院上...
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  • 5篇西南科技大学
  • 5篇西南技术物理...
  • 4篇同济大学
  • 4篇重庆大学
  • 3篇西南交通大学
  • 3篇山东大学
  • 2篇长春理工大学
  • 2篇东南大学
  • 2篇北京有色金属...
  • 2篇青岛大学

作者

  • 143篇马平
  • 137篇许乔
  • 69篇王健
  • 59篇鄢定尧
  • 57篇杨李茗
  • 55篇陈贤华
  • 54篇柴立群
  • 45篇杨春林
  • 44篇张清华
  • 43篇谢瑞清
  • 36篇胡建平
  • 35篇邱服民
  • 34篇徐建程
  • 32篇谢磊
  • 31篇陈松林
  • 31篇赵世杰
  • 30篇邓燕
  • 28篇廖德锋
  • 27篇赵恒
  • 27篇雷向阳

传媒

  • 96篇强激光与粒子...
  • 18篇光学学报
  • 17篇光学技术
  • 13篇光学精密工程
  • 13篇应用光学
  • 12篇激光杂志
  • 11篇红外与激光工...
  • 11篇光子学报
  • 9篇中国激光
  • 8篇光电工程
  • 7篇物理学报
  • 7篇光谱学与光谱...
  • 6篇激光与光电子...
  • 6篇光学与光电技...
  • 5篇激光技术
  • 5篇第十届全国光...
  • 4篇第四届全国光...
  • 4篇2011年第...
  • 3篇材料科学与工...
  • 3篇振动与冲击

年份

  • 3篇2023
  • 2篇2022
  • 5篇2021
  • 11篇2020
  • 22篇2019
  • 25篇2018
  • 23篇2017
  • 34篇2016
  • 29篇2015
  • 28篇2014
  • 33篇2013
  • 26篇2012
  • 38篇2011
  • 29篇2010
  • 15篇2009
  • 22篇2008
  • 12篇2007
  • 31篇2006
  • 28篇2005
  • 26篇2004
508 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
环摆抛双面抛光机
本实用新型公开了一种环摆抛双面抛光机,属于光学元件加工技术领域。它包括下盘、套圈、分离器、上盘和主臂,套圈与主动轮、限位轮外切,还包括辅机座和偏心轮,上盘的上端经主臂与辅机座连接,上盘上设有辅臂,辅臂外端与偏心轮连接,偏...
杨李茗鄢定尧刘民才何曼泽欧光亮王琳张珑雷华刘义彬刘夏来周佩璠蔡红梅胡江川张宁姜莉戴红岭
文献传递
光学元件超声清洗工艺研究被引量:7
2012年
系统开展了光学元件超声清洗工艺的实验研究。通过研究超声清洗剂、清洗温度等工艺参数的优化,找到了能够有效祛除元件表面无机污染物和有机污染物的较佳超声清洗工艺,且超声清洗没有对光学元件表面产生损伤,清洗后的光学元件接触角小于6°,并不残留大于1μm的颗粒,超声清洗对光学元件表面污染物的祛除能力远胜于手工清洗。
王刚马平邱服民胡江川鄢定尧
关键词:超声清洗接触角粗糙度
温度变化对谐衍射透镜性能的影响被引量:2
2005年
分析了温度变化对谐衍射透镜的焦距、谐振波长、衍射效率等性能的影响,建立了相应的数学表达式,并对其进行了数值模拟 提出了漂移函数的概念,以表征焦距和谐振波长随温度的变化程度 另外,还给出了各谐振级次的衍射效率随温度变化的相关规律 最后比较了在相位匹配数不同、但设计波长相同时,温度变化对衍射效率的影响,发现相位匹配数越大。
邢德财冯国英杨李茗周礼书
关键词:温度变化衍射效率
全口径抛光中抛光盘表面形状的修正方法及装置
本发明提供一种全口径抛光中抛光盘表面形状的修正方法及装置。全口径抛光中抛光盘表面形状的修正方法,该方法包括以下步骤:1)检测抛光盘的表面形状误差并确定修正装置的定点去除函数;2)设定覆盖整个抛光盘表面的修整路径;3)计算...
廖德锋张清华赵世杰谢瑞清陈贤华张浩宇钟波王健许乔
文献传递
用于背光照明的大口径连续相位板设计和制作
连续相位板是大型激光装置中用于控制光束形状、能量和波前分布的一种重要衍射光学元件。为改善聚焦光束的质量,建立了基于现有工艺的大口径连续相位板理论设计模型,优化了传统衍射元件设计算法。采用该算法设计了用于背光照明的Ф330...
温圣林侯晶杨春林颜浩石琦凯周礼书
关键词:惯性约束聚变
文献传递
平面摇摆式抛光去除模型研究被引量:1
2014年
为了完善平面摇摆式抛光的理论并指导加工,基于Preston方程建立了平面摇摆式加工的去除模型,并使用该模型在Matlab中仿真计算元件上各点在不同加工参数情况下的去除量,最终得到不同加工参数情况下所产生的不同去除形貌。通过控制不同参数在430mm×430mm平面石英元件上进行抛光实验,验证去除模型的正确性,对比相同参数下仿真得到的去除形貌和加工后检测得到的面形图可知该去除模型能够正确预测不同加工参数时的去除量,从而证实了该模型能够准确、有效地指导摇摆式抛光。
赵恒鄢定尧蔡红梅鲍振军
关键词:加工参数
抛光胶制备装置
本实用新型公开了一种抛光胶制备装置,属于光学加工技术领域。它包括桶体、桶内层及二者之间的保温层及上部的桶盖,桶体上部设有上支架,上支架上安装有电机、减速器及搅拌桨叶,桶体下部设有支撑脚,桶体底部设有出料管及出料阀;桶体中...
赵恒蔡超王刚马平鄢定尧谢磊何祥朱衡鲍振军
文献传递
基于覆盖折射率匹配层的偏振无关光栅及其制备方法
本发明公开了一种中心波长在近红外波段的高刻线密度、基于覆盖折射率匹配层的宽带偏振无关反射式介质光栅及其制备方法,涉及光学领域。所述光栅在熔石英衬底(1)上依次镀制有反射膜(2)和光栅功能层(3)。本发明提供的光栅结构针对...
张明骁马平卢忠文蒲云体乔曌吕亮邱服民
文献传递
光学元件磨削加工面形误差和平行度误差的控制装置
本实用新型提供一种大口径薄板光学元件磨削加工面形误差和平行度误差控制装置。光学元件磨削加工面形误差和平行度误差的控制装置,包括真空吸盘,所述真空吸盘上表面设置有均布的竖直向下的竖向吸附孔,且所述真空吸盘在横向和纵向设置有...
周炼张剑锋陈贤华张清华刘民才赵世杰谢瑞清王健
文献传递
超精抛光中边缘效应对材料去除量的影响被引量:6
2008年
传统环抛加工一般将工件整个包围在抛光盘内,加工之后虽然可以获得较好的工件表面,但是需耗费较多的时间,生产效率较低。针对这种情况,借助PPS快速抛光机床,依据Preston公式,对露出抛光盘的工件部分,即对所谓的边缘效应进行研究,用新的表面模型表示非线性压强分布,合理地避开了线性模型造成的压强负值问题。并且对工件材料去除量进行仿真计算,建立了新的去除模型,得出了偏心距、工件半径和抛光盘转速比值对材料去除量的影响。根据此模型,选择适当的偏心距和转速比对工件进行加工,可获得较好面型。
杨炜郭隐彪许乔李亚国
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