付杰
- 作品数：9 被引量：35H指数：3
- 供职机构：南京航空航天大学更多>>
- 发文基金：江苏省自然科学基金国家自然科学基金中央高校基本科研业务费专项资金更多>>
- 相关领域：金属学及工艺化学工程更多>>
- 一种磨粒/氧化铝核壳结构的复合磨粒及其制备方法和应用
- 本发明公开了一种磨粒/氧化铝核壳结构的复合磨粒及其制备方法和应用。一种磨粒/氧化铝核壳结构的复合磨粒，该复合磨粒内核选自作为磨粒的金刚石、碳化物等，外壳为氧化铝包覆层。制备时，首先将预处理后粉体加入到一定pH值的缓冲液中...
- 朱永伟刘蕴锋李军唐晓骁李标付杰墨洪磊左敦稳
- 文献传递
- 一种磨粒/氧化镍核壳结构的复合磨粒及其制备方法和应用
- 本发明公开了一种磨粒/氧化镍核壳结构的复合磨粒及其制备方法和应用。该复合磨料内核为金刚石或碳化硼、碳化硅等，外壳为氧化镍包覆层。制备时，首先将预处理后磨料粉体加入到一定pH值的缓冲液中，超声分散1h后，升温至50～80℃...
- 朱永伟唐晓骁墨洪磊刘蕴锋李军李标付杰左敦稳
- 文献传递
- 固结磨料研磨抛光垫磨粒保持性能研究
- 磨粒与粘结剂之间的结合力对固结磨料研磨抛光垫（fixed abrasives pad,FAP）的加工性能有重要影响，本文从磨粒表面改性和材料特性两个方面研究了其对FAP的磨粒保持性能和自修正性能的影响，设计了一种数字图像...
- 付杰
- 关键词：表面改性
- 文献传递
- 材料特性对亲水性固结磨料研磨垫加工性能的影响被引量：14
- 2013年
- 为研究材料特性对亲水性固结磨料研磨垫的加工性能影响,本文研究了K9玻璃和硅片两种材料在不同加工顺序下研磨过程中的声发射信号和摩擦系数特征,采用扫描电镜分析磨屑的尺寸与形态.结果表明:不同加工顺序下工件的材料去除速率差别很大.与直接研磨硅片相比,先研磨K9玻璃再研磨硅片,硅片的材料去除速率大幅下降;相反,先研磨硅片再研磨K9玻璃,与直接研磨K9玻璃相比,K9玻璃的材料去除速率变化不大.无论采用哪种加工顺序,后研磨的工件表面粗糙度均比直接研磨的同种工件要大.扫描电镜的分析表明,硅片的磨屑尺寸集中在600 nm^1.5μm,磨屑大部分都棱角完整;而K9玻璃的磨屑尺寸集中在300 nm^500 nm左右,无明显棱角.硅片磨屑较大的尺寸与完整的棱角促进了研磨垫的自修正过程,所以硅片这类脆性较大的材料有利于研磨垫的自修正过程.
- 朱永伟付杰居志兰唐晓骁李军
- 关键词：材料特性表面粗糙度自修正
- 一种磨粒/氧化镍核壳结构的复合磨粒及其制备方法和应用
- 本发明公开了一种磨粒/氧化镍核壳结构的复合磨粒及其制备方法和应用。该复合磨料内核为金刚石或碳化硼、碳化硅等，外壳为氧化镍包覆层。制备时，首先将预处理后磨料粉体加入到一定pH值的缓冲液中，超声分散1h后，升温至50～80℃...
- 朱永伟唐晓骁墨洪磊刘蕴锋李军李标付杰左敦稳
- 氧化镍镀覆金刚石对固结磨料研磨垫加工性能影响被引量：1
- 2012年
- 黏结剂把持磨粒的能力对固结磨料研磨垫的加工性能有重要影响。选择K9玻璃作为加工对象、不饱和树脂作为黏结剂,通过沉积法在金刚石表面镀覆一层氧化镍改善金刚石与树脂的结合性能,研究了镀覆后金刚石的形貌和热处理工艺,及其对固结磨料研磨垫加工性能的影响。研究表明:镀覆量达到30%,氧化镍镀覆金刚石的热处理工艺为3 h/450℃+5 h/500℃时,能够提高固结磨料研磨垫25%的材料去除速率。
- 付杰朱永伟刘蕴峰墨洪磊顾勇兵
- 关键词：表面粗糙度
- 固结磨料研磨K9玻璃的工艺优化被引量：11
- 2012年
- 固结磨料研磨工艺具有高加工效率及清洁加工等突出优点。采用正交实验法,研究了转速比、研磨压力、研磨液流量等参数对固结磨料研磨K9玻璃的材料去除率和三维轮廓表面粗糙度Sa的影响。结果表明:研磨的最佳工艺参数组合为:转速比为145/150,研磨压力为0.055 MPa,研磨液流量为60mL/min。在该工艺参数组合下,材料去除速率达到3186 nm/min,Sa值达到19.6 nm。
- 墨洪磊朱永伟唐晓潇付杰
- 关键词：研磨材料去除率表面粗糙度工艺参数
- 一种磨粒/氧化铝核壳结构的复合磨粒及其制备方法和应用
- 本发明公开了一种磨粒/氧化铝核壳结构的复合磨粒及其制备方法和应用。一种磨粒/氧化铝核壳结构的复合磨粒，该复合磨粒内核选自作为磨粒的金刚石、碳化物等，外壳为氧化铝包覆层。制备时，首先将预处理后粉体加入到一定pH值的缓冲液中...
- 朱永伟刘蕴锋李军唐晓骁李标付杰墨洪磊左敦稳
- 铜粉含量对亲水性固结磨料抛光垫加工性能的影响研究被引量：9
- 2012年
- 通过向亲水性固结磨料抛光垫中添加铜粉,改善抛光垫的抛光性能,研究铜粉添加量对抛光垫的理化特性及加工K9光学玻璃的材料去除率和工件表面质量的影响。结果表明:随着铜粉添加比例的增加,抛光垫的硬度增加,其材料去除速率呈现先增大后减小的趋势,当铜粉质量分数为5%时,抛光垫的材料去除速率达到最大值58.18 nm/min。同时加工后K9玻璃表面粗糙度也对应地呈现出先增大后减小的趋势,粗糙度Sa最大值为9.28 nm,最小值为2.53 nm。
- 唐晓骁朱永伟付杰王成居志兰
- 关键词：铜粉材料去除率表面粗糙度
