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潘有桐

作品数：2 被引量：0H指数：0
供职机构：天津大学更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇中文专利

主题

  • 2篇电阻
  • 2篇电阻器
  • 2篇电阻温度系数
  • 2篇镀膜
  • 2篇镀膜工艺
  • 2篇射电
  • 2篇阻值
  • 2篇金属膜电阻器
  • 2篇溅射
  • 2篇溅射靶材
  • 2篇靶材
  • 2篇膜电阻器

机构

  • 2篇天津大学

作者

  • 2篇潘有桐
  • 2篇王秀宇
  • 2篇邹强
  • 2篇张之圣
  • 2篇潘有胜
  • 2篇白天
  • 2篇常力峰

年份

  • 1篇2010
  • 1篇2009
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
高稳定高精度高阻值金属膜电阻器及其溅射镀膜工艺方法
本发明涉及一种高稳定高精度高阻值金属膜电阻器及其溅射镀膜工艺方法。该金属膜电阻器的阻值100MΩ，精度0.5％，过载0.5％，电阻温度系数TCR50PPm/℃，它是在高阻溅射靶材上通过磁控溅射方法制备而成。具体工艺参数：...
张之圣王秀宇邹强白天潘有桐常力峰潘有胜
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高稳定高精度高阻值金属膜电阻器及其溅射镀膜工艺方法
本发明涉及一种高稳定高精度高阻值金属膜电阻器及其溅射镀膜工艺方法。该金属膜电阻器的阻值100MΩ，精度0.5％，过载0.5％，电阻温度系数TCR50PPm/℃，它是在高阻溅射靶材上通过磁控溅射方法制备而成。具体工艺参数：...
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