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冯叶

作品数:4 被引量:2H指数:1
供职机构:中国科学技术大学物理学院物理系更多>>
发文基金:安徽省自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信一般工业技术理学更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 2篇会议论文

领域

  • 2篇电子电信
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 2篇XRD
  • 2篇GA
  • 1篇散射
  • 1篇晶格
  • 1篇晶格振动
  • 1篇RAMAN
  • 1篇RAMAN散...
  • 1篇CU

机构

  • 4篇中国科学技术...

作者

  • 4篇冯叶
  • 4篇徐军
  • 4篇杨晓杰
  • 4篇徐传明
  • 4篇黄文浩
  • 3篇谢家纯
  • 2篇刘洪图
  • 1篇党学明
  • 1篇左健

传媒

  • 1篇Journa...
  • 1篇真空科学与技...
  • 1篇全国薄膜技术...

年份

  • 2篇2006
  • 1篇2004
  • 1篇2003
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
Cu(In,Ga)3Se5薄膜的结构及其缺陷研究
讨论了Ga含量对四元有序缺陷化合物Cu(In,Ga)3Se5薄膜结构的影响。Ga含量的增加引起晶格扭曲系数η近似按抛物线形式增加,而其晶格常数a与c呈线性减小趋势,同时(112),(220)/(204)等主衍射峰的位置和...
徐传明许小亮谢家纯徐军杨晓杰冯叶黄文浩刘洪图
关键词:XRD
Cu(In,Ga)3Se5薄膜的结构及其缺陷研究
黄铜矿结构Cu(In,Ga)Se薄膜半导体材料由于较高的可见光吸收系数、稳定性能和禁带宽度接近理想带隙等诸多优点,已成为高效率光伏器件的候选材料之一。然而薄膜表层存在的类黄铜矿结构β-Cu(InGa)Se有序缺陷他合物相...
徐传明许小亮谢家纯徐军杨晓杰冯叶黄文浩刘洪图
Cu(In,Ga)_3Se_5薄膜结构的Raman研究被引量:2
2004年
讨论了 Ga含量对四元有序缺陷化合物 Cu(In,Ga) 3Se5薄膜的晶格振动模式的影响 ,室温下 Cu In3Se5与 Cu-Ga3Se5A1 模式峰位分别位于 15 3cm- 1 和 16 4 cm- 1 ,Ga含量的增加引起晶格扭曲系数以及阴离子 Se位移参数的增加 ,相应改变了 Cu- Se以及 In/ Ga- Se的键长及其键拉伸力学常数 ,从而影响了 A1
徐传明许小亮徐军杨晓杰左健党学明冯叶黄文浩刘洪图
关键词:晶格振动RAMAN散射
Cu(In,Ga)3Se5薄膜的结构及其缺陷研究
2006年
讨论了Ga含量对四元有序缺陷化合物Cu(In,Ga)3Se5薄膜结构的影响.Ga含量的增加引起晶格扭曲系数η近似按抛物线形式增加,而其晶格常数a与c呈线性减小趋势,同时(112),(220)/(204)等主衍射峰的位置和强度呈现显著的改变.而样品厚度的改变会导致薄膜中存在不同的内应力,最终对薄膜的结构产生了显著影响.
徐传明许小亮谢家纯徐军杨晓杰冯叶黄文浩刘洪图
关键词:XRD
共1页<1>
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