杨显万
- 作品数：204 被引量：1,202H指数：20
- 供职机构：昆明理工大学更多>>
- 发文基金：云南省自然科学基金国家自然科学基金云南省科技攻关计划更多>>
- 相关领域：冶金工程化学工程金属学及工艺一般工业技术更多>>
- 硅氟酸溶液中方铅矿的阳极氧化动力学研究被引量：3
- 2002年
- 用动电位扫描法测量不同条件下硅氟酸溶液中石墨电极上方铅矿的阳极氧化曲线 ,研究方铅矿的阳极氧化动力学。结果表明 ,方铅矿的阳极氧化曲线明显地分为 3段 ,氧化区di/dφ >0 ,传质区di/dφ=0 ,另一氧化过程 ,di/dφ >0。交换电流密度i0 随着温度的增加而增大 ,电化学传递系数 β的平均值为 0 16。搅拌速率、矿浆液固比对换电流密度i0
- 司云森杨显万
- 关键词：矿浆电解方铅矿阳极氧化电化学动力学
- 复合镀层中Ni_3C生成的热力学分析被引量：2
- 1999年
- 经研究表明,无论是否在镀液中添加含C物质,其镀层中总存在Ni_(?)相。文中绘制了Ni-C-H_2O系的电位-pH图,从热力学上分析了复合镀层中Ni_(?)C生成的原因。
- 邓纶浩文明芬杨显万
- 关键词：镀液热力学镀层复合镀层
- 逐级降电压法交流电沉积PD-NI 纳米线的研究
- 本文在传统的二次阳极氧化法制备多孔氧化铝模板的基础上，利用逐级降低电压的方法来减薄阻挡层，以利于交流电沉积制备PD-NI合金纳米线，简述了逐级降电压过程中电流和阻挡层随时间的变化关系。用扫描电子显微镜、透射电子显微镜和X...
- 徐明丽杨显万张正富
- 关键词：阳极氧化铝模板纳米线
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- 等离子体活化烧结材料新工艺
- 等离子体活化烧结材料新工艺,一种粉末冶金材料制备、加工工艺。烧结过程在一等离子体活化烧结炉中进行,分四个阶段完成:(1)对材料略加同轴向压力;(2)保持恒定压力,并加脉冲电压产生等离子体,对粉末颗粒表面进行活化;(3)关...
- 彭金辉张世敏马骏骑张利波杨显万华一新朱祖泽何蔼平王华李荣兴
- 文献传递
- 多金属硫化矿浮选精矿加压酸浸研究被引量：17
- 2006年
- 研究了多金属硫化矿浮选精矿加压酸浸过程及各种因素对浸出的影响。研究结果表明:在不苛刻的条件下经加压酸浸,多金属硫化精矿中锌浸出率可达99%以上,铜浸出率可达90%以上,而铅、银则98%以上进入浸出渣,元素硫产出率约70%。
- 谢克强杨显万舒毓璋沈庆峰金炳界
- 关键词：加压酸浸锌铅浸出率
- 云南镇沅县载金黄铁矿的生物氧化——氰化浸金研究
- 1992年
- 本论文研究了在用常规氰化提金以前,用氧化亚铁硫杆菌在改进的qk~*介质中预处理载金难浸黄铁矿的可行性。试验结果表明:细菌氧化该矿,如果铁的氧化率达到67.02％,则氰化浸出生物氧化滤渣的金浸出率为86.86％,而直接氰化浸出的金浸出率仅为12.46％。
- 余忠清杨显万张玲琪
- 关键词：生物氧化黄铁矿浸出
- 化学镀Ni-W-B非晶质电阻膜的研究被引量：1
- 1996年
- 研究了化学懂Ni-W－B合金的工艺及性能．结果表明，在Ni-B槽液中加入一定量的钨酸钠溶液，不仅能得到含钨、硼的镀层，而且还能提高镀液的沉积速度；Ni-W-B合金层在镀态时为非晶态结构，它的电阻率随钨含量的增加而增大，随镀层厚度的增加而降低．
- 郭忠诚杨显万刘鸿康王志英王敏
- 关键词：化学镀镍合金
- 低品位氧化锌粉矿制粒及碱性浸出被引量：7
- 2008年
- 小于2mm的氧化锌矿（含锌5．17％）与5％的水泥混合，制粒并固化，所得颗粒直径5～8mm。固化3天、10天、45天的颗粒用碱性溶液浸出，最大浸出率分别为92．2％、87．3％、72．9％。减少固化时间能够缩短反应时间、增加颗粒中锌的溶解以及减少浸出剂中初始锌浓度的影响。实验表明颗粒最少需固化3天。动力学研究表明浸出过程受浸出剂通过脉石层的扩散控制，表观速率常数分别为3．51×10^-2 d^-1、8．09×10^-3d^-1和4．74×10^-3d^-1。
- 冯林永杨显万沈庆峰金炳届徐明丽
- 关键词：制粒氨浸氧化锌矿柱浸
- 气体扩散阳极在湿法冶金上的应用被引量：2
- 2008年
- 介绍气体扩散阳极(氢扩散阳极)在湿法冶金上的节能降耗原理。用气体扩散阳极代替普通阳极将降低大于50%的槽电压,降低50%左右的能耗。同时介绍氢扩散阳极的结构与制备、氢气的制备。展望氢扩散阳极的在冶金上的应用前景。
- 金炳界杨显万沈庆峰冯林永
- 关键词：冶金技术湿法冶金节能降耗
- 从氧化锌矿浸出渣中回收锌被引量：2
- 2009年
- 低品位氧化锌矿酸浸后,浸出渣中夹带3%以上的锌,采用水洗一P204萃取可回收酸浸渣中的水溶性锌,得到的反萃液经过净化后可电积沉锌。该工艺可与湿法炼锌工艺相结合处理低品位氧化锌矿。
- 沈庆峰杨显万舒毓璋谢克强童晓忠杨桂芬
- 关键词：氧化锌矿低品位溶剂萃取浸出
