常超
- 作品数：17 被引量：50H指数：4
- 供职机构：中国科学技术大学化学与材料科学学院中国科学院结构分析重点实验室更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金中国科学技术大学青年基金安徽省自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术电子电信金属学及工艺更多>>
- 多孔硅银淀积表面RhB染料分子的表面增强Raman散射被引量：2
- 1999年
- 我们采用多孔硅和多孔硅银淀积表面作为衬底研究了ＲｈＢ染料分子的表面增强Ｒａｍａｎ散射。在多孔硅表面，ＲｈＢ染料分子的Ｒａｍａｎ散射有大约１０倍的表面增强效果；而在多孔硅的银淀积表面，表现出超过１０４表面增强。通过多孔硅表面银颗粒对ＲｈＢ染料分子荧光的抑制和对Ｒａｍａｎ散射的表面增强。
- 王冠中叶峰常超左键方容川
- 关键词：拉曼散射多孔硅
- 热丝CVD生长SiCN薄膜的研究被引量：17
- 2004年
- 在HFCVD系统中采用SiH4/CH4/H2/N2混合气体成功的制备了SiCN薄膜.SEM照片显示制备的SiCN薄膜由棒状结构构成,而在HRTEM下发现这些棒状结构是由生长在无定型SiCN基体当中的纳米晶粒组成的.进一步的SAED和XRD分析说明SiCN纳米晶粒具有类似于α-Si3N4的结构.XPS和FTIR分析表明薄膜中含有Si、C、N和O几种元素以及C=N、Si-N和C-N等共价键,但是并没有观察到C-Si的存在.由实验得出结论,SiCN晶体的生长包括两个步骤:α-Si3N4团簇的生长和C取代其中Si的过程.
- 牛晓滨廖源常超余庆选方容川
- 关键词：HFCVD化学气相沉积纳米晶粒薄膜生长
- 功能材料制备中的等离子体发光与过程选控
- 近代光电子和微电子等功能材料,主要是通过物理气相淀积(PVD)和化学气相淀积(CVD)等薄膜技术制备的。在PVD和CVD材料形成过程中,往往产生等离子体过程并伴随发光。通过对PVD和CVD过程等离子体发光的原位(in s...
- 方容川常超廖源崔景彪
- 文献传递
- 氮气氛下金刚石薄膜生长过程中的光发射谱研究被引量：4
- 2001年
- 利用原位光发射谱对衬底附近的化学气相性质进行了研究．研究表明，氮气的引入使得金刚石生长的气相化学和表面化学性质发生了很大变化．含氮基团的萃取作用提高了金刚石表面氢原子的脱附速率，从而提高了金刚石膜的生长速率．而含氮基团的选择吸附使金刚石（１００）取向变得化学糙化，这种化学糙化使得（１００）晶面生长速率远大于其它晶面，最终使金刚石薄膜呈现（１００）织构．还利用化学气相沉积方法研究了氮气浓度对金刚石生长的影响，结果与光发射谱分析是一致的．
- 李灿华廖源常超王冠中马玉蓉方容川
- 化学气相沉积法制备金刚石膜截面微区Raman分析被引量：13
- 1999年
- 采用微区Ｒａｍａｎ 散射分析方法研究化学气相沉积法制备的金刚石膜的横截面．金刚石膜从衬底面到生长面不同位置具有不同特征的Ｒａｍａｎ 谱，依此对膜中的金刚石、石墨和非晶碳成分进行分析．衬底面附近区域对应金刚石膜生长过程的成核阶段，非晶碳成分含量较高，相应于１２００ —１６００ ｃｍ － １ 波段较大的散射强度和存在较强的荧光背底．膜厚增大，非晶碳成分中ｓｐ３ 结构成分首先减少，而ｓｐ２ 结构成分和石墨成分的减少相对缓慢．而生长面附近区域只有比较单纯的晶体金刚石Ｒａｍａｎ 峰．激发光沿平行于金刚石膜面扫描所得到的Ｒａｍａｎ 谱。
- 王冠中叶峰常超章应辉方容川
- 关键词：化学气相沉积金刚石微区分析
- 一种激光打孔装置及其二步打孔方法
- 本发明涉及激光应用装置及激光加工技术。其装置包括一台长脉冲的长波长激光器和一台短脉冲的短波长激光器，两束相互垂直的激光交汇处设有一个与两束光轴线均成45°的透射/反射平面镜。在该镜输出光路上设有能沿光路方向移动位置的聚焦...
- 常超马玉蓉方容川吴气虹陈向力
- 文献传递
- 计算机编程控制HFCVD系统与金刚石薄膜及相关材料生长的研究
- 为了提高金刚石薄膜的质量和生长速率,该论文结合气相化学和表面化学模拟以及原位光发射谱诊断,把金刚石生长的传统C/H体系扩展到N/C/H体系,详细研究了生长气氛中加氮对金刚石的影响,并探讨了HFCVD系统中传热与传质的机制...
- 常超
- 关键词：金刚石薄膜
- 文献传递
- 多孔硅表面Ag层对吸附其上的若丹明B染料分子表面增强Raman散射的影响被引量：1
- 1999年
- 采用溶液电镀方法在多孔硅表面制备纳米尺寸的银颗粒， 测量了不同镀银多孔硅表面吸附的ＲｈＢ染料分子以及固态的ＲｈＢ染料的Ｒａｍ ａｎ 散射谱． 在相同的激发强度下， 固态ＲｈＢ染料的Ｒａｍ ａｎ 散射最弱， 而镀银的多孔硅表面具有明显的增强效果（～１０４）．
- 王冠中叶峰常超马玉蓉左键方容川
- 关键词：多孔硅染料分子拉曼散射
- 一种用于激光加工的光束旋转装置及其加工方法
- 本发明涉及用于激光加工的装置及其加工方法。该装置包括有光学镜、镜筒及其支承旋转装置,所述光学镜是平面透镜,在该镜的夹持架上设有两根同轴线的支承轴,构成平面透镜能环绕该支承轴转动一定角度的回转支承。其工作过程是,调节光束旋...
- 常超马玉蓉吴气虹揭建胜方容川陈向力
- 文献传递
- HFCVD金刚石膜过程的气氛模拟与分析被引量：2
- 2003年
- 对热丝法化学气相沉积金刚石膜过程的气氛进行了模拟与分析.使用GRI-Mech3.0甲烷燃烧过程C/H/O/N四元体系热化学反应机理和动力学数据,模拟并分析了HFCVD金刚石膜的C/H气相化学反应,通过对反应流的简单模拟得到了衬底位置气相组成,结果与前人实验数据吻合.探讨了灯丝温度、碳源浓度和碳源种类等因素变化对衬底位置气相组成的影响.结果表明甲基是金刚石膜生长最主要的前驱基团,其作用远高于乙炔,而超平衡态原子氢的存在对金刚石膜的质量至关重要.
- 戚学贵陈则韶常超王冠中廖源
- 关键词：HFCVD金刚石膜成膜过程
