王阳
- 作品数：117 被引量：73H指数：6
- 供职机构：中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金中国科学院知识创新工程重要方向项目国家重点基础研究发展计划更多>>
- 相关领域：理学电子电信化学工程机械工程更多>>
- 蓝绿光高密度光盘存储材料研究
- 干福熹顾冬红侯立松王阳陈忠裕施宏仁尹津龙
- 开发蓝绿光波段的新型短波长存储器件（如高密度数字多用光盘HD DVD）和相应的存储介质是当前发展高密度光盘存储技术的关键。基于“蓝绿光高密度光盘存储材料研究”国家自然科学基金重点项目所取得的重要进展及成果，本文论述了多种...
- 关键词：
- 关键词：蓝绿光
- 超分辨近场结构光刻技术被引量：2
- 2003年
- 介绍了一种新的近场光刻技术的基本原理及其在光刻方面的应用研究的最新进展。新技术的基本原理是:光远场照射,通过超分辨掩模产生光刻所需的超过衍射极限的近场光,利用夹在掩模和光刻胶中间的电介质保护层实现了近场光的最佳耦合,减小了线宽并大大提高了光刻速度。这种膜层结构叫超分辨近场结构(Super-RENS),是近年来发展起来的一种新的近场光学技术。
- 张锋王阳徐文东
- 关键词：光刻技术超分辨线宽远场结构光衍射极限
- 同步摄像照明系统
- 一种同步摄像照明系统，包括光源、摄像照明头和信息处理三部分，其特点是采用圆柱带孔反射镜实现了照明光轴与摄像光轴同轴，摄像光路中无反射镜和分光镜，由电荷耦合器件感光平面将光信号转变成电信号，便于后续处理，本实用新型具有结构...
- 徐文东高秀敏干福熹王阳周飞张锋魏劲松
- 文献传递
- 光刻用硫化物半导体掩膜
- 一种光刻用硫化物半导体掩膜，其特征在于所述的硫化物半导体掩膜的材料为碲化锗，锗锑碲，银铟锑碲，碲化锑或锑。本发明硫化物半导体掩膜材料由于材料的三阶非线性效应，能大大减小光斑或者刻蚀线宽，刻蚀点或刻蚀线宽是光斑衍射极限的1...
- 张锋徐文东王阳干福熹杨金涛高秀敏周飞
- 文献传递
- 新型可溶性亚酞菁旋涂薄膜的光学常数被引量：3
- 2002年
- 通过旋涂法在单晶硅片上制备了一种新型可溶性亚酞菁 (三新戊氧基溴硼亚酞菁 )薄膜。利用全自动椭圆偏振光谱仪研究了该薄膜的椭偏光谱 ,测量了其复折射率、复介电函数和吸收系数 。
- 王阳干福熹
- 关键词：光学常数
- 半金属锑薄膜中电子动力学研究
- 2009年
- 采用时间分辨抽运-探测透射光谱,研究了不同波长和不同激发流密度下半金属Sb薄膜的超快电子动力学过程.透射变化率的时间延迟扫描曲线显示在延迟零点附近出现强的振荡,正的吸收饱和峰在亚皮秒时间内衰减为负的吸收增强峰.之后,负的吸收增强峰在数皮秒时间内甚至再次演变为吸收饱和.正饱和峰和负吸收峰幅度正比于激发流密度和光波长.对这些现象进行了分析,引入"缺陷"态模型及考虑"缺陷"态对光激发电子的快速俘获和逐渐释放,能够合理、半定量地解释实验观察到的所有现象.
- 陈宇辉王阳左方圆赖天树吴谊群
- 关键词：半金属电子动力学
- 一种具有多级调控功能的薄膜结构
- 本发明涉及一种具有多级调控功能的薄膜结构，该结构是相变材料(PCM)和金属‑绝缘体材料(MIT)结合的新型薄膜结构。具有两种材料各自独立的光学特性，随温度变化产生四次调控的特点。利用激光加热或退火加热，随着温度的升高，M...
- 孟云魏劲松王阳
- 文献传递
- 含非线性掩膜层的超分辨结构
- 一种用于只读式光盘的含非线性掩膜层的超分辨结构，依次是保护层、非线性反射膜和保护层，其特点是所述的保护层均由配比为硫化锌∶二氧化硅＝80∶20复合材料组成；所述的非线性掩膜层由银铟锑碲(Ag<Sub>11</Sub>In...
- 张锋施宏仁徐文东王阳杨金涛高秀敏周飞干福熹
- 文献传递
- 亚酞菁薄膜的折射率和吸收特性被引量：8
- 2001年
- 通过真空镀膜法在单晶硅片上制备了一种新的亚酞菁 (三硝基溴硼亚酞菁 )薄膜。利用全自动椭圆偏振光谱仪研究了该薄膜的椭偏光谱 ,测量了其复折射率、复介电常数和吸收系数 ,估算了薄膜在窗口区域的俘获能级并对其吸收谱的成因作了分析。
- 王阳顾冬红干福熹
- 关键词：椭偏光谱折射率真空镀膜单晶硅复介电常数
- 相变薄膜微区光谱测量装置和测量方法
- 一种相变薄膜微区光谱测量装置和测量方法，该装置由光源、光阑、斩光器、第二半反半透镜、第三半反半透镜、物镜、成像透镜、第一透镜、第一光谱仪、第一光电探测器、锁相放大器、第二光电探测器、第二光谱仪、第二透镜、第三透镜、声光器...
- 翟凤潇魏劲松王阳吴谊群
- 文献传递
